目录 1
第一章 高纯水制造系统及其管理 1
1.1 半导体工业用高纯水的分类及其测量方法 1
1.1.1 电子工业对高纯水水质的要求 1
1.1.2 电子工业用高纯水的基本指标 2
1.1.3 电子工业用高纯水测量结果举例 22
1.2 高纯水系统的基本设计 25
1.2.1 反渗透法、超滤法的应用 25
1.2.2 主要的组成部分 35
1.2.3 终端处理系统（即二次纯水系统） 55
1.2.4 分解为并联系列（备用系列）的考虑 64
1.2.5 经济核算 68
参考文献 69
1.3 微粒子及微生物的去除 70
1.3.1 微粒子及微生物在高纯水装置中的行为 71
1.3.2 微生物杀菌法及其效果 79
参考文献 83
1.4 选材、施工上的注意事项 83
1.4.1 选材上应注意的问题 84
4.1.2 污染管理与MF 1 85
1.5 运转管理上应注意的问题 88
1.5.1 原水及前处理设备的管理 88
1.4.2 施工时应注意的问题 88
1.5.2 RO装置的管理 89
1.5.3 对微生物污染的控制管理 93
1.5.4 今后的电子工业与高纯水 94
第二章 半导体工厂中的废水处理及其管理 95
2.1 半导体工厂中的废水及其基本处理方法 95
2.1.1 半导体工厂中的废水的基本性质 95
2.1.2 水处理设备及应注意事项 101
2.1.3 基本的处理方法 103
2.1.4 封闭系统处理方式 112
2.2.1 从氢氟酸类废水中回收水 119
2.2 废水回收的具体方法 119
参考文献 119
2.2.2 从酸、碱废水中回收水 127
2.2.3 从有机类废水中回收水 129
2.3 封闭系统及其动向 136
2.3.1 封闭系统的计划要点 137
2.3.2 封闭化的具体含义和内容 140
第三章 半导体工厂排出的有害气体的处理 143
3.1 有害气体处理的基本方法 143
3.1.1 总体方案的确定 143
3.1.2 有关的法规及标准 144
3.1.3 决定总体方案的要点 144
3.2 一般的处理方法 146
3.2.1 处理装置的选定 146
3.2.2 处理系统的一般组成 175
3.2.3 其它 179
3.2.4 运行实例 180
第四章 半导体工业对精密过滤膜的要求及其使用 185
4.1 前言 185
4.1.1 电子工业的高速发展及其相关的新技术 185
4.2 精密过滤膜的研制及其除菌性和除粒子性 187
4.2.1 精密过滤分离机理及各种分离技术 187
4.1.3 MF的开发 187
4.2.2 灭菌法及过滤除菌 189
4.2.3 制造精密过滤膜MF的原材料 192
4.2.4 精密过滤膜的制备方法 192
4.2.5 用于大量精密过滤中的微孔膜过滤筒的研制 200
4.3 精密过滤膜的孔特性与质量评价 202
4.3.1 用精密过滤膜测量孔径等 202
4.3.2 过滤筒及除菌性 207
4.3.3 关于除菌性的若干问题 211
4.3.4 关于透过理论 217
4.4.1 从滤材上的溶出或脱落 221
4.4.2 和预过滤同时并用 221
4.4 使用精密滤膜的几点注意事项 221
4.4.3 关于流速选择 222
4.4.4 关于配套管路等 223
4.5 精密过滤在电子工业中的应用 224
4.5.1 使用方法 224
4.5.2 微生物、微粒的检出方法 225
4.6 精密过滤在药品、气体过滤中的应用 232
4.6.1 光致抗蚀剂中污染粒子的去除 232
4.6.2 溶剂及酸等处理用药品中污染粒子的去除 233
4.7.1 高纯水制备系统的发展及微生物和微粒子的污染问题 234
4.7 精密过滤在高纯水制备系统中的应用 234
4.6.3 空气和气体的滤清（净化） 234
4.7.2 微生物的存在及污染 235
4.7.3 微粒的存在与污染 238
4.7.4 对微生物及微粒污染的对策 243
4.8 高纯水制备系统运转管理情况举例 246
4.8.1 实际运转的情况 246
4.8.2 压差的上升与除菌性 247
4.8.3 滤材与在出水口杀菌的必要性 249
4.8.4 UV的杀菌效果 250
4.8.5 使用寿命、电导率的恢复 251
参考文献 253