第1章 热辐射特性及其定律 1
1.1热辐射基本概念 1
1.2黑体辐射的基本定律 6
1.2.1普朗克定律及维恩位移定律 6
1.2.2斯特藩-玻尔兹曼定律 8
1.2.3兰贝特定律 11
1.3实际物体的辐射特性 12
1.3.1发射率与实际物体辐射 12
1.3.2基尔霍夫定律 15
1.4太阳辐射及其度量 16
1.4.1太阳辐射能量 16
1.4.2地球大气层上界的太阳辐射 17
1.4.3地球表面的太阳辐射 20
1.4.4大气质量AM1.5和AM0的辐照度 23
第2章 太阳光谱选择性吸收膜系光学基础 26
2.1薄膜的光学参数及光学定律 26
2.1.1薄膜的光学常数 26
2.1.2光的反射、折射及菲涅耳公式 28
2.2薄膜的干涉效应 31
2.3介质膜的反射特性 37
2.3.1单层介质膜的反射 37
2.3.2多层介质膜系的反射 40
第3章 太阳光谱选择性吸收表面原理 44
3.1太阳光谱选择性吸收表面工作原理 47
3.2太阳光谱选择性吸收表面材料能带理论基础 49
3.3典型太阳光谱选择性吸收表面机理 55
3.3.1本征吸收选择性吸收表面 55
3.3.2半导体吸收-金属反射串列组合 56
3.3.3微不平表面 59
3.3.4半透明电介质-金属干涉叠层表面 61
3.3.5电介质-金属复合材料选择性吸收表面 65
第4章 多层渐变选择性吸收膜系设计 67
4.1多层渐变选择性吸收膜系模型的建立 67
4.2电介质-金属的复合理论——等效媒质理论 70
4.3单层薄膜光学常数的确定 83
4.3.1 Hadley方程 84
4.3.2用Hadley方程反演计算确定n（λ）和k（λ） 84
4.4减反射膜的设计 87
4.4.1减反射膜的设计原理 88
4.4.2减反射膜层的设计 91
4.4.3电介质-金属选择性吸收膜系的减反层 96
4.5多层渐变选择性吸收膜系的理论设计 104
4.5.1多层渐变选择性吸收膜系层数的优化设计 109
4.5.2选择性吸收膜系填充因子优化 123
4.5.3选择性吸收膜系中各层厚度的设计 135
第5章 选择性吸收膜系的制备 148
5.1选择性吸收膜系的制备技术 148
5.1.1概述 148
5.1.2溅射沉积技术的基本原理 153
5.1.3溅射沉积技术 168
5.1.4特殊溅射沉积技术 182
5.2选择性吸收膜系的制备 197
5.2.1概述 197
5.2.2选择性吸收膜系的制备及调整 199
第6章 选择性吸收膜系的热稳定性 216
6.1真空烘烤对膜系性能的影响 216
6.1.1不同膜系的热处理 216
6.1.2膜系性能与烘烤条件的关系 222
6.2 （Ti， Al）N-TiAl复合膜系大气下的热稳定性 225
第7章 太阳光谱选择性吸收表面（膜系）及制品的热性能测评 229
7.1选择性吸收膜系发射率测量技术 229
7.1.1稳态量热计法半球发射率测量 229
7.1.2选择性吸收膜系高温发射率测量 231
7.1.3法向发射率的测量 237
7.1.4集热管发射率测量 240
7.2太阳吸收比测评技术 248
7.2.1概述 248
7.2.2积分球工作原理 248
7.2.3反射比测量用积分球 250
7.2.4太阳光谱反射比测量 252
7.2.5太阳光谱分段反射比测量 259
7.2.6积分太阳反射比测量 263
7.3全玻璃真空集热管热性能测评 264
7.3.1空晒性能参数测评 264
7.3.2闷晒太阳辐照量 266
7.3.3平均热损系数 267
参考文献 269