上篇 TFT-LCD技术基础 1
第1章 TFT-LCD的结构及其产品应用 1
1.1 液晶显示技术的发展历程 1
1.2 TFT-LCD的原理与结构介绍 1
1.3 主要零组件介绍 2
1.3.1 玻璃 2
1.3.2 彩色滤光片 8
1.3.3 偏振片 12
1.3.4 驱动与控制IC 15
1.3.5 背光源 18
1.4 TFT-LCD产品应用 19
1.4.1 便携式移动产品 19
1.4.2 桌面显示器 20
1.4.3 电视机 20
1.4.4 特殊工业、航空、医疗用途 20
1.4.5 公共显示领域 21
参考文献 21
第2章 TFT-LCD制造工艺过程 22
2.1 TFT-LCD制备工艺流程综述 22
2.2 TFT阵列工艺及设备 23
2.2.1 有源矩阵显示器件简介 23
2.2.2 a-Si∶H TFT器件结构及工艺流程简介 25
2.2.3 TFT阵列工艺及设备 31
2.3 成盒工艺 70
2.3.1 LC CELL的结构及CELL工艺流程综述 70
2.3.2 主要成盒工艺介绍 71
2.4 模块工艺流程 79
2.4.1 模块的结构及工艺流程综述 79
2.4.2 偏振片贴覆工程 80
2.4.3 ACF贴覆工艺 81
2.4.4 TCP和PCB连接工艺 81
2.4.5 TFT-LCD模块引线连接技术 83
参考文献 84
第3章 TFT-LCD产品性能及其测试方法 86
3.1 产品性能测试基础 86
3.2 分辨率 88
3.3 亮度与亮度均匀性 88
3.4 对比度及对比度均匀性 89
3.4.1 对比度及对比度均匀性测量 90
3.4.2 对比度的影响因素和提高方法 90
3.5 响应时间 91
3.5.1 响应时间介绍 91
3.5.2 灰阶响应时间 92
3.5.3 如何提高TFT-LCD的响应速度 93
3.5.4 移动图像响应速度 95
3.6 可视角度范围 97
3.6.1 视角的测量方法 98
3.6.2 宽视角技术 99
3.7 色再现性 104
3.7.1 定义 104
3.7.2 色再现性测量方法 106
3.8 功率消耗 107
3.9 串扰 108
3.10 闪烁 109
3.11 视觉检查项目 110
3.11.1 残像 111
3.11.2 与显示图像信息不直接相关的视觉检查项目 112
3.12 可靠性测试 116
3.13 测试方法的标准化情况 116
参考文献 117
下篇 平板显示技术发展 119
引子 119
第4章 低温多晶硅技术 121
4.1 p-Si TFT技术简介 121
4.1.1 像素驱动用p-Si TFT器件结构及其特点 122
4.1.2 周边驱动p-Si TFT结构和特点 123
4.1.3 p-Si TFT-LCD 123
4.2 p-Si材料及其制备方法 124
4.2.1 金属诱导法制备多晶硅薄膜 125
4.2.2 激光退火制备多晶硅 127
4.2.3 p-Si的霍尔迁移率测量及测量原理 133
4.3 p-Si TFT及其器件特性 135
4.3.1 多晶硅TFT的电学特性 135
4.3.2 p-Si TFT-LCD器件特性 140
参考文献 143
第5章 LCD背光技术发展 146
5.1 LCD背光技术 146
5.1.1 背光源简介 146
5.1.2 背光源产业状况 147
5.1.3 背光源各结构和部件介绍 149
5.1.4 背光源光学设计 154
5.1.5 V-Cut导光板的设计 158
5.2 新型LCD背光源——LED背光源 159
5.2.1 冷阴极荧光管的缺点 159
5.2.2 LED简介 160
5.2.3 LED特性 164
5.2.4 LED驱动 169
5.2.5 LED背光设计案例 176
5.2.6 基于LED背光技术发展的新型液晶显示技术 187
参考文献 194
第6章 有机发光显示与柔性显示技术 196
6.1 有机发光二极管显示技术 196
6.1.1 OLED简介 196
6.1.2 OLED器件 197
6.1.3 OLED制备工艺 199
6.1.4 OLED像素及其驱动 201
6.1.5 OLED技术展望 203
6.2 柔性显示技术 203
6.2.1 柔性显示技术介绍 203
6.2.2 电子纸显示技术 204
参考文献 208
附录 缩略语中英文对照表 209