绪论 1
第一章 真空蒸镀和溅射的物理基础 4
§1.1真空 4
§1.2蒸发 7
§1.3蒸发的热力学基础 13
§1.4合金的蒸发 16
§1.5化合物的蒸发 18
§1.6蒸发的辐射分布 20
§1.7蒸发粒子向衬底表面的入射分布 24
§1.8溅射机理 26
§1.9单原子靶的溅射 29
§1.10合金及化合物靶的溅射 31
§1.11反应性溅射 33
第二章 化学气相淀积原理 37
§2.1CVD反应类型 37
§2.2CVD反应参量 42
§2.3CVD的薄膜生长过程 45
§2.4等离子体CVD原理 49
第三章 薄膜的形成 55
§3.1薄膜形成的大致过程 55
§3.2附着 56
§3.3核形成的界面能理论 60
§3.4聚团理论 65
§3.5薄膜形成的几率理论 68
§3.6优先核形成 73
§3.7核的形态 73
§3.8薄膜初期生长的类型 77
第四章 薄膜的结构 81
§4.1薄膜的结构 81
§4.2结晶薄膜中的点缺陷 82
§4.3结晶薄膜的位错 86
§4.4结晶薄膜的其它缺陷 91
§4.5非晶与异常结构薄膜 92
第五章 薄膜的力学性质 96
§5.1薄膜的附着 96
§5.2内应力 105
§5.3弹性与内耗 115
§5.4拉伸性质 119
第六章 金属薄膜的电导 121
§6.1不连续薄膜 121
§6.2连续薄膜 132
第七章 光学薄膜 147
§7.1基础理论 147
§7.2薄膜光学 153
§7.3连续薄膜的光学性质 160
§7.4岛状薄膜的光学性质 169
§7.5非均质透明薄膜 173
§7.6透明导电膜 175
第八章 半导体薄膜 181
§8.1半导体的特征长度与半导体薄膜的特性 181
§8.2多晶半导体薄膜 190
§8.3非晶半导体薄膜 196
第九章 磁性薄膜 198
§9.1薄膜的铁磁性 198
§9.2薄膜的磁各向异性 203
§9.3薄膜的磁畴与磁畴壁 209
§9.4薄膜的磁化过程 213
§9.5薄膜的磁共振 217
第十章 超导薄膜 222
§10.1超导 222
§10.2超导薄膜 231
§10.3隧道效应 234
§10.4约瑟夫逊效应 241
附表 245