目录 1
第一章 磁泡基础 1
1.1什么叫磁泡 1
1.2磁各向异性 3
1.3亚铁磁性与补偿温度 4
1.4稀土类铁石榴石的特征及磁性 8
1.5磁泡材料的霍尔效应和光克尔效应 12
1.5.1反常霍尔效应 12
1.5.2光克尔效应 14
1.5.3实验结果 15
1.5.4考察 18
1.5.5小结 19
1.6.1引言 20
1.6磁泡材料的磁光性质 20
1.6.2采用磁光手段对磁泡元件材料特性的评价法 21
1.6.3磁泡材料的吸收光谱 22
1.6.4磁泡材料的磁光旋转谱 24
1.6.5小结 28
参考文献 29
第二章 磁泡畴的物性 30
2.1磁泡畴静力学 30
2.1.1静力学概论 30
2.1.2垂直磁化膜和磁泡畴 31
2.1.3磁泡畴的数学表示 33
2.1.4磁泡的磁能及其变化 34
2.1.5磁泡稳定条件 38
2.1.6磁泡的驱动力 43
2.1.7硬泡 45
2.1.8半泡和它的稳定性 50
2.2.1畴壁平面的移动速度 52
2.2磁泡畴动力学 52
2.2.2磁泡畴动力学 67
参考文献 80
第三章 磁泡材料的特性 81
3.1磁泡材料的发展史 81
3.2材料特性要求 83
3.2.1必要条件 83
3.2.2希望条件 87
3.2.3各条件的要点 89
3.3正铁氧体及磁铅石 90
3.3.1物性简述 90
3.3.2磁泡 92
3.3.3特征 96
3.4.1物性简述 98
3.4石榴石 98
3.4.2块状单晶 100
3.4.3外延膜 108
3.4.4硬泡的抑制 123
3.5非晶材料 124
3.5.1物性简述 124
3.5.2特性 126
参考文献 128
第四章 磁泡材料的制法 132
4.1正铁氧体单晶的制法 132
4.1.1助熔剂法 132
4.1.2浮区熔法 135
4.1.3其它的制法 136
4.2.1助熔剂法 138
4.2石榴石单晶的制法 138
4.2.2液相外延生长法（LPE法） 139
4.2.3气相外延生长法（CVD法） 155
4.3特性的控制 162
4.3.1硬泡抑制法 162
4.3.2磁泡特性的精密控制 167
4.4基片单晶的制法 169
4.4.1基片的必要条件 169
4.4.2基片单晶的生长法 170
4.4.3基片单晶的质量 172
4.5单晶的加工技术 175
4.6非晶磁泡材料的制造方法 177
参考文献 180
第五章 材料特性的测定法 183
5.1晶格常数的测定法 184
5.2膜厚的测定法 185
5.3磁化强度和特征长度的测定法 186
5.4单轴各向异性常数Ku的测定法 188
5.5畴壁矫顽力Hc的测定法 190
5.6畴壁迁移率的测定法 192
5.7磁泡材料缺陷分布的测量 198
5.7.1对缺陷的规格要求 198
5.7.2缺陷分布图的测定法 198
5.8结晶特性的测定 208
参考文献 210
第六章 磁泡回路的制造技术 211
6.1引言 211
6.2磁泡器件的制造工艺 211
6.3.1光致抗蚀剂与光刻工艺 215
6.3各工序的说明 215
6.3.2电子束曝光 223
6.4磁泡制造中所用的其它曝光技术 224
6.4.1X射线蚀刻 225
6.4.2电子投影装置（ELIPS） 227
6.5小结 229
参考文献 229
第七章 磁泡的应用 230
7.1磁泡回路 230
7.1.1磁泡的传输 230
7.1.2磁泡的发生和消灭 240
7.1.3开关回路和门回路 243
7.1.4逻辑回路 245
7.1.5磁泡检测回路 250
7.1.6其它回路 254
7.2磁泡的应用 255
7.2.1磁泡应用回路的基础 255
7.2.2大容量存贮器 255
7.2.3单触拨号盘存贮器的应用 259
7.2.4泡点阵外存贮器 262
7.2.5由磁泡构成的全磁计算机 263
7.2.6显示器 265
7.2.7在信息处理方面的应用 266
7.2.8其它方面的应用 269
参考文献 271
第八章 与磁泡有关的专利资料 273
附录 341
附录一 磁泡技术词汇 341
附录二 人名英汉对照 349