第一章 引言和历史 1
第二章 无机玻璃和有机玻璃的成分、结构和性质 7
2.1 形成玻璃的无机材料 7
2.1.1 微晶理论 9
2.1.2 无规网络理论 9
2.1.3 相分离，脱玻作用 10
2.1.4 形成玻璃的有机材料 12
2.1.5 聚合物的结晶和无定形行为 13
2.2 无机玻璃和有机玻璃的热行为 13
2.4 无机玻璃和有机玻璃的化学性质 16
2.3 无机玻璃和有机玻璃的力学性质 16
2.5 电性质 18
2.6 光学性质 20
2.7 透紫外和红外的材料 23
2.8 光色玻璃 26
2.9 玻璃陶瓷 30
第三章 表面性质 35
3.1 表面的特性 35
3.1.1 表面结构 36
3.1.2 表面的化学成分 37
3.1.3 表面能 39
3.1.4 表面形貌 41
3.1.5 固体-气体及固体-固体间的相互作用 42
3.2 玻璃表面的制备 46
3.2.1 拉伸和浇铸 46
3.2.2 模压和造型 47
3.2.3 研磨和抛光 48
第四章 衬底表面的清洁处理 53
4.1 清洗方法 54
4.1.1 用溶剂清洗 54
4.1.1.1 擦洗和浸冼 55
4.1.1.2 蒸气脱脂 56
4.1.1.3 起声清洗 56
4.1.1.4 喷射清洗 57
4.1.2 加热和辐照清洗 58
4.1.3 剥去喷漆涂层清洗 59
4.1.4 放电清洗 59
4.1.5 清洗程序 61
4.1.6 有机玻璃的清洗 62
4.2 控制表面清洁程度的方法 62
4.3 清洁表面的保持 64
第五章 玻璃和薄膜 66
5.1 玻璃和薄膜之间的关系 66
5.2 衬底与膜之间的附着力 68
5.2.1 附着力的测量方法 70
5.2.1.1 力学方法 71
5.2.1.2 非力学方法 74
5.2.2 粘附的原因 76
5.2.2.1 界面层 76
5.2.2.2 键合类型 78
5.2.3 影响附着力的参量 80
5.2.3.1 涂层和衬底材料 80
5.2.3.2 衬底制备 80
5.2.3.3 镀膜方法的影响 81
5.2.3.4 老化 81
5.2.4.2 直接拉离方法 83
5.2.4.3 划痕方法 83
5.2.4.1 透明胶带试验 83
5.2.5 对附着力的最后说明 92
第六章 膜的制备方法 93
6.1 脱除方法 93
6.1.1 化学工艺 93
6.1.1.1 表面浸析 93
6.1.2 物理工艺 94
6.1.2.1 高能粒子轰击 94
6.2 附加方法 95
6.2.1 膜形成的化学工艺 96
6.2.1.1 从溶液中淀积金属膜 96
6.2.1.2.1.1 成膜，结构，光学和力学性质 98
6.2.1.2 从溶液中淀积氧化物膜 98
6.2.1.2.1.2 镀膜过程 112
6.2.1.2.2 旋转镀膜 117
6.2.1.3 从溶液中淀积有机膜 118
6.2.1.4 低温下化学蒸气淀积 120
6.2.1.4.1 大气压CVD和低压CVD 123
6.2.1.4.1.1 喷镀 123
6.2.1.4.1.2 大气压CVD 128
6.2.1.4.1.2.1 化合物膜 130
6.2.1.4.1.2.2 金属膜 133
6.2.1.4.1.3 低压CVD 137
6.2.1.4.2.1 等离子体活化CVD 138
6.2.1.4.2 等离子体活化CVD和光子活化CVD 138
6.2.1.4.2.2 光子活化CVD 142
6.2.1.5 物理蒸气淀积 143
6.2.1.5.1 真空技术 145
6.2.1.5.1.1 真空泵 148
6.2.1.5.1.1.1 机械排气泵 148
6.2.1.5.1.1.2 扩散泵 152
6.2.1.5.1.1.3 分子泵 155
6.2.1.5.1.1.4 低温泵 160
6.2.1.5.1.2 高真空工艺系统 162
6.2.1.5.2 在高真空中通过蒸发和凝结淀积膜 170
6.2.1.5.2.1 蒸发 173
6.2.1.5.2.2 蒸气原子的能量、速度和方向分布及薄膜厚度的均匀性 177
6.2.1.5.2.3 能量和质量的效率 191
6.2.1.5.2.4 蒸发技术 194
6.2.1.5.2.5 气化物质粒子越过还原气象传输 201
6.2.1.5.2.6 凝结和薄膜的形成 202
6.2.1.5.2.7 蒸发材料 205
6.2.1.5.2.8 蒸发设备 210
6.2.1.5.3 用阴极溅射法淀积薄膜 214
6.2.1.5.3.1 总的考虑 215
6.2.1.5.3.2 溅射阈值和溅射产额 222
6.2.1.5.3.3 其他粒子的溅出和射线的发射 227
6.2.1.5.3.5 表面膜中的蚀变、扩散和离解 228
6.2.1.5.3.4 离子注入 228
6.2.1.5.3.6 溅射率 229
6.2.1.5.3.7 粒子的速度和能量 230
6.2.1.5.3.8 角度分布 231
6.2.1.5.3.9 溅射材料的组成 231
6.2.1.5.3.10 气体放电 232
6.2.1.5.3.11 溅射中厚度均匀性和质量效率 244
6.2.1.5.3.12 溅射材料 247
6.2.1.5.3.13 溅射设备 248
6.2.1.5.3.14 蒸发与溅射的比较 250
6.2.1.5.4 用离子镀法淀积膜 250
6.2.1.5.4.1 离子镀的特性 252
6.2.1.5.4.2 离子镀的优点 254
6.2.1.5.4.3 离子镀的应用 257
6.2.1.5.5 反应淀积过程 261
6.2.1.5.5.1 一般考虑 261
6.2.1.5.5.2 反应蒸发 262
6.2.1.5.5.3 活化的反应蒸发 266
6.2.1.5.5.4 反应溅射 272
6.2.1.5.5.5 反应离子镀 273
6.2.1.5.6 等离子体聚合作用 275
第七章 膜的厚度 281
7.1 一般考虑 281
7.2.1 干涉方法 284
7.2 适用于所有类型薄膜的方法 284
7.2.2 探针方法 285
7.3 适用于PVD薄膜的方法 287
7.3.1 光反射和透射的测量 287
7.3.2 石英晶体振荡微量秤 290
7.3.3 采用质谱仪测量蒸气密度 298
7.4 监控技术的趋向 299
第八章 薄膜的性质 302
8.1 结构 302
8.2 微结构 313
8.3.1 表面分析 324
8.3 化学成分 324
8.3.2 深度剖面 327
8.4 力学性质 333
8.4.1 应力 334
8.4.2 硬度和磨损 345
8.4.3 密度 348
8.5 化学稳定性和环境的稳定性 350
8.6 薄膜的光学性质 351
8.7 电光材料及其性质 364
第九章 玻璃镀膜的应用 377
9.1 概论 377
9.2 光学膜系的计算 381
9.3 减反射镀层 385
9.3.1 单层减反射镀层 385
9.3.2 双层减反射镀层 388
9.3.3 多层减反射镀层 390
9.3.4 在倾斜入射下的减反射镀层 393
9.3.5 非均匀减反射镀层 394
9.3.6 减反射镀层的应用 395
9.4 背面镜、表面镜和分束镜 396
9.4.1 背面镜 396
9.4.2 金属膜表面镜 397
9.4.3 分束镜 402
9.4.4 中性密度滤光片 406
9.4.5 介质镜 408
9.4.6 冷光镜和透热镜 410
9.4.7 激光镀层 413
9.4.8 人造宝石 416
9.5 用滤光片分光 417
9.5.1 低通和高通边缘滤光片 418
9.5.2 带通干涉滤光片 423
9.5.2.1 窄带滤光片 423
9.5.2.2 宽带滤光片 427
9.6.1 护目镀层 428
9.6 吸收镀层 428
9.6.2 光掩模 429
9.6.3 刻度，标线片，孔径光阑 431
9.6.4 相位片 431
9.7 透明导电镀层 432
9.8 节能镀层 435
9.9 可焊接镀层 436
9.10 集成光学 437
9.10.1 集成光学部件 438
9.1O.2 现状和趋向 443
9.11 科学上的应用 446
参考文献 450