第一章 表面电子性质理论J．R．史密斯 2
1.1 简单例子：表面态、连续态和局域轨函数 2
1.2 电子功函数 6
1.3 杂质屏蔽——静态介电响应 17
1.4 表面态和表面等离子体激元 26
1.4.1 表面态 26
1.4.2 表面等离子体激元 32
1.5 局域态密度 36
1.6 动态评论 39
第二章 化学吸附理论S．K．莱昂和R.戈默 39
2.1 定性的讨论 41
2.2 纽恩斯－安德森模型 44
2.3 用完全的基矢集合重建理论公式 53
2.4 吸附物－吸附物间的相互作用 60
2.5 价－键（Schrieffer-Paulson-Gomer）计算法 61
2.6 线性响应（Kohn-Smith-Ying）方法 63
2.7 结束语 64
第三章 化学吸附：实验方面的情况L．D．施米特 64
3.1 清洁表面的结构 67
3.1.1 体心立方过渡金属 69
3.1.2 面心立方金属 70
3.1.3 半导体 71
3.1.4 绝缘体 72
3.2 吸附物的表征方法 72
3.2.1 衍射 73
3.2.2 动力学 74
3.2.3 俄歇电子能谱学（AES） 75
3.2.重其他技术 76
3.3 结晶各向异性 77
3.3.1 阶梯形表面 80
3.4 结合态 82
3.4.1 在钨上的氢 83
3.4.2 在钨上的一氧化碳 92
3.5 吸附物与吸附物间的相互作用 97
3.5.1 相互排斥作用 97
3.5.2 相互吸引作用和有序结构 100
3.5.3 二维相变 102
3.6 相似金属上的吸附 105
3.6.1 在W、Mo和Ta上的H2、N2和CO 105
3.6.3 面心立方和体心立方结构的衬底之间的比较 108
3.6.2 在Ni、Pd和Cu上的CO 108
3.7 小结 109
第四章 脱附现象D．南泽尔 109
4.1 热脱附 111
4.1.1 脱附机理和速率参数 111
4.1.2 热脱附的实验方法 114
4.1.3 热脱附测量的一些结果 127
4.1.4 热脱附理论 133
4.2 电子碰撞脱附 137
4.2.1 电子碰撞脱附的实验方法和数据的整理 138
4.2.2 实验结果 142
4.2.3 电子碰撞脱附理论 145
4.2.4 电子碰撞脱附在实用上的重要性 149
4.3 光致脱附 150
4.4 离子碰撞脱附 151
4.5 场致脱附 151
4.6 结论 153
第五章 光电发射和场致发射能谱学E．W．普卢默 153
5.1 场致发射和光电发射的初步讨论 155
5.1.1 场致发射 156
5.1.2 光电发射 159
5.2 测量方法 162
5.2.1 场致发射 162
5.2.2 清洁表面 163
5.3 吸附物覆盖的表面 170
5.3.1 隧道共振 170
5.3.2 非弹性隧道效应 174
5.3.3 多体效应和光助场致发射 176
5.4 光电发射 177
5.4.1 光电激发，主要涉及原子和分子 177
5.4.2 光电发射的截面 180
5.4.3 发射与角度的关系 186
5.4.4 松弛效应 189
5.4.5 体发射与表面发射 198
5.4.6 角分辨的表面发射 205
5.5 实验结果 210
5.5.1 清洁表面 210
5.5.2 对吸附的研究 218
第六章 低能电子衍射法和俄歇法E．鲍尔 218
6.1.1 弹性散射 245
6.1 慢电子与凝聚态物质的相互作用 245
6.1.2 非弹性散射 249
6.1.3 准弹性散射 252
6.1.4 散射过程产生的结果 254
6.2 低能电子衍射 255
6.2.1 实验方法 255
6.2.2 理论方法 257
6.2.3 结果 267
6.2.4 特殊的研究课题 275
6.3 俄歇电子方法 277
6.3.1 物理原理 277
6.3.2 实验方法 284
6.3.3 结果 287
6.3.4 特别的研究课题 290
6.4 低能电子衍射结构术语和上层超结构 296
6.5 附录：关于低能电子衍射和俄歇现象的一些新近评述 299
第七章 多相催化中的概念M．布达特 299
7.1 定义 300
7.2 亲合力、反应活性和催化活性 303
7.3 非理想催化表面：氨的合成 305
7.4 非理想催化面：水煤气变换反应 309
7.5 结构因素或几何因素 311
7.6 电子因素或配位体因素 315
7.7 助剂和毒物 318
7.8 活性中心 320
参考文献 325
附加 参考文献 345