前言页 1
第一章 实现辐射和非辐射受激化学热处理的方法 1
1.1 在γ辐射场中处理 2
1.2 用低能量离子处理 3
1.3 用电脉冲放电处理 14
1.4 工件在交变载荷条件下处理 16
第二章 固体在辐射和非辐射作用下缺陷的形成 23
2.1 辐射作用下形成的缺陷 23
2.2 非辐射作用下缺陷的形成 29
第三章 用低能量离子处理时材料的受损性 39
3.1 组织缺陷的形成 39
3.2 起泡效应 46
3.3 膨胀·气泡形成 52
第四章 材料在非辐射作用时的质量迁移 55
4.1 关于辐射受激扩散的基本概念 56
4.2 金属与电离的气体介质作用时的质量迁移 60
4.3 关导体与电离的气体介质相互作用时的质量迁移 73
4.4 金属、半导体和金属、化合物相互作用时的质量迁移 88
4.5 金属的渗透率 92
第五章 在离子轰击条件下涂层和薄膜的涂覆 100
5.1 固体表面的微观过程 100
5.2 钨涂层的涂覆 108
5.3 非金属涂层的涂覆 112
第六章 非辐射作用下的金属蠕变 115
结束语 120
参考文献 122