目录 1
第1章 真空技术的物理基础 1
1.1理想气体、气体状态方程 1
1.2气体的压强、真空及其度量 3
1.3气体分子间的碰撞、平均自由程 5
1.4气体分子对器壁的碰撞、余弦定律 6
1.5低压气体的热传导、真空绝热 8
1.6.1稀薄气体流动状态及其判别 9
1.6低压气体在管道中的流动，管道流导的计算 9
1.6.2管道流导能力的计算 11
1.6.3真空管道流导的图算法 13
1.7真空技术的基本方程、有效抽速 14
1.8固－气界面现象 16
1.8.1材料在真空中的放气 17
1.8.2气体通过材料的渗透 20
1.9液－气界面现象、蒸发与凝结 22
1.10气体放电 22
1.10.1气体放电机理 23
1.10.2气体放电的全程伏安特性曲线 24
1.10.3气体放电的辉光现象 27
1.10.4阴极溅射 30
第2章 辉光离子热处理技术 31
2.1辉光离子渗氮 31
2.1.1辉光离子渗氮的基本原理及其评价 31
2.1.2辉光离子渗氮的放电特点 36
2.1.3辉光离子渗氮炉结构及其主要部件 38
2.1.4辉光离子渗氮炉的电源 45
2.1.5辉光离子渗氮炉的气源 53
2.1.6离子渗氮炉操作 54
2.1.7辉光离子渗氮工艺的发展 55
2.2辉光离子放电渗元素的其他应用 57
2.2.1真空离子渗碳及氮碳共渗（离子软氮化） 57
2.2.2离子渗硫及硫氮共渗 58
2.2.3离子渗其他元素 58
2.3离子热处理设备的发展 60
第3章 离子注入技术与材料改性 64
3.1离子注入原理及其特点 64
3.2离子注入金属的物理过程 65
3.3轰击扩散离子注入法（或称辐射合金化法） 66
3.4离子注入技术的应用 67
第4章 真空沉积薄膜强化技术 71
4.1真空蒸发镀膜原理及其基本过程 73
4.2溅射镀膜 75
4.2.1溅射镀膜的原理和特点 76
42.2二极溅射 82
4.2.3三极或四极溅射 84
4.2.4磁控溅射 86
4.3离子镀膜 93
4.3.1直流二极、三极及多极型离子镀膜 98
4.3.2射频法离子镀膜 99
4.3.3活性化学反应离子镀膜（ARE法） 100
4.3.4空心阴极放电离子镀（HCD法） 102
4.4化学气相沉积（CVD法） 111
4.4.1化学气相沉积的原理和特点 113
4.4.2等离子体化学气相沉积 116
5.1普通真空化学热处理的类型及其基本物理化学过程 123
第5章 钢的普通真空化学热处理 123
5.2真空渗碳 125
5.3真空渗氮及碳氮共渗 127
5.4真空渗其他非金属元素 127
5.5真空渗金属元素 129
5.6真空渗复化合物—TiC 136
第6章 涂层真空熔烧强化 138
6.1涂层真空熔烧合金层的性能 138
6.2涂层真空熔烧炉 139
6.3真空熔烧涂层工艺简介 140
6.4涂层烧结法的其他应用 141
第7章 真空表面强化设备的真空系统 142
7.1真空获得设备 142
7.1.1油封式机械真空泵 143
7.1.2罗茨泵（机械增压泵） 148
7.1.3油蒸汽流泵 149
7.2真空测量 153
73真空系统元件 157
7.4真空系统举例 161