（中） 537
战略展望 537
21世纪微电子技术发展展望 537
铁电-硅微集成系统 542
用于通信领域中的MEMS器件 550
硅基铁电信息存储技术 557
微麦克风的研究及展望 563
从微电子学到纳电子学——电子科学技术的又一次革命 568
器件物理 577
深亚微米沟道δ掺杂NMOSFET结构特性和设计 577
超薄氮氧化硅（SiOxNy）栅NMOSFET中GIDL效应的研究 583
SOI MOSFET自加热效应的建模 589
多晶提升源漏的MOSFET的优化 592
一种新型的全抑制浮体和自加热效应的DSOI结构 595
深亚微米PESD MOSFET特性研究及优化设计 601
包含多子带结构的MOS器件开启电压量子力学效应修正模型 607
包含自加热效应的短沟道SOI MOSFET直流模型 614
MOSFET反型层迁移率的普适性讨论 620
深亚微米MOSFET短沟效应的变分法分析 626
量子化效应对深亚微米MOSFET亚阈区特性的影响 633
亚微米及深亚微米常规和LDD MOSFET性能研究 638
亚0.1μm栅衬互连体硅MOSFET特性研究 644
MOSFET衬底电流模型在深亚微米尺寸下的修正 651
MOS结构有效态密度方法的量子力学校正 656
基于有效态密度的MOS结构电荷控制模型 669
应用变分方法的统一MOSFET短沟道因数 674
MOS结构反型层中量子力学效应的简化研究方法 681
一种新的MOS结构量子化效应修正模型 687
利用不均匀网格的比例变换方法求解薛定谔方程 695
MOS结构反型层和积累层建模中三角电势阱近似的正确性与适用性 701
MOS反型层中基于空间电荷电容的电荷电压解析模型 709
包含全部量子力学效应的现代MOSFET综合解析电荷控制和I-V模型 717
pMOSFET量子力学效应阈值漂移的表征与建模 725
一种包含量子力学效应的MOS结构反型层电荷新模型 735
MOS结构中量子化反型层的简并 746
MOS结构阈值区域的量子力学效应的综合分析 754
硅基PZT铁电薄膜的制备与性能研究 766
钛酸铅铁电薄膜研究 772
MOS结构反型层中载流子分布和栅电容的表征与建模 776
充分考虑量子力学效应的亚微米和深亚微米MOSFET解析电荷控制和I-V模型 792
硅薄膜晶格热导率分析 807
硅基铁电薄膜的电性能研究 812
集成电路技术 819
一种用于模式识别的多输入模糊处理器 819
一种面向VLSI实现的手写体数字识别系统 824
单体模糊神经网络：在智能控制中的应用及VLSI实现 834
双MOS晶体管等效电阻 839
可编程模糊逻辑控制器芯片的设计 845
纹膜结构微麦克风的动态特性：使用EDA/CAD工具进行Top-down设计 852
多值模糊最小最大神经网络分类器的递归算法 861
系统集成技术 871
单芯片纹膜微型硅电容麦克风的理论和实验研究 871
集成流体系统的单芯片制作 883
清华大学MEMS技术的研究发展 894
三维MEMS结构的单芯片制作新技术 903
微流量泵与微流量传感器的系统集成 908
新型双轴电容式微加速度传感器优化设计研究 912
利用多层光刻胶工艺的准LIGA技术 918
硅集成微型泵系统的优化设计和兼容工艺研究 923
铁电-硅集成微麦克风和扬声器研究 929
具有多晶固定轴承的晃动马达制作工艺 934
改进微静电马达的摩擦与磨损 939
用于坡莫合金微结构阵列电沉积的等离子干法刻蚀的P型硅微模 944
一种新型硅基PT/PZT/PT夹心结构的电性能研究 950
一种采用双面对准的硅LIGA掩模制作研究 955
一种新型集成微麦克风和扬声器的设计 961
基于微电子机械系统技术的高灵敏度电容式微传声器的研制 966
集成MOS力敏运放压力传感器 975
一种新的FET型铁电非挥发存储器的单元和阵列结构 980
一种改进的铁电电容行为模型 987
Bi2Ti2O7基金属-铁电-半导体FET研究 992
微机械平面螺旋电感的Q值分析与结构优化 996
硅基PZT薄膜的制备与刻蚀工艺研究 1002
用于微声学器件的新型单芯片纹膜的动态特性 1007
其他 1017
光刻胶灰化工艺与深亚微米线条的制作 1017