1.引言 1
2.基本理论 7
电磁波 7
单界面之反射与透射 17
单层膜之反射与透射 38
多层膜之反射与透射 57
多层膜矩阵的一些特性 62
非相干性之反射与透射 66
3.光学薄膜设计之图示法 78
向量法 78
导纳轨迹法 88
计算机程式之应用 119
4.分光镜 125
中性分光镜 125
双色分光镜 132
偏振光分光镜 134
5.高反射镜 139
金属膜反射镜 139
全介电质膜高反射镜 155
全介电质膜高反射带之拓宽 160
膜层损耗对四分之一波膜堆的影响 163
6.截止滤光片 171
非干涉型截止滤光片 171
干涉型截止滤光片 172
7.带止滤光片 195
高低折射率膜堆法 195
折射率渐变膜及非均匀膜法 197
8.带通滤光片 206
宽带滤光片 206
窄带滤光片 207
多腔窄带滤光片 222
诱导透射滤光片 239
9.斜向入射薄膜 248
斜向入射时薄膜折射率之修正 248
斜向入射时光学导纳之修正 250
消偏振镀膜 256
斜向入射效应之应用 269
10.光学薄膜的制镀方法 272
液体成膜法 272
气体成膜法 275
增能助镀及其他方法 301
11.光学薄膜之特性与制镀技术的改进 303
各种改进膜质的制镀方法 316
混合式改进法 334
以单一材料制镀多层膜 340
膜微观结构与双折射特性 343
12.薄膜厚度之均匀性及镀膜厚度之监控 348
膜分布之理论分析 348
实作基板支撐架及膜厚监控的选择 359
13.光学薄膜特性的量测 378
薄膜光学常数的量测 378
薄膜透射率、反射率、吸收与散射量测 391
薄膜堆积密度之量测 402
薄膜表面轮廓及粗糙度的量测 403
薄膜微硬度、抗擦性、附著性及环境温溼变化之量测 407
薄膜应力之量测 413
薄膜微观结构之分析 420
薄膜成份之分析 422
雷射辐射对薄膜损伤承受值的量测 423
14.光学薄膜材料 430
光学薄膜之基本要求 430
常用光学薄膜之制镀与特性 437
两种材料混合的折射率 443
毒性 445
15.紫外光及X-光波域之光学薄膜 447
紫外光光学薄膜 449
X-光光学薄膜 452
16.光学滤光片制镀范例 463
滤光片的设计 463
基板的准备 483
镀膜与膜厚之监控 485
光学成效检验 486
非光学特性之检验 488
镀膜机的清理 488
17.光学薄膜与色彩 490
CIE X Y Z色度座标 490
光度学 492
光源 494
光学薄膜的色彩与测量 496
附录一光学薄膜材料特性 506
附录二配色函数与光谱光视效函数 511
附录三有关薄膜光学原理、制作及检测之参考书与会议 514
名词索引 518