目录 1
第一章 微细加工技术概论 1
1.1基本工艺与复合工艺 1
1.1.1基本工艺 2
1.1.2复合工艺 3
1.2离子注入 5
1.2.1离子注入技术基础 5
1.2.2杂质分布 7
1.2.3离子注入装置 8
1.2.4退火技术 9
1.2.5离子注入技术的优点和缺点 10
1.3等离子体CVD 11
1.3.1CVD技术基础 12
1.3.2等离子体CVD 15
1.3.3CVD膜的评价 18
1.4亚微米光刻 19
1.4.1电子束曝光 19
1.4.2X射线曝光 26
1.4.3离子束曝光 29
1.5等离子刻蚀 30
1.5.1刻蚀技术概要 30
1.5.2等离子刻蚀技术基础 34
1.5.3等离子刻蚀气体 37
1.5.4等离子刻蚀装置 40
1.5.5无掩膜离子束加工 41
第二章 准分子激光器 43
2.1概述 43
2.1.1基本概念 43
2.1.2泵浦方式及特点 46
2.1.3准分子激光器应用 50
2.2电子束泵浦激光器 53
2.2.1稀有气体准分子态 53
2.2.2电子束泵浦系统 56
2.2.3激光器结构 59
2.2.4激射基本性能 62
2.3放电泵浦激光器 65
2.3.1预电离原理与方式 66
2.3.2放电泵浦机理 72
2.3.3泵浦电源及放电回路 76
2.3.4实用化激光器系统 87
2.4微波与质子束泵浦 92
2.4.1微波泵浦 92
2.4.2质子束泵浦 97
第三章 表面处理与掺杂 101
3.1强激光吸收效应 101
3.1.1基本光学性质 101
3.1.2自聚焦效应 105
3.1.3自由载流子效应 108
3.1.4表面行为 114
3.2.1热传导方程 118
3.2热传导过程 118
3.2.2均匀光束与高斯光束 121
3.2.3变参量影响及其处理 125
3.3激光热处理 131
3.3.1表面层热反应速率 132
3.3.2激光退火 135
3.3.3化合物合成 140
3.4表面掺杂 143
3.4.1激光熔化方式 144
3.4.2潜热贡献 146
3.4.3掺杂机理 152
3.4.4掺杂性质及特点 159
4.1.1热解 166
第四章 激光CVD技术 166
4.1光CVD基本原理 166
4.1.2蒸发 167
4.1.3光解 168
4.2激光CVD主要特点 171
4.2.1低温淀积 171
4.2.2选择激励 171
4.2.3空间局部淀积 172
4.3激光CVD应用 173
4.3.1金属膜 175
4.3.2绝缘膜 179
4.3.3半导体膜 184
4.4激光CVD展望 192
第五章 激光曝光技术 194
5.1激光曝光技术基础 194
5.1.1反射和驻波 195
5.1.2光的衍射 201
5.1.3远紫外曝光 208
5.2激光曝光技术特性 209
5.2.1准分子激光特性 209
5.2.2感光特性 211
5.2.3实用性 215
5.3准分子激光曝光应用 215
5.3.1接触式曝光 216
5.3.2投影式曝光 218
5.4课题与展望 223
第六章 激光刻蚀 227
6.1激光刻蚀方式与机理 227
6.1.1激光诱导刻蚀 227
6.1.2激光直接刻蚀 235
6.2刻蚀性质与特点 245
6.2.1半导体材料 246
6.2.2金属与介质 253
6.2.3有机高分子聚合物 258
6.3刻蚀工艺与技术 264
6.3.1基本系统 265
6.3.2扫描与投影系统 268
6.3.3刻蚀极限与损伤 273