1.1 单晶生长 4
1.1.1 熔融法 4
第一章 试样制备的基本知识 4
1.1.2 溶液法 7
1.1.3 汽相生长法 10
1.1.4 固相生长 11
1.2 试样加工 12
1.2.1 晶体定向 12
1.2.2 试样的切割、研磨和抛光 13
1.3 薄膜制备 15
1.3.1 真空蒸发薄膜 15
1.3.2 溅射薄膜 21
1.3.3 其它薄膜技术 23
1.3.4 薄膜生长过程 24
1.4.1 非晶态生成条件 25
1.4 非晶态和准晶态试样制备 25
1.4.2 急冷法 27
1.4.3 其它非晶态制备方法 27
参考书目 28
第二章 固体X射线学 29
2.1 散射理论与强度公式 29
2.1.1 小晶体的衍射强度 30
2.1.2 多晶体的衍射强度 31
2.1.3 小角散射 31
2.1.4 热漫散射和黄昆漫散射 32
2.1.5 康普顿散射 33
2.2 X射线衍射仪的实验技术 33
2.2.1 X射线衍射仪的结构及工作原理 33
2.2.2 衍射仪主要实验参数的选择 37
2.2.3 衍射仪用的试样制备与常用测量方法 39
2.3 物相分析 40
2.3.1 定性相分析原理及方法 40
2.3.2 定量相分析 43
2.4 精确测定点阵参数法 44
2.4.1 衍射峰位2θm的确定 45
2.4.2 误差的来源 46
2.4.3 消除误差的图解外推法 47
2.5 晶体取向的测定 47
2.5.1 衍射仪法测定晶体取向 47
2.6 X射线衍射貌相术 47
2.6.1 貌相图的衍衬成象原理 49
2.6.2 貌相术的实验方法 50
2.6.5 貌相术的应用 53
2.7.1 原理 54
2.7 扩展X射线吸收谱精细结构 54
2.7.2 实验测量方法 55
2.7.3 数据处理 56
2.7.4 X射线吸收谱近限结构 57
2.8 非晶态径向分布函数的测定 58
2.8.1 非晶态结构分析的主要计算公式 58
2.8.2 实验方法 61
2.8.3 数据处理 62
2.9 中子衍射 63
2.9.1 中子散射的主要特点 64
2.9.2 中子衍射仪 64
参考书目 65
参考文献 65
第三章 电子显微术 66
3.1 透射电子显微术 67
3.1.1 基本原理 68
3.1.2 实验装置 77
3.1.3 实验方法 80
3.1.4 应用举例 82
3.2 扫描电子显微术 83
3.2.1 基本原理 83
3.2.2 实验装置 90
3.2.3 实验方法 91
3.2.4 应用举例 93
3.3 电子探针微区成分分析 94
3.3.1 基本原理 94
3.3.2 实验装置 100
3.3.3 实验方法 103
3.3.4 应用举例 106
参考书目 107
参考文献 107
第四章 表面物理实验方法 108
4.1 低能电子衍射 111
4.1.1 二维周期结构 112
4.1.2 LEED的运动学原理 113
4.1.3 LEED实验装置 114
4.1.4 实验方法 116
4.1.5 结果分析 117
4.1.6 LEED的动力学理论简介 118
4.2 俄歇电子能谱 121
4.2.1 俄歇效应 121
4.2.2 定性分析 122
4.2.3 定量分析 124
4.2.4 实验装置 126
4.2.5 实验方法 127
4.3 光电子能谱 129
4.3.1 光电子发射 130
4.3.2 定性分析 132
4.3.3 定量分析 134
4.3.4 实验装置 136
4.3.5 实验方法 137
4.4 二次离子质谱 139
4.4.1 二次离子发射 139
4.4.2 SIMS分析 140
4.4.3 实验设备和实验方法 141
参考书目 143
参考文献 144
第五章 内耗与超声衰减 146
5.1 内耗 146
5.1.1 基本原理 146
5.1.2 内耗测量的方法 150
5.1.3 三种常见的内耗类型 155
5.1.4 应用 160
5.2 固体介质的超声衰减和声速 161
5.2.1 基本原理 162
5.2.2 实验方法和装置 163
5.2.3 衰减及声速的修正 169
5.2.4 实例与应用 174
参考书目 178
参考文献 178
第六章 半导体的电学测量 180
6.1 电阻率的测量——直线四探针法 180
6.1.1 基本原理 180
6.1.2 实验装置 183
6.1.3 实验方法 184
6.1.4 应用 185
6.2 少数载流子寿命的测量——光电导衰退法 186
6.2.1 基本原理 187
6.2.2 实验装置 190
6.2.3 实验方法 191
6.2.4 应用 192
6.3 深能级中心参数的测量——深能级瞬态谱 193
6.3.1 基本原理 194
6.3.2 实验装置 202
6.3.3 实验方法 202
6.3.4 应用 203
6.4 用准静态法测量硅－二氧化硅界面态密度的能量分布 204
6.4.1 基本原理 204
6.4.2 实验装置 210
6.4.3 实验方法 211
6.4.4 应用 212
参考文献 212
7.1.1 基本原理 214
第七章 固体光谱 214
7.1 紫外及可见光谱 214
7.1.3 实验方法 224
7.1.2 实验装置 225
7.1.4 应用 228
7.2 红外光谱 228
7.2.1 基本原理 229
7.2.2 实验装置 233
7.2.3 实验方法 238
7.2.4 应用 238
7.3 喇曼光谱 240
7.3.1 基本原理 240
7.3.2 实验装置 244
7.3.3 晶格振动谱的分析 248
7.3.4 应用 253
7.4 布里渊散射 255
7.4.1 基本原理 255
7.4.2 实验装置 256
7.4.3 实验方法 258
7.4.4 弹性常数的测定 260
7.4.5 应用 262
参考书目 262
参考文献 263
第八章 发光光谱 264
8.1 光致发光谱 264
8.1.1 基本原理 264
8.1.2 实验装置 268
8.1.3 实验方法 271
8.2.1 基本原理 274
8.2 电致发光谱和阴极荧光谱 274
8.1.4 应用 274
8.2.2 实验装置和方法 276
8.2.3 应用 277
8.3 发光衰变和时间分辨谱 278
8.3.1 基本原理 278
8.3.2 实验装置和方法 280
8.3.3 应用 283
8.4 外场扰动下的发光光谱 283
8.4.1 基本原理 283
8.4.2 实验方法和应用 284
参考书目 286
参考文献 286
第九章 磁共振 287
9.1 核磁共振 287
9.1.1 基本原理 287
9.1.2 实验方法及装置 298
9.1.3 固体高分辨核磁共振简介 305
9.2 电子顺磁共振 306
9.2.1 EPR的基本原理 306
9.2.2 实验装置——EPR谱仪 308
9.2.3 电子顺磁共振波谱的分析方法 311
9.2.4 电子顺磁共振的测量 319
参考书目 322
参考文献 322
第十章 低温与超导实验 324
10.1 低温液体 324
10.1.1 基本原理 324
10.1.2 实验装置和实验方法 326
10.2.1 温度的测量 330
10.2 固体的低温物理性质 330
10.2.2 热容的测量 333
10.2.3 热导的测量 337
10.2.4 电阻和磁化率的测量 338
10.3 超导材料性能的测量 338
10.3.1 基本原理 339
10.3.2 实验装置和实验方法 339
10.4 超导磁体 343
10.4.1 基本原理 343
10.4.2 实验装置和实验方法 344
10.5 约瑟夫森效应及其应用 347
10.5.1 基本原理 347
10.5.2 实验装置和实验方法 351
参考书目 354
11.1 离子束分析 355
11.1.1 卢瑟福背散射谱（RBS） 355
第十一章 核物理方法 355
11.1.2 沟道效应及其应用 364
11.1.3 带电粒子感生的X射线分析 369
11.2 正电子湮没谱 371
11.2.1 固体中的正电子湮没 372
11.2.2 基本实验方法 374
11.2.3 正电子湮没领域中若干新技术 379
11.2.4 正电子湮没方法在金属和固体物理中的应用举例 379
11.3 穆斯堡尔谱 381
11.3.1 基本原理 381
11.3.2 核与化学环境间的超精细相互作用 384
11.3.3 谱仪和实验方法简介 388
11.3.4 穆斯堡尔谱在固体物理研究参考书目 398
参考文献 398
第十二章 固体物理的高压研究方法 400
12.1.1 静态高压的产生 401
12.1 静态高压的产生和测量 401
12.1.2 静态高压的测量 413
12.2 高压下若干物性的实验研究方法 418
12.2.1 高压下物质电阻的测量 418
12.2.2 高压激光喇曼光谱方法 422
12.2.3 高压X射线衍射方法 424
12.3 高温高压下的材料合成方法 426
12.3.1 高温高压合成方法的发展 426
12.3.2 高压在材料的固态合成中的作用 428
12.3.3 高温高压下人造金刚石的合成 429
12.4 应用 431
参考书目 434
参考文献 435
附录 437
名词索引 475