第1章 绪论 1
1.1腐蚀的危害及调查概况 1
1.2腐蚀防护措施简介 2
1.3本书撰写的主要目的 4
参考文献 5
第2章 金属腐蚀的光电化学阴极保护理论基础 7
2.1半导体简介 7
2.2光催化过程 9
2.3光电化学阴极保护原理 10
2.4光电化学阴极保护的影响因素 11
2.4.1半导体能级结构对光电化学阴极保护效应的影响 11
2.4.2半导体涂层的特性对光电化学阴极保护效应的影响 12
2.4.3光生电子-空穴界面转移／反应过程对光电化学阴极保护效应的影响 14
2.5光电化学阴极保护过程 14
参考文献 17
第3章 光电化学阴极保护研究现状 19
3.1引言 19
3.2金属光电化学阴极保护研究的起源与发展现状 20
3.2.1光电极涂层的制备方法 20
3.2.2导带电位对金属材料光电化学阴极保护的重要影响 26
3.2.3太阳光利用效率的提高及可见光响应的光电化学阴极保护涂层材料的开发 26
3.2.4光电储能材料暗态持续保护性能的研究 44
3.2.5高保护性材料与光电材料的复合对金属抗腐蚀保护性能的改善 49
参考文献 50
第4章 石墨相氮化碳系列材料的光电化学阴极保护性能研究 54
4.1类石墨结构氮化碳材料g-C3N4的光电化学阴极保护性能 54
4.1.1引言 54
4.1.2石墨相氮化碳材料的制备及表征 58
4.1.3石墨相氮化碳材料的光电化学阴极保护性能 62
4.1.4石墨相氮化碳光电极的光电化学阴极保护机理分析 64
4.1.5小结 65
4.2超薄介孔氮化碳包覆氧化锌复合材料的光电化学阴极保护性能研究 66
4.2.1引言 66
4.2.2 C3N4＠ZnO纳米壳核结构复合材料的表面形貌与微观结构分析 69
4.2.3 C3N4＠ZnO纳米壳核结构复合材料的晶体结构与化学组成分析 71
4.2.4 C3N4＠ZnO纳米壳核结构复合材料的光学吸收性能分析 73
4.2.5 C3N4＠ZnO纳米壳核结构复合材料的光电化学阴极保护性能分析 73
4.2.6 C3N4＠ZnO纳米壳核结构复合材料的光电化学和电化学性能分析 76
4.2.7 C3N4＠ZnO纳米壳核结构复合材料的光电化学阴极保护机理分析 79
4.2.8小结 80
4.3 C3N4＠In2O3壳核结构复合物的光电化学阴极保护性能研究 81
4.3.1引言 81
4.3.2 C3N4＠In2O3壳核结构复合材料的晶相结构和形貌 83
4.3.3 C3N4＠In2O3壳核结构复合材料的化学组成 85
4.3.4 C3N4＠In2O3壳核结构复合材料的光吸收性能 86
4.3.5 C3N4＠In2O3壳核结构复合材料的光电化学阴极保护性能 87
4.3.6 C3N4＠In2O3壳核结构复合材料的光电化学性能 88
4.3.7 C3N4＠In2O3壳核结构复合材料的光电化学阴极保护机理 90
4.3.8小结 92
参考文献 93
第5章 改性半导体材料的光电化学阴极保护性能研究 97
5.1 Ni掺杂二氧化钛的光电化学阴极保护性能 97
5.1.1引言 97
5.1.2 Ni掺杂二氧化钛样品的物理表征 99
5.1.3 Ni掺杂二氧化钛样品的光学吸收性能分析 102
5.1.4 Ni掺杂二氧化钛样品的光电化学阴极保护性能分析 103
5.1.5 Ni掺杂二氧化钛样品的光电化学阴极保护机理分析 106
5.1.6小结 106
5.2过氧化氢处理氧化铟的光电化学阴极保护性能 107
5.2.1引言 107
5.2.2制备的氧化铟样品的晶相结构和形貌分析 109
5.2.3制备的氧化铟样品的表面组分状态分析 111
5.2.4制备的氧化铟样品的光学吸收性能分析 112
5.2.5制备的氧化铟样品的光电化学阴极保护性能分析 113
5.2.6制备的氧化铟样品的电化学／光电化学性能 114
5.2.7制备的氧化铟样品的光电化学阴极保护机理分析 116
5.2.8小结 118
参考文献 118
第6章 复合材料的光电化学阴极保护性能研究 122
6.1氧化铟／二氧化钛复合材料的光电化学阴极保护性能 122
6.1.1引言 122
6.1.2 In2O3／TiO2复合物的晶体结构和表面形貌分析 124
6.1.3 In2O3／TiO2复合物的光吸收性能分析 125
6.1.4 In2O3／TiO2复合物的光电化学阴极保护性能 125
6.1.5 In2O3／TiO2的光电化学性能分析 131
6.1.6 In2O3／TiO2的光电化学阴极保护性能的提升机理 132
6.1.7小结 134
6.2硫化铟敏化氧化锌纳米棒阵列的光电化学阴极保护性能研究 135
6.2.1引言 135
6.2.2 In2S3／ZnO NRA复合物的晶体结构分析 137
6.2.3 In2S3／ZnO NRA复合物的表面形貌分析 137
6.2.4 In2S3／ZnO NRA复合物的微观结构和化学组成分析 138
6.2.5 In2S3／ZnO NRA复合物的光吸收性能分析 141
6.2.6 In2S3／ZnO NRA复合物的光电化学阴极保护性能分析 142
6.2.7 In2S3／ZnO NRA复合物的光电化学阴极保护机理分析 145
6.2.8小结 146
参考文献 147
第7章 储电子材料氧化钨的光电化学阴极保护性能研究 151
7.1硫化镉敏化纳米花状氧化钨的光电化学阴极保护性能 151
7.1.1引言 151
7.1.2硫化镉敏化纳米花状氧化钨薄膜材料的表面形貌分析 153
7.1.3硫化镉敏化纳米花状氧化钨薄膜材料的成分分析 155
7.1.4硫化镉敏化纳米花状氧化钨材料的光吸收性能分析 156
7.1.5硫化镉敏化纳米花状氧化钨材料的光电化学阴极保护性能分析 157
7.1.6硫化镉敏化纳米花状氧化钨材料的电子存储性能分析 160
7.1.7硫化镉敏化纳米花状氧化钨材料的电化学性能分析 164
7.1.8硫化镉敏化纳米花状氧化钨材料的光电化学阴极保护机理分析 167
7.1.9小结 169
7.2二氧化钛-氧化钨／还原氧化石墨烯体系的光电化学阴极保护性能研究 169
7.2.1引言 169
7.2.2 WO3／rGO复合物的形貌及结构分析 173
7.2.3 TiO2-WO3／rGO复合物的光电化学阴极保护性能 177
7.2.4制备的WO3／rGO复合物的电化学性能 180
7.2.5 TiO2-WO3／rGO体系光电化学阴极保护性能提升的机制 182
7.2.6小结 183
参考文献 183
第8章 结语 187