第1章Ir的性质及其涂层制备方法 1
1.1 Ir的性质 1
1.2 Ir涂层制备方法 3
第2章C基体表面沉积Ir涂层 17
2.1引言 17
2.2实验过程 19
2.3工艺参数对涂层表面形貌的影响 19
2.4等离子体的绕射现象 21
2.5 Ir涂层的微观结构 22
2.6 Ir涂层的生长方式 24
2.7 Ir涂层的断裂方式 26
2.8 Ir涂层的力学性能 30
2.9涂层的高温烧蚀 31
2.10小结 37
第3章 双辉等离子法在Mo基体表面沉积Ir涂层 38
3.1引言 38
3.2实验过程 39
3.3 Ir涂层的组织结构及形貌表征 39
3.4共混区形成机理 46
3.5涂层的力学性能 50
3.6涂层高温处理 52
3.7涂层高温烧蚀 54
3.8小结 55
第4章 双辉等离子法在Nb基体表面沉积Ir涂层 58
4.1引言 58
4.2实验过程 59
4.3 Ir涂层的形貌表征 59
4.4 Ir涂层的力学性能 61
4.5涂层高温烧蚀 62
4.6小结 63
第5章 双辉等离子法在W基体表面沉积Ir涂层 65
5.1引言 65
5.2实验过程 66
5.3涂层组织结构与表面形貌分析 67
5.4涂层高温烧蚀 70
5.5 W/Ir复合涂层 70
5.6小结 78
第6章 双辉等离子法在WC基体表面沉积Ir涂层 79
6.1引言 79
6.2实验过程 80
6.3涂层的形貌与结构 80
6.4涂层的力学性能 83
6.5 Ir涂层高温烧蚀 91
6.6小结 95
第7章 双辉等离子法在C/C基体表面沉积W涂层 96
7.1引言 96
7.2实验过程 99
7.3 C/C复合材料表面双辉等离子制备W涂层工艺优化 100
7.4涂层的形貌表征 104
7.5涂层的力学性能 107
7.6涂层的高温处理 107
7.7小结 118
参考文献 120
支持本研究课题的学术论文 131
支持本研究课题的专利 134
致谢 135
后记 136