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目录 1
第一章 绪论 1
第一节 半导体离子注入技术简介 1
第二节 半导体基础知识简介 10
第二章 注入离子在半导体中的射程分布 27
第一节 有关射程分布的几个基本概念 27
第二节 非晶靶中的射程分布 28
第三节 非晶靶中的浓度分布的应用实例 39
第四节 理论与实验的比较 54
第五节 单晶靶中的射程分布 62
第三章 晶？的损伤和退火 72
第一节 幅射损伤 72
第二节 退火 83
第三节 增强扩散效应及其应用 109