一、绪论 1
目录 1
二、杂质沾污对器件性能的影响 4
（一）杂质的概念 4
（二）半导体对杂质的敏感性 5
（三）杂质沾污对半导体材料的影响 5
（四）二氧化硅层中的杂质沾污对器件性能的影响 7
（五）杂质沾污导致击穿电压的变化 14
（六）重金属沾污对器件性能的影响 19
（七）杂质沾污对光刻质量的影响 20
（八）磷杂质对器件性能的影响 23
（九）杂质污染对扩散表面的影响 25
（十）污物对金属电极和欧姆接触的影响 26
（一）硅片表面沾污杂质的种类 29
三、硅片表面杂质沾污的来源 29
（二）杂质沾污的来源 30
（三）钠离子沾污的主要来源 32
（四）来自器皿和溶液的杂质沾污 34
（五）金属杂质的沾污 39
（六）“三流”是造成灰尘沾污的主要来源 41
四、有机溶剂的去污作用 47
（一）有机化合物的特点 47
（二）有机溶剂的去污作用 49
（三）无毒溶剂的去污作用 54
（四）有机溶剂的溶解作用 56
（五）有机溶剂溶除有机杂质的顺序 58
五、碱在化学清洗中的作用 61
（一）油类杂质的特性 61
（二）碱液除油原理 62
（三）碱性物质和除油操作条件 63
（四）去污粉的除污作用 66
（五）氢氧化钠在化学清洗中的作用 67
六、无机酸在化学清洗中的作用 71
（一）盐酸的化学清洗作用 71
（二）硫酸的化学清洗作用 74
（三）硝酸的化学清洗作用 78
（四）氢氟酸的腐蚀及清洗作用 81
（五）磷酸在工艺和清洗中的作用 83
七、氧化剂在化学清洗中的作用 86
（一）铬酸清洗液的去污作用 86
（二）碱性高锰酸钾洗液去污作用 90
（三）过氧化氢的氧化作用 93
（四）氨水的去污作用 94
（五）碱性过氧化氢清洗液的去污作用 96
（六）酸性过氧化氢清洗液的去污作用 97
（七）Ⅰ号洗液和Ⅱ号洗液的优点 98
八、络合剂和螯合剂在化学清洗中的作用 100
（一）络合物的基本概念 100
（二）螯合物的简介及去污作用 106
（三）络合物的稳定性和络合反应的去污原理 109
（四）氨水在清洗中的络合作用 112
（五）王水的去污原理 113
（六）氢氟酸和氟化铵的络合作用 115
九、表面活性剂和净洗剂的去污作用 119
（一）表面活性物质 119
（二）长烃链表面活性剂的特性 120
（三）净洗剂的化学特性 124
（四）净洗剂的去污原理 125
（五）净洗剂使用及优点 127
十、合成洗涤剂的去污作用 130
（一）肥皂的去油污原理 130
（二）合成洗涤剂的去油污作用 132
（三）几种合成洗涤剂 136
十一、纯水在化学清洗中的作用 138
（一）水中杂质对器件性能的影响 138
（二）化学清洗对水质的要求 140
（三）纯水的性质和影响纯度的因素 149
（四）纯水在化学清洗中的作用 155
十二、溶液的配制 162
（一）溶液配制方法 162
（二）几种溶液浓度之间的换算 168
（三）溶液配制的混合法则 169
（四）溶液的配制和应注意事项 172
十三、硅片的化学清洗 175
（一）影响硅片清洗质量的几个因素 176
（二）硅片清洗的一般程序 183
（三）硅片清洗中的物理方法 187
（四）硅片的清洗方案 193
十四、硅片表面损伤和残余杂质的处理法 197
（一）硅片的化学机械抛光 197
（二）硅片的气相抛光 198
（三）硅片的化学腐蚀 200
（四）硅片的高温真空处理 203
（五）硅片的钴盐处理 204
（六）金属杂质的吸收 205
（一）铝材料的清洗 209
十五、常用金属材料的清洗 209
（二）钨和钼材料的清洗 211
（三）金材料的清洗 212
（四）锡、铅材料的清洗 213
（五）铬、镍铬、硅棒的清洗 214
（六）合金材料、管壳的清洗 215
（七）玻璃与金属封接前后的清洗 216
（八）金属材料清洗中应注意的事项 218
十六、生产用具的清洗 222
（一）玻璃器皿的清洗 222
（二）玻璃钟罩的清洗 229
（三）石英玻璃用具的清洗 231
（四）塑料制品的清洗 234
（五）橡胶制品的清洗 236
（六）金属镊子的清洗 237
（七）有机玻璃用具的清洗 239
（八）石墨工具的清洗 239
（九）多晶硅垫片和硅船（硅箱）的清洗 240
（十）铝制品的清洗和使用保养 241
（十一）搪瓷制品的清洗和使用注意事项 243
十七、化学清洗的常用设备 245
（一）电炉 245
（二）超声波清洗机 247
（三）电热恒温箱 250
（四）电热恒温水浴锅 252
（五）电冰箱 253
（六）超净工作台 256
十八、化学清洗工艺中的安全知识 258
（一）化学清洗工艺中的安全操作 258
（二）事故发生后的处理 261