第一章 概述 1
1-1光刻技术概况 1
1-2 光刻工艺过程 3
第二章 光致抗蚀剂 6
2-1光致抗蚀剂的性能 6
2-2光致抗蚀剂的配制 9
2-3光致抗蚀剂的种类 11
第三章 硅片表面清洁处理 14
3-1 硅片表面清洁处理的目的 14
3-2硅片表面清洁处理的方法 15
第四章 涂敷感光胶 18
4-1涂胶的方法和设备 18
4-2改进涂胶效果的几种措施 22
第五章 抗蚀剂膜的干燥（前烘） 25
第六章 曝光 27
6-1曝光工艺过程 27
6-2光致抗蚀剂的分辨率 29
6-3影响分辨率的几种因素 30
第七章 显影 35
7-1显影的要求 35
7-2显影对光刻质量的影响 36
第八章 抗蚀剂膜的坚固（坚膜） 39
第九章 腐蚀 40
9-1腐蚀的作用 40
9-2腐蚀液的选择 41
9-3二氧化硅的腐蚀 44
9-4硅的腐蚀 50
9-5 铝等金属的腐蚀 51
第十章 抗蚀剂膜的去除（去胶） 54
第十一章 光刻中常见的弊病及防止改进的措施 55
第十二章 光刻技术的发展动态 63
12-1大面积光刻 63
12-2明室操作 65
12-3投影光刻 65
12-4 电子束光刻和离子束掺杂 68