第1章 概述 1
1.1 研究背景 1
1.2 研究对象和方法 5
第2章 LCD专利态势分析 11
2.1 LCD全球专利申请分析 11
2.1.1 全球专利申请趋势及发展阶段 11
2.1.2 全球各技术分支发展趋势 16
2.1.3 全球主要国家或地区专利分布 18
2.1.4 全球专利申请人排名 19
2.2 LCD中国专利申请分析 22
2.2.1 中国专利申请趋势 22
2.2.2 中国专利各技术分支发展趋势 28
2.2.3 中国专利主要国家或地区分布 30
2.2.4 中国专利申请人分析 35
2.3 LCD专利技术分析 40
2.3.1 阵列技术专利分析 40
2.3.2 成盒技术专利分析 43
2.3.3 测试修补技术专利分析 47
2.3.4 背光技术专利分析 50
2.3.5 驱动技术专利分析 52
2.3.6 固定支撑装配技术专利分析 55
第3章 氧化物TFT技术专利分析 58
3.1 概述 58
3.2 氧化物TFT专利申请态势分析 60
3.2.1 全球专利申请趋势及主要国家对比 60
3.2.2 各主要技术分支构成及国别对比 64
3.2.3 主要技术输出国技术流向分析 68
3.2.4 中国专利态势分析 68
3.3 氧化物TFT技术发展分析 72
3.3.1 氧化物TFT技术发展路线图 73
3.3.2 氧化物TFT技术功效分析 74
3.3.3 沟道层材料应用状况分析 77
3.4 申请人分析 79
3.4.1 全球及中国专利申请人排名 79
3.4.2 主要申请人专利布局及趋势分析 81
3.4.3 各省市产学研分析及国内申请人排名 84
3.5 重要申请人专利分析 87
3.5.1 三星公司专利状况分析 87
3.5.2 夏普公司专利状况分析 88
3.5.3 友达光电专利状况分析 90
3.5.4 惠普公司专利状况分析 92
3.5.5 各公司专利状况对比分析 93
3.6 重要发明人分析 94
3.6.1 细野秀雄及其团队 94
3.6.2 霍夫曼及其团队 99
3.6.3 研发团队对比分析 107
3.7 重要专利的筛选 109
3.7.1 选取规则 109
3.7.2 代表性专利目录 109
第4章 GOA技术专利分析 115
4.1 概述 115
4.2 GOA专利申请态势分析 116
4.2.1 全球专利态势趋势及主要国家对比 116
4.2.2 各主要技术分支构成及国别对比 120
4.2.3 主要技术输出国技术流向分析 123
4.2.4 中国专利态势分析 124
4.3 申请人分析 128
4.3.1 全球及中国专利申请排名 128
4.3.2 主要申请人专利布局 132
4.4 重要申请人专利分析 133
4.4.1 友达光电 133
4.4.2 京东方 136
4.5 重要技术专利分析 137
4.5.1 测试技术分析 143
4.5.2 修补技术分析 143
第5章 三星公司专利分析 144
5.1 发展概况 144
5.2 三星全球专利分析 148
5.2.1 专利申请发展趋势分析 148
5.2.2 技术发展状况分析 151
5.2.3 目标国家／地区分析 153
5.3 三星中国专利分析 154
5.3.1 专利申请发展趋势分析 154
5.3.2 技术发展状况分析 154
5.3.3 法律状态分析 156
5.4 三星研发构成分析 157
5.4.1 子公司申请状况 157
5.4.2 合作申请状况 158
5.5 三星公司并购分析 183
5.5.1 美国Clairvoyante Inc. 183
5.5.2 荷兰Liquavista 185
5.6 三星专利许可分析 191
5.7 三星代表性专利分析 192
第6章 夏普公司专利分析 194
6.1 发展概况 194
6.2 夏普专利状况分析 196
6.2.1 全球专利申请发展趋势分析 196
6.2.2 技术发展状况分析 197
6.2.3 目标国家／地区分析 199
6.2.4 中国专利法律状态 201
6.3 夏普研发构成分析 202
6.3.1 子公司申请状况 202
6.3.2 合作申请状况 203
6.4 夏普公司并购分析 203
6.5 夏普技术转让分析 206
6.6 夏普研发动向分析 207
第7章 友达光电专利分析 213
7.1 发展概况 213
7.2 友达光电全球专利分析 215
7.2.1 专利申请发展趋势分析 215
7.2.2 目标国家／地区分析 217
7.3 友达光电中国专利分析 218
7.3.1 专利申请发展趋势分析 218
7.3.2 技术发展状况分析 218
7.3.3 法律状态分析 219
7.4 友达光电专利合作和收购分析 221
7.4.1 合作申请 221
7.4.2 公司并购分析 222
7.4.3 技术引进分析 225
7.5 友达光电重要发明人分析 226
7.5.1 罗方祯简介 226
7.5.2 罗方祯代表性专利 227
第8章 专利侵权诉讼状况分析 230
8.1 全球专利侵权诉讼整体状况 230
8.2 巨头的较量——三星、夏普专利诉讼分析 231
8.2.1 夏普公司专利诉讼概况 231
8.2.2 三星、夏普专利诉讼案情回顾 232
8.2.3 案例评析与启示 239
8.3 崛起的代价——友达光电专利纠纷分析 243
8.3.1 友达光电近年专利纠纷概述 243
8.3.2 案例评析与启示 254
8.4 风险与价值——NPE生存模式分析 260
8.4.1 NPE近年涉诉案件情况简介 260
8.4.2 NPE的风险与价值分析 264
第9章 结论 267
9.1 针对LCD整体专利态势 267
9.2 针对氧化物TFT技术 268
9.3 针对GOA技术 268
9.4 针对三星公司专利状况 268
9.5 针对夏普公司专利状况 269
9.6 针对友达光电专利状况 269
9.7 针对LCD行业专利侵权诉讼 269
附表 主要申请人名称约定表 271
图索引 280
表索引 283