第1章 绪论 1
1.1 引言 1
1.2 钼基高温抗氧化涂层的性能要求 2
1.3 钼基高温抗氧化涂层的研究现状 3
1.3.1 涂层体系 3
1.3.2 涂层结构 5
1.3.3 涂层的制备工艺 7
1.4 二硅化钼基涂层 10
1.4.1 二硅化钼概述 10
1.4.2 二硅化钼的氧化性能 11
1.4.3 二硅化钼涂层的制备方法 12
1.4.4 二硅化钼作为涂层材料应用的限制 12
1.4.5 硼化钼层 14
1.5 研究思路和主要研究内容 16
第2章 实验方案与方法 17
2.1 实验材料 17
2.2 实验仪器 17
2.3 制备方法 18
2.3.1 大气等离子喷涂法 18
2.3.2 原位化学气相沉积法 19
2.4 样品表征 20
2.4.1 形貌结构和成分表征 20
2.4.2 性能表征 20
第3章 大气等离子喷涂制备二硅化钼涂层 23
3.1 引言 23
3.2 实验过程 23
3.2.1 基体材料的准备 23
3.2.2 大气等离子喷涂粉末的制备 24
3.2.3 大气等离子喷涂制备二硅化钼涂层 24
3.3 自蔓延高温合成二硅化钼粉末特性 24
3.4 团聚球形二硅化钼粉末的制备 25
3.4.1 雾化造粒后二硅化钼粉末的特性 26
3.4.2 热处理后的团聚二硅化钼粉末 27
3.5 二硅化钼涂层的制备 29
3.5.1 喷涂工艺参数对二硅化钼涂层组织和结构的影响 30
3.5.2 喷涂工艺对二硅化钼涂层性能的影响 34
3.5.3 关键等离子喷涂参数（CPSP）对涂层结合强度的影响 39
3.5.4 调整喷涂工艺后二硅化钼涂层的特性 40
3.6 二硅化钼涂层的抗氧化性能 42
3.7 本章小结 42
第4章 原位化学气相沉积法制备硼化钼涂层 45
4.1 引言 45
4.2 实验过程 45
4.2.1 基体材料的准备 45
4.2.2 硼化钼涂层的制备 46
4.3 原位化学气相沉积法制备硼化钼涂层 47
4.3.1 不同工艺条件对MoB涂层相组成的影响 47
4.3.2 不同工艺条件下制备的MoB涂层的组织形貌 50
4.4 硼化钼涂层的成长动力学研究 52
4.4.1 活化剂的含量对硼化钼层成长的影响规律 52
4.4.2 沉积时间对硼化钼层成长的影响规律 52
4.4.3 沉积温度对硼化钼层成长的影响规律 54
4.4.4 硼的含量对硼化钼层成长的影响规律 55
4.5 硼化钼涂层的性能 55
4.5.1 力学性能 55
4.5.2 氧化性能 56
4.6 本章小结 59
第5章 原位化学气相沉积法制备二硅化钼/硼化钼复合涂层 60
5.1 引言 60
5.2 实验方法 61
5.2.1 基体的准备 61
5.2.2 MoSi2涂层的制备 61
5.2.3 MoSi2/MoB复合涂层的制备 62
5.3 二硅化钼涂层 64
5.4 二硅化钼/硼化钼复合涂层 68
5.5 二硅化钼涂层成长的动力学研究 71
5.5.1 二硅化钼涂层的成长模型 71
5.5.2 沉积工艺条件与二硅化钼涂层成长速率之间的关系 77
5.6 二硅化钼/硼化钼复合涂层成长的动力学研究 80
5.6.1 沉积时间对在硼化钼层上制备的二硅化钼涂层成长的影响规律 80
5.6.2 沉积温度对在硼化钼层上制备的二硅化钼涂层成长的影响规律 80
5.7 二硅化钼/硼化钼复合涂层的力学性能 82
5.8 本章小结 82
第6章 二硅化钼/硼化钼复合涂层的氧化性能和涂层中硅元素扩散 84
6.1 引言 84
6.2 实验方法 85
6.2.1 基体的准备 85
6.2.2 二硅化钼涂层和二硅化钼/硼化钼复合涂层的制备 86
6.3 二硅化钼/硼化钼复合涂层的氧化性能研究 86
6.3.1 氧化动力学研究 86
6.3.2 氧化产物分析 89
6.3.3 氧化后二硅化钼单层和二硅化钼/硼化钼复合涂层的截面形貌与组成 91
6.4 涂层中硅元素的扩散 97
6.4.1 中间硅化物的成长机制 97
6.4.2 中间硅化物的成长速率 99
6.5 本章小结 101
参考文献 102