第一章 结构特性 1
一、对称性 1
二、晶面 3
三、填充率 7
四、表面覆盖层 11
五、催化剂载体 15
六、体内和表面缺陷 16
参考文献 21
第二章 晶体形态学 22
一、表面能及晶体形状 22
二、金属-载体间的相互作用 26
三、表面能及晶体取向 29
四、多元体系的表面能 30
参考文献 38
第三章 界间面平衡 40
一、吸附等温线和等容线 40
二、模型等温线 53
参考文献 59
第四章 吸附和脱附动力学 61
一、Lennard—Jones位能曲线 61
二、吸附动力学 63
三、脱附动力学 68
参考文献 75
第五章 结合状态及吸附质结构 77
一、低能电子衍射（LEED）法 77
二、光电子发射光谱法 82
三、吸附质—诱导的表面重建 96
参考文献 100
第六章 金属与载体物质间的界间面反应 103
一、金属—载体间的反应 103
二、金属互化物 105
参考文献 112
第七章 非金属催化剂的电子特性 113
一、结构缺陷 113
二、点缺陷 115
三、热力学缺陷 117
四、表面状态 120
五、催化应用 123
参考文献 130
第八章 多组分金属氧化物的无序性 131
一、金属氧化物 131
二、尖晶石 131
三、钙钛矿 133
四、白钨矿 137
五、金属氧化物晶体的剪切结构缺陷 140
参考文献 143
第九章 金属氧化物的催化作用 144
一、尖晶石 144
二、钙钛矿 148
三、白钨矿 152
参考文献 156
第十章 晶粒界面的表面性质 158
一、晶粒界面的结构 158
二、晶粒界面能量学 168
三、晶粒界面处的组分偏集 172
四、模型等温线 175
五、多元组分体系中的选择偏集 181
六、晶粒界面结构对偏集的影响 186
参考文献 191
第十一章 金属表面氧化层的形成 194
一、一般原理 194
二、氧化层成核与生长过程 196
三、扩散控制的金属氧化作用 200
四、界间面反应控制的金属氧化作用 209
五、挥发性物种的形成 212
六、外延生长的氧化层形成 215
七、应力效应 217
八、合金的氧化作用 224
参考文献 229
第十二章 金属—电解质界间面 231
一、一般原理 231
二、金属—电解质的界间面平衡 232
三、金属—电解质界间面上的吸附作用 233
四、金属沉积动力学 240
参考文献 245