《云南电子技术》PDF下载

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  • 作  者:《云南电子技术》编辑组编
  • 出 版 社:云南省电子工业研究所
  • 出版年份:1978
  • ISBN:
  • 页数:65 页
图书介绍:近些年来,氧化铁选择性透明光刻掩模由于优良的膜特,已越来越快地用于国外集成电路和其它半导体器件制备工艺。

一、氧化铁膜生长规律及其物化特性&五机部二一一研究所 1

二、用聚乙烯二茂铁制备半透明掩模&一四四四所制版组 16

三、CVD氧化铁彩色掩模的制作&八七三厂十四车间 21

四、超微粒干版制备的一些改进&八七三厂十四车间 24

五、超微粒干版制作小结&国营四三二六厂六车间制版组 25

六、聚乙烯二茂铁的制备&重庆东方红试剂厂净化车间茂铁小组 27

七、明胶简介&重庆皮胶厂 29

八、氧化铁版自动控制装置&国营八七九厂 30

九、超微粒聚乙烯醇干版研制初步(摘录)&四川大学半导体专业 35

十、PD光掩模的研制和应用&四川大学半导体专业 亚光电工厂五车间 37

十一、减小溴化银颗粒度分散性的一个措施&重庆大学 45

十二、国外电子束制版情况简介&中国科技情报研究所重庆分所 46