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数字集成电路教程 第2版
龙忠琪主编2007 年出版357 页ISBN：7030184718本书为高等教育“十一五”国家级规划教材，也是高等院校电子技术课程数字电路部分的通用教材。全书共3个部分13章，包括数字电路分析设计基础，基础逻辑电路，组合逻辑电路，时序逻辑电路，数－模和模－数转换电路，逻......
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集成电路产业现状与发展前景
陈志，胡晓珍编著2015 年出版194 页ISBN：9787545439991本书从宏观角度介绍了目前集成电路产业的基本情况，全书分为5章：集成电路产业基础知识、全球集成电路产业的发展概况、中国集成电路产业的发展现状和空间布局、中国集成电路产业的趋势判断和战略重点、重点省...
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集成电路版图设计与Tanner EDA工具的使用
王颖编著2009 年出版230 页ISBN：9787560621968本书主要内容包括集成电路设计概论、CMOS电路设计基础、CMOS集成电路的物理结构、Tanner的L-Edit版图编辑器、设计规则检查和版图提取、使用L-Edit设计版图实例、Tanner的S-Edit电路图编辑器和电路图与版图...
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后摩尔时代集成电路新型互连技术
赵文生，王高峰，尹文言著2017 年出版223 页ISBN：9787030534187本书主要介绍了现代集成电路中互连线的研究现状和难题，系统讨论了为应对这些难题而提出的一些新型互连技术。本文主要讨论的新型互连技术包括碳纳米互连和硅通孔技术两种，其中前者利用碳纳米材料优良的物理特...
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集成电路制程设计与工艺仿真
刘睿强，袁勇，林涛编著2011 年出版220 页ISBN：9787121120220本书介绍当代集成电路设计的系统级前端、布局布线后端及工艺实现三大环节所构成的整体技术的发展，重点着眼于集成电路工艺过程的计算机仿真和计算机辅助设计，以及具体的工具软件和系统的使用。全书共12章，主要...
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纳米级CMOS超大规模集成电路可制造性设计
（美）坤杜著2014 年出版261 页ISBN：9787030400345本书的内容包括：CMOSVLSI电路设计的技术趋势；半导体制造技术；光刻技术；工艺和器件的扰动和缺陷分析与建模；面向可制造性的物理设计技术；测量、制造缺陷和缺陷提取；缺陷影响的建模和合格率提高技术；物理设计和可......
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集成电路制造技术 原理与工艺 第2版
王蔚，田丽，任明远编著；刘晓为，曹一江主审2016 年出版356 页ISBN：9787121282775本书共分5个单元，第一单元，主要介绍单晶硅衬底结构特点，体硅和外延硅片的制造方法；第二单元～第五单元，主要介绍硅芯片制造基本单项工艺（氧化、掺杂、薄膜制备、光刻、工艺集成与封装测试）的原理、方法、设备......
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CMOS射频集成电路设计
（美）托马斯H.李著2012 年出版596 页ISBN：9787121175954本书首先简要介绍了无线电发展史和无线系统原理；在回顾集成电路元件特性、MOS器件物理和模型、RLC串并联和其他振荡网络以及分布式系统特点的基础上，介绍了史密斯圆图、S参数和带宽估计技术；着重说明了现代高...
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新型电源集成电路应用手册
赵广林编著2006 年出版673 页ISBN：7121022516本书主要介绍了目前我国常用的IR（国际整流器公司）、TI（德州仪器公司）、Philips（飞利浦）、Rohm（罗姆）、Sanken（山肯）、Torex（特瑞仕）、OSEMI（安森美半导体）、Maxim（美信）、Microchip（微芯科技公司）、Linear Technology（......
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专用集成电路设计与电子设计自动化
路而红主编2004 年出版398 页ISBN：7302086052本书分四篇（器件篇、工具篇、语言篇、应用篇）全面介绍了专用集成电路设计与电子设计自动化技术。其中器件篇重点介绍常用和最新的可编程器件及性能指标，工具篇重点介绍PC环境下的EDA工具，语言篇重点介绍国际标...