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第一章 电子光学仪器与器件的基本部件 1

§1-1 电子光学仪器与器件的概况及简要工作原理 1

§1-2 电子枪 4

1.2.1 单透镜系统电子枪 4

1.2.2 双透镜系统电子枪 5

§1-3 电子枪的发射系统 5

1.3.1 发射系统的会聚作用 5

1.3.2 交叉点半径 7

1.3.3 交叉点截面上的电流密度分布 8

1.3.4 电子束发射角 10

1.3.5 截止电压 12

1.3.6 调制特性 15

1.3.7 阴极电流密度 16

§1-4 主透镜与辅助透镜 17

1.4.1 主透镜 17

1.4.2 辅助透镜 18

§1-5 显示用电子束管中电子枪的典型结构 19

1.5.1 磁聚焦电子枪 19

1.5.2 电聚焦电子枪 19

§1-6 电偏转系统 22

1.6.1 均匀电场偏转系统 22

1.6.2 倾斜板偏转系统 24

1.6.3 一次曲折板偏转系统 25

1.6.4 弯曲偏转板系统 26

1.6.5 径向偏转系统 26

1.6.6 电偏转系统的偏转像差 28

§1-7 磁偏转系统 33

1.7.1 偏转磁场的分布 33

1.7.2 磁场分布与线圈结构的关系 35

1.7.3 均匀偏转磁场的获得 37

1.7.4 均匀磁偏转系统 37

1.7.5 磁偏转系统的像差 39

1.8.1 对荧光屏的要求和屏的特性参量 43

§1-8 荧光屏 43

1.8.2 介质靶的二次发射特性和靶的平衡电位 44

1.8.3 电子束轰击介质靶面时的电流连续原理 46

第二章 显示用电子束管 48

§2-1 示波管 48

2.1.1 示波管的结构和原理 48

2.1.2 偏转后加速 50

2.1.3 偏转放大系统 53

2.1.4 普通示波管用于高频条件下出现的问题 54

§2-2 雷达定位管 58

2.2.1 雷达定位原理 58

2.2.2 几种典型的显示定位方式 58

2.2.4 圆扫描补偿原理 60

2.2.3 定位管的特点 60

§2-3 黑白显像管 61

2.3.1 电视传像原理 61

2.3.2 黑白显像管的原理和结构 62

2.3.3 晕光环和局外光的影响 65

§2-4 彩色显像管 67

2.4.1 三基色原理 67

2.4.2 彩色电视基本原理 69

2.4.3 彩色显像管的选色原理 71

2.4.4 三枪三束圆孔荫罩彩色显像管 74

2.4.5 自会聚彩色显像管 86

§2-5 计算机显示用的电子束管 95

2.5.1 偏转扫描方法 96

2.5.2 多重偏转式CRT 97

2.5.3 偏转补偿和动态聚焦 98

2.5.4 CRT中电子束的束流选通 100

2.5.5 飞点扫描管产生背景数据 100

2.5.6 CRT单像管字符产生器 101

第三章 储存管 102

§3-1 储存管的一般原理和用途 102

§3-2 网垒式储存管 103

§3-3 直观式储存管 105

§3-4 存图管（电子激发导电式储存管） 108

4.2.1 典型结构和工作原理 111

§4-2 单级像增强管 111

第四章 变像管和像增强管 111

§4-1 变像管和像增强管的应用 111

4.2.2 像增强管的光放大系数 112

4.2.3 像增强管中的宽电子束聚焦问题 113

4.2.4 像增强管的特性参量和测试 114

§4-3 串联式和级联式像增强管 118

4.3.1 串联式像增强管 118

4.3.2 级联式像增强管 119

§4-4 微通道式像增强管 121

4.4.1 结构特点和工作原理 121

4.4.2 微通道管内的电子轨迹和电子增益 122

4.5.1 倒像式微通道板像增强管 123

§4-5 带有微通道板的像增强器 123

4.5.2 像增强领域中的新进展——第三代薄片管 125

第五章 摄像管 127

§5-1 摄像管的一般工作原理 127

5.1.1 摄像管的作用和分类 127

5.1.2 光学图像转变为电信号的原理 127

5.1.3 慢电子束扫描时靶的平衡电位与慢电子扫描摄像管电子光学特点… 128

5.1.4 摄像管的原理性结构 134

5.1.5 摄像管的特性参量 137

§5-2 Sb2S3靶视像管 142

5.2.2 视像管的工作原理 143

5.2.1 Sb2S3靶视像管的典型结构 143

5.2.3 视像管的特性参量 146

§5-3 PbO靶视像管 147

5.3.1 阻挡型光导靶的体电阻率和势垒高度 147

5.3.2 PbO靶的靶面结构 148

5.3.3 PbO靶视像管的特性参量 149

§5-4 Si靶视像管 151

5.4.1 靶面结构和Si靶管的工作原理 151

5.4.2 硅靶视像管的特性参量 152

5.5.1 微光电视的应用 153

§5-5 微光摄像管 153

5.5.2 微光摄像管在黑夜摄像的理论基础 154

5.5.3 硅靶电子倍增摄像管（SEM管） 156

5.5.4 二次电子导电摄像管（SEC管） 157

§5-6 单管彩色摄像管 160

5.6.1 单管彩色摄像管的理论基础 160

5.6.2 单管彩色摄像管的结构和特性 167

§5-7 摄像管的发展动向 168

第六章 透射式电子显微镜（TEM） 170

§6-1 光学显微镜分辨本领的理论极限 170

§6-2 电子的波动性 173

6.3.1 透射电镜与光学显微镜的对比 175

6.3.2 透射电镜的简要工作原理和结构特点 175

§6-3 透射式电子显微镜（TEM） 175

§6-4 磁透镜 177

6.4.1 磁透镜的分类及其性质 177

6.4.2 强磁透镜的理论计算 179

6.4.3 磁透镜的设计 182

6.4.4 磁透镜的像差 184

§6-5 透射式电子显微镜的照明系统 187

6.5.1 电子枪的亮度 187

6.5.2 电子枪 191

6.5.3 聚光系统 197

6.5.4 照明系统合轴 199

§6-6 透射式电子显微镜的成像系统 203

6.6.1 成像系统的主要组成部件 204

6.6.2 成像系统工作原理 206

§6-7 电子透镜的景深、焦深和轴上像散 211

§6-8 透射式电子显微镜中像的形成和衬度机理 214

6.8.1 单个原子对入射电子的散射作用 214

6.8.2 振幅衬度 215

6.8.3 衍射衬度 216

6.8.4 相位衬度 216

§6-9 透射式电子显微镜的分辨本领 217

6.9.1 分辨本领 217

6.9.2 电子衍射所决定的分辨本领 218

6.9.3 理论分辨本领 218

6.9.4 各种像差对分辨本领的影响 219

第七章 扫描电子显微镜 222

§7-1 扫描电子显微镜的简要工作原理 222

§7-2 扫描电子显微镜中各种信息的产生 224

§7-3 扫描电子显微镜的电子探针系统 228

§7-4 扫描电子显微镜的偏转系统 231

§7-5 二次电子探测器 232

§7-6 电子探针系统的理论限制 235

第八章 电子束技术和应用 242

§8-1 电子束曝光 242

8.1.1 电子束曝光技术的发展 242

8.1.2 几种电子束曝光的方法 244

8.1.3 对电子束曝光机的要求 246

§8-2 电子束曝光机的结构和特点 248

8.2.1 电子束曝光机的结构 248

8.2.2 电子束的偏转与扫描 250

8.2.3 电子光柱体的类型 251

8.2.4 电子束对准系统 254

8.2.5 利用电子束偏转自动对准图形 254

8.2.6 对电子敏感的聚合物——电子抗蚀剂 255

8.2.7 电子束曝光的限制 256

§8-3 电子束曝光机的应用 257

8.3.1 光掩模版的制造 257

8.3.2 利用电子束曝光和离子束掺杂制造微波开关 258

8.4.1 电子束加工的特点 260

§8-4 电子束加工 260

8.4.2 电子束加工机的特点 261

8.4.3 电子束加工机的应用 261

第九章 离子注入技术 264

§9-1 离子注入技术及对离子注入机的要求 264

9.1.1 离子注入技术简介 264

9.1.2 离子注入技术的发展 264

9.1.3 离子注入技术的特点 264

9.1.4 对离子注入机的性能要求 265

9.1.5 离子注入机的结构和类型 267

9.2.1 离子源 269

§9-2 离子注入机 269

9.2.2 离子束的聚焦 283

9.2.3 质量分析器 306

9.2.4 离子注入机的真空系统和注入机的终端设备 314

§9-3 离子注入技术在微电子学中的应用 321

9.3.1 高频低噪声微波管 322

9.3.2 用离子注入制备高电阻 323

9.3.3 化合物半导体的离子注入 324

9.3.4 用离子注入法制发光二极管 325

9.3.5 离子注入技术在其他方面的应用 325

§9-4 离子注入技术的发展 327

参考文献 329