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目录 1

第一章 复合镀层 1

Indira Rajagopal著，范玉殿译 1

1.1 引言 1

1.1.1 微粒弥散金属复合材料 2

1.1.2 电镀复合材料的制取 4

1.1.3 机理 6

1.1.4 微粒弥散金属复合材料的性能 10

1.1.5 润滑镀层 13

1.1.6 耐磨镀层 15

1.1.7 复合金刚石镀层 35

1.1.8 抗蚀镀层 37

1.1.9 热处理金属或合金镀层 39

1.1.10 特殊用途的镀层 40

1.1.11 结束语 41

参考文献 42

1.2 纤维增强金属复合材料 46

1.2.1 纤维增强的力学 47

1.2.2 纤维和基体的选择 49

1.2.3 纤维增强金属复合材料的电镀 53

1.2.4 纤维增强金属基复合材料的性能 66

1.2.5 结束语 72

参考文献 73

1.3 化学镀复合材料 74

1.3.1 化学镀复合材料的实验沉积方法 74

1.3.2 化学镀复合材料与电镀复合材料的比较 76

1.3.3 研究的系统 79

1.3.4 化学镀复合材料的结构 86

1.3.5 表面光洁度 89

1.3.6 化学镀复合材料的硬度和耐磨性 93

1.3.7 化学镀复合材料的应用 113

1.3.8 结束语 117

参考文献 117

1.4 层状复合材料 119

1.4.1 层状复合材料的例子——Koehler强固体 120

1.4.2 电镀层状复合材料举例 121

1.4.3 结束语 125

参考文献 126

1.5 光学复合材料 126

1.5.1 复合材料光学性能的理论 127

1.5.2 光学复合材料的制取 130

1.5.3 光学复合材料的结构和性能 131

1.5.4 光学复合材料的形成机理 132

1.5.5 应用 133

参考文献 134

第二章 化学气相沉积 135

Deepak G．Bhat著，张济忠译 135

2.1 引言 135

2.2 镀层的分类 135

2.3 气相沉积技术 137

2.4 化学气相沉积（CVD） 138

2.4.1 CVD的化学反应 140

2.4.2 CVD工艺的模型 141

2.4.3 CVD制取的材料 147

2.4.4 CVD镀层的应用 159

2.5 金属有机化合物化学气相沉积（MOCVD） 173

2.6 等离子体辅助化学气相沉积（PACVD） 175

2.6.1 引言 175

2.6.2 PACVD的应用 178

2.7 激光化学气相沉积（LCVD） 184

2.8 结束语 188

参考文献 188

第三章 表面改性的离子束技术 206

Hillary Solnick-Legg和Keith O．Legg著，张效忠译 206

3.1 引言 206

3.2 离子束技术的发展 206

3.3 离子注入 209

3.3.1 离子注入基础 209

3.3.2 离子注入设备和方法 214

3.3.3 选用离子注入的考虑因素 221

3.3.4 注入材料的特性 223

3.3.5 实验室试验结果 227

3.3.6 工业工具的实验室试验 241

3.4 离子辅助镀膜（IAC） 244

3.4.1 引言 244

3.4.2 IAC的机理 245

3.4.3 考虑因素 246

3.4.4 IAC的方法、应用和结果 247

3.5 结束语 257

参考文献 258

4.1 引言 264

4.2 概述 264

John Keem著，王怡德译 264

第四章 溅射技术 264

4.3 薄膜气相沉积表面改性技术 265

4.4 蒸气流形成过程 267

4.4.1 溅射 267

4.4.2 辉光放电 271

4.5 技术简介 273

4.5.1 辉光放电沉积 273

4.5.2 平面磁控溅射 277

4.5.3 离子束溅射 280

4.6 技术特性 282

4.7 应用 284

4.7.1 不锈钢抗蚀镀层 284

4.7.2 切削工具镀层的平面磁控溅射 286

4.7.3 离子束溅射x射线反射器 290

4.8 结束语 294

参考文献 294

第五章 等离子体处理 296

Sidney Dresser著，冯嘉尤译 296

5.1 扩散镀层 296

5.2 等离子体表面处理 297

5.3辉光放电原理 298

5.3.1 分压控制 299

5.3.2 巴邢定律 301

5.3.3 辉光放电的电学特性 301

5.3.4 辉光放电的其它特性 306

5.3.5 辉光放电的屏蔽 309

5.4 等离子体渗氮的化学原理 310

5.4.1 显微结构 312

5.4.2 化合物层的控制 313

5.4.3 等离子体渗氮的特点 314

5.5 等离子体渗碳的化学原理 315

5.5.1 等离子体渗碳的优点 315

5.6 设备和辅助系统 322

5.6.1 功率有荷因数 323

5.6.2 微机控制 326

5.6.3 工件安置 327

5.7 温度的均匀性 327

5.8 处理工艺 330

5.8.1 真空处理清除空气和水蒸气 331

5.8.2 对流加热清除吸附的水 332

5.8.3 溅射清洗扩散阻挡层 333

5.8.4 各种离子的添加 334

5.8.5 炉体和工体温度的控制 335

5.8.6 混合气体和等离子体参量的控制 336

5.8.7 对流冷却和液体淬火 337

5.8.8 等离子体渗氮的工艺参数 338

5.8.9 空心阴极 345

5.8.10 深孔等离子体渗氮 350

5.9 等离子体渗氮的典型例子 351

5.9.1 碳钢 351

5.9.2 合金钢 352

5.9.3 耐热钢 355

5.9.4 冷加工模具钢 356

5.9.5 氮化钢 361

5.9.6 不锈钢 364

5.9.8 油井钻探工具 366

5.9.7 柴油机定时齿轮 366

5.9.9 马氏体时效钢 367

5.9.10 铝和铝合金 370

5.9.11 钛和钛合金 371

5.9.12 粉末冶金零件 374

5.10 等离子体渗碳的典型例子 376

5.10.1 钨弹头 378

5.11 等离子体渗硼 381

5.12 等离子体渗钛 383

5.13 结束语 384

参考文献 385

P．A．Molian著，周昌炽译 388

6.1 引言 388

第六章 激光表面合金化 388

6.2 激光源 390

6.3 工艺参数 393

6.4 激光表面合金化 397

6.4.1 铬和镍的表面合金化 398

6.4.2 等离子喷涂表面合金化 421

6.4.3 切削工具的硼和氮化硼表面合金化 422

6.4.4 激光合金化层的腐蚀、磨损、硬度和微观结构 431

6.5 激光熔覆 434

6.5.1 激光熔覆高温应用陶瓷层 436

6.6 结束语 441

参考文献 441

第七章 电子束镀膜 444

Siegfried Schiller,Ullrich Heisig和PeterFrach著，王怡德译 444

7.1 作为载能体的电子束 444

7.1.2 热电子和二次电子发射 445

7.1.1 电子背散射 445

7.1.3 x射线辐射 446

7.1.4 能量传递 446

7.2 蒸镀 448

7.2.1 电子束蒸镀原理 448

7.2.2 残余气体、蒸气与电子之间的相互作用 449

7.3 各种材料的蒸发 452

7.3.1 元素 452

7.3.2 合金 455

7.3.3 化合物 460

7.4 蒸气传播 462

7.4.1 小面积蒸发器 462

7.4.2 蒸发源大范围分布的蒸发装置 466

7.4.3 短自由程蒸气的传播 468

7.5 蒸发器 472

7.5.1 电子束蒸发器 472

7.5.2 坩埚结构 479

7.5.3 送料方式 482

7.6 蒸发速率 484

7.6.1 功率密度与蒸发速率 484

7.6.2 蒸发参数与凝聚速率 486

7.6.3 蒸发过程的控制 487

7.7 等离子体辅助电子束蒸镀 487

7.7.1 离子镀 488

7.7.2 活性反应蒸镀 495

7.7.3 离子辅助镀膜技术的比较 496

7.8.1 电子束蒸发器的应用 498

7.8.2 电子束蒸发器在标准设备中的应用 498

7.8 电子束蒸镀的工业应用 498

7.8.3 电子束蒸发器在特殊设备中应用的例子 500

参考文献 505

第八章 渗硼和扩散金属化 515

Ruth Chatterjee-Fischer著，范玉殿译 515

8.1 渗硼 515

8.1.1 钢铁材料的渗硼 515

8.1.2 有色金属及其合金的渗硼 522

8.2 渗硼方法 522

8.2.1 钢铁材料 522

8.2.2 有色金属及其合金 531

8.3 硼化物形成的检测 533

8.3.1 硬度测定 533

8.3.2 厚度测定 534

8.3.3 结构测定 535

8.4 渗硼层的性能 536

8.4.1 耐磨性能 536

8.4.2 腐蚀行为 538

8.4.3 机械性能 540

8.5 多元渗硼 541

8.6 渗硼的应用 544

8.7 扩渗金属 . 546

8.8 扩渗金属的例子 548

8.8.1 渗铬 548

8.8.2 渗钒 550

8.8.3 渗铝 551

8.8.4 渗硅 552

8.8.5 应用 553

参考文献 554