半导体工艺化学PDF电子书下载

第一章 相图及其应用 1

§1-1 相律 1

§1-2 单组分二相物系的相平衡 4

§1-3 二组分物系的相平衡 10

§1-4 组分凝聚物系的各类相图 15

§1-5 相图在半导体生产中的应用 26

复习题 32

第二章 半导体技术中的有机物和高聚物 35

§2-1 有机化合物概论 35

§2-2 半导体生产中常用的有机物 41

§2-3 高聚物概论 51

§2-4 半导体生产中常用的高聚物 58

复习题 74

第三章 半导体技术中的高纯水 76

§3-1 半导体工程用水 76

§3-2 离子交换法制备高纯水 79

§3-3 电渗析法制备高纯水 89

§3-4 其它方法制备高纯水 93

§3-5 高纯水的纯度测量 96

复习题 101

第四章 半导体技术中的化学清洗 103

§4-1 半导体晶片表面沾污的杂质 103

§4-2 半导体晶片上有机杂质的清除 105

§4-3 络合物简介 111

§4-4 半导体晶片上无机杂质的清除 116

§4-5 高纯水在清洗中的作用 124

§4-6 超声波在清洗中的作用 125

§4-7 其它清洗方法 126

复习题 127

第五章 表面化学及其应用 128

§5-1 表面能及表面张力 128

§5-2 固体表面的吸附作用 135

§5-3 吸附在半导体工艺中的应用 147

§5-4 溶液的表面吸附作用 151

§5-5 裘面活性物质 153

复习题 164

第六章 半导体技术中的电化学 166

§6-1 电化学概论 166

§6-2 几种电极 169

§6-3 半导体技术中的腐蚀 173

§6-4 半导体材料的腐蚀 177

§6-5 等离子体辅助腐蚀 190

§6-6 金属的腐蚀 193

§6-7 影响化学腐蚀的因素 200

§6-8 电镀、电沉积、阳极氧化 203

复习题 206

第七章 光化学及其应用 206

§7-1 光化学基本概念和定律 206

§7-2 光化反应及速度方程式 214

§7-3 照相工艺中的光化学 216

§7-4 光刻工艺中的光化学 231

§7-5 半导体工艺中的激光化学 240

复习题 245

参考文献 245