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半导体材料的分析
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工业技术

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  • 作 者:冶金工业部科学技术情报产品标准研究所编
  • 出 版 社:北京:科学出版社
  • 出版年份:1966
  • ISBN:13031·2297
  • 页数:89 页
图书介绍:
《半导体材料的分析》目录

目录 1

第一章 高纯硅及其化合物的分析 1

§1-1 纯硅和二氧化硅中微量杂质的化学光谱测定 1

§1-2 高纯硅、二氧化硅、石英、四氯化硅、三氯硅烷中痕量杂质的化学光谱测定 3

§1-3 三氯硅烷中痕量杂质的化学光谱测定 7

§1-4 三氯硅烷中痕量镉、铟、铅、铜、铋的汞齐极谱测定 10

§1-5 三氯硅烷和四氯化硅中痕量硼的化学光谱测定(Ⅰ) 12

§1-6 三氯硅烷中痕量硼的化学光谱测定(Ⅱ) 15

§1-7 三氯硅烷含量的测定 17

第二章 高纯锗和二氧化锗的分析 21

§2-1 二氧化锗中痕量杂质的化学光谱测定 21

§2-2 二氧化锗中痕量硼的化学光谱测定 25

§2-3 二氧化锗中微量硼的比色测定 28

§2-4 二氧化锗中微量硅的测定 30

Ⅰ.目视比色法 30

Ⅱ.萃取光度法 31

§2-5 二氧化锗中痕量砷的测定 33

§2-6 锗及二氧化锗中痕量锑的测定 35

§2-7 二氧化锗中痕量钠的测定 37

第三章 高纯镓、砷及其化合物的分析 39

§3-1 高纯镓中痕量杂质的化学光谱测定 39

§3-2 高纯镓中痕量金的比色测定 41

§3-3 高纯镓中痕量铁的比色测定 43

§3-4 高纯砷及其化合物中痕量杂质的化学光谱测定 44

§3-5 高纯砷中痕量杂质的化学光谱测定 47

§3-6 高纯砷中痕量锑的比色测定 50

§3-7 高纯砷中痕量硒的比色测定 51

§3-8 高纯砷中硫的散射浊度法测定 53

§3-9 高纯砷和三氯化砷中痕量碲的示波极谱测定 54

§3-10 高纯砷和氧化砷中痕量锡的化学光谱测定 56

§3-11 高纯镓、砷和氧化砷中痕量硫的比色测定 58

§3-12 高纯镓、砷和氧化砷中痕量汞的化学光谱测定 60

§3-13 高纯镓、砷和砷化镓中痕量硅的比色测定 63

§3-14 砷化镓中痕量杂质的化学光谱测定 66

§3-15 砷化镓中碲的方波极谱测定 68

第四章 高纯铟的分析 70

§4-1 高纯铟中痕量杂质的化学光谱测定 70

§4-2 高纯铟中锑、镓、铊、金、铁的化学光谱测定 72

Ⅰ.高纯石墨中微量杂质的化学光谱测定 76

附录1 高纯石墨的分析 76

Ⅱ.高纯石墨中痕量硼的光谱测定 78

Ⅲ.高纯石墨中痕量硼的化学光谱测定 80

附录2 几种试剂的提纯 84

Ⅰ.水 84

Ⅱ.盐酸 84

Ⅲ.硝酸 86

Ⅳ.氢氟酸 86

Ⅴ.氢溴酸 87

Ⅵ.高氯酸 87

Ⅶ.氢氧化铵 88

Ⅷ.溴 89

Ⅸ.异丙醚 89

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