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第一章 定义 1

1·1 釉的定义 1

1·2 玻璃的定义 2

1·3 玻璃态 3

1·4 玻璃结构 5

第二章 釉的分类 12

第三章 原料 14

3·1 原料的选择 14

3·2 常用的原料 17

3·2·1 硅 17

3·2·2 铝 19

3·2·3 碱金属 23

3·2·4 碱土金属 28

3·2·5 钛 34

3·2·6 锆 35

3·2·7 铈 37

3·2·8 氟 38

3·2·9 硼 39

3·2·10 锌 42

3·2·11 锡 43

3·2·12 铅 44

3·2·13 陶瓷釉的着色剂 48

4·1 熔块在釉中的作用 59

4·2 熔块的构成 59

第四章 熔块制备 59

4·3 熔块的使用 60

4·4 熔块制造 61

4·4·1 原料的选择 61

4·4·2 基本原料 62

4·4·3 生产程序 63

4·5 熔块的配料混合和熔融 63

4·6 用于熔块配料的原料特性 64

4·7 配料混合的均匀性 65

4·8 分层或分离 66

4·9·1 坩埚熔融 67

4·9·2 大批量熔融 67

4·9 熔块熔融的类型 67

4·10 熔块反应 69

4·11 熔块熔融 70

4·12 熔块质量测试 74

第五章 釉料制备工艺 75

5·1 粉碎 75

5·2 球磨 76

5·2·1 磨球内衬 77

5·2·2 研磨介质的种类和大小 77

5·2·3 球磨装载 79

5·2·4 釉的比重 80

5·2·5 球磨转速 81

5·2·6 干磨 82

5·3 振动磨 83

5·4 球磨操作 84

第六章 坯釉相关热膨胀性 89

6·1 玻璃的转变范围 89

6·2 用膨胀计测量热膨胀 90

6·3 釉适应性 93

6·4 热膨胀曲线 96

6·5 差热膨胀△及抗龟裂性 97

6·5·1 正常膨胀的釉 100

6·5·2 低膨胀釉 101

6·5·3 高膨胀釉 101

6·5·5 釉一坯界面 102

6·5·4 结晶釉的热膨胀 102

6·5·6 釉应力 103

6·5·7 龟裂试验 106

6·6 釉一坯反应层（缓冲层） 107

第七章 釉式 111

7·1 釉的分类 111

7·2 铅釉或无铅釉 112

7·2·1 锶釉 115

7·3 生料釉或熔块釉 116

7·4 一次烧成和二次烧成 117

7·5 空心器皿或浅平器皿 119

7·6 快速烧成或“传统”烧成 120

7·7 颜色釉 121

7·7·1 颜料 122

7·7·2 硫化镉／硒黄、橙黄和红釉 126

7·8 透明釉和乳浊釉 128

7·9 特殊效果的釉 135

7·9·1 无光釉 136

7·9·2 缎光釉或半无光釉 137

7·9·3 结晶釉 137

7·9·4 网纹裂纹釉 139

7·9·5 纹片釉 140

7·10 釉的抗刮和抗滑性 140

7·11 餐具和炊具釉 141

7·11·1 餐具和炊具釉表面的金属溶出 142

7·12 精陶釉 146

7·13 骨灰瓷和玻化瓷釉 147

7·14 低膨胀釉 150

7·15 卫生洁具釉 155

7·16 炻器釉 158

7·16·1 长石釉 160

7·16·2 木灰釉 160

7·17 用于电瓷和电子陶瓷的釉 162

7·17·1 拉力绝缘子的导电釉 162

7·17·2 电子工业釉 165

7·18 建筑陶瓷 167

7·18·1 粗粘土产品 167

7·18·2 化妆土 169

7·19 混凝土板低温釉 171

7·19·1 水泥 172

7·20 瓷器釉 173

7·21 面砖釉 175

7·22 备用釉的制备 177

7·22·1 重新配制釉 177

第八章 施釉 179

8·1 浸釉 180

8·2 喷釉 183

8·2·1 气喷 183

8·2·2 喷釉的特性参数 184

8·2·3 自动喷釉 185

8·2·4 机械喷釉 186

8·2·5 静电喷釉 187

8·3 沉淀施釉法和狭带施釉法 188

8·3·1 沉淀作用 188

8·3·2 转移狭带 189

8·4 帘幕施釉 190

8·5 泥浆彩饰 191

8·6 釉坯泥 191

8·7 压制 191

8·8 浇釉 191

8·9 涂釉和刷釉 192

8·10 电泳 192

8·11 火焰喷涂 193

8·12 溶胶一凝胶施釉 194

8·13 丝网上釉 195

8·14 自动施釉 196

8·15 流化床 196

第九章 化学稳定性 198

9·1 化学侵蚀的方式 199

9·1·1 水的侵蚀 199

9·1·2 碱侵蚀 200

9·1·3 酸侵蚀 201

9·2 组成的影响 202

9·3 评定方法 206

9·3·1 晶体熔块的粉末试验法 207

9·3·2 铅熔块 208

9·4 有釉制品 209

9·4·1 卫生洁具 209

9·4·2 餐具 210

9·5 金属离子析出 210

9·6 食物的浸析作用 214

9·7 化学稳定性 215

第十章 控制方法 217

10·1 颗粒大小的测试方法 217

10·1·1 干式筛分试验 217

10·1·2 湿式筛分试验 217

10·1·3 颗粒尺寸测定 218

10·3 流动时间 219

10·2 釉浆密度 219

10·3·1 英国标准流动杯 220

10·3·2 詹氏粘度计（细孔粘度计） 220

10·3·3 扭力粘度计 221

第十一章 釉添加剂 229

11·1 釉粘结剂 229

11·2 电解质 234

11·3 解凝剂 236

11·3·1 多价阴离子解凝剂 236

11·3·2 碱性阳离子解凝剂 236

11·4 絮凝剂 237

11·4·2 二价阳离子或强阴离子絮凝剂 238

11·4·1 聚合电解质絮凝剂 238

11·5 悬浮剂 239

11·5·1 人造粘土 241

11·6 湿润剂 242

11·7 泡沫控制剂 243

11·8 釉保护剂（固定剂） 244

11·9 有机染料 244

11·9·1 用于“白色釉” 245

11·9·2 用于色釉 245

11·10 釉的变质和防腐剂 245

11·10·1 有机添加剂的衰变 245

11·10·2 防腐剂 247

第十二章 釉缺陷及克服办法 248

12·1·2 二次（后期）龟裂 249

12·1 龟裂 249

12·1·1 早期（立即）龟裂 249

12·1·3 彩烧——窑龟裂 250

12·1·4 盐裂 251

12·1·5 水泥收缩开裂 252

12·2 剥釉 253

12·3 熔块和釉中的气泡 255

12·4 大气泡 259

12·5 凹痕和针孔 260

12·6 麻釉 262

12·7 斑点 264

12·8 滚釉 268

12·9 薄釉 270

12·10 硫化（星状纹和羽毛纹饰） 271

12·11 刀痕 272

12·12 缩釉和掉釉 275

12·13 针眼（喷裂） 276

12·14 滴状物（落渣） 278

附录一配方计算 279

附录二干釉配方转换成釉浆配方 288

附录三釉浆混合 289

附录四转换系数 290

附录五釉色剂 297

附录六铅熔块及其他熔块配方 298

后记 304