电子枪与离子束技术PDF电子书下载

1.1 电子光学特征 1

1 电子光学 1

1.2 轴对称电场中的电子运动 5

1.3 电透镜 10

1.4 磁透镜 20

1.5 实用磁透镜 28

1.6 静电透镜与磁透镜的比较 31

2 电子束技术基础 32

2.1 电子束的产生及性质 33

2.2 电子枪概述 44

2.3 强流电子枪设计基础 47

2.4 电子束蒸发沉积 73

3.1 等离子体基本性质 81

3 离子束物理基础 81

3.2 等离子体的分类 88

3.3 等离子体的获得 90

3.4 低温等离子体中粒子运动和放电基本过程 92

3.5 离子束与材料表面的相互作用 108

4 强流轴向电子枪 116

4.1 概述 116

4.2 轴向电子枪基本结构和工作原理 117

4.3 轴向电子束发生系统设计计算 119

4.4 电子光路系统设计计算 133

4.5 枪室真空系统设计 144

4.6 电子枪的调试 145

4.7 强流轴向枪电源设计 146

4.8 电子枪X射线的形成与屏蔽防护 150

5 偏转电子枪 163

5.1 电子束流磁偏转理论基础 163

5.2 偏转电子枪工作原理与结构 165

5.3 偏转枪（e型枪）参数设计 175

5.4 偏转电子枪束流设计计算 180

5.5 压差孔的设计 189

5.6 电子枪头的安装与调试 195

5.7 偏转电子枪电源 199

6 空心阴极放电（HCD）电子枪 203

6.1 空心阴极放电效应 203

6.2 空心阴极电子枪工作原理 210

6.3 空心阴极电子枪设计参数 212

6.4 HCD枪中等离子体的离化率与电流形成 215

6.5 偏转电磁场的设计计算 218

6.6 空心阴极与辅助阳极的设计 230

6.7 离子镀中等离子源的束流偏转 235

7 离子束技术 237

7.1 离子源 237

7.2 离子注入技术 254

7.3 离子束沉积技术 261

8 S枪离子溅射源的设计基础 266

8.1 S枪的基本原理与结构 266

8.2 S枪溅射源结构设计 267

8.3 S枪磁控溅射的工作特性 270

8.4 基本参数的设计计算 276

参考文献 283