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《大规模集成电路专用设备研讨暨学术交流会论文选 中》目录
光刻 1
参观84年美国半导体设备和材料展览会 1
JK—1型接近式光刻机图形传递特性分析 3
国外分步重复投影光刻机(DSW系统)动态 15
1∶1扫描投影光刻机实验气浮导轨 23
适用于微细投影曝光的自动调焦调平系统 31
“环带校正板”在接近/接触式光刻机照明系统中的应用 36
国外光刻机的发展趋势 44
测试 47
掩模质量和质量检测 47
其他 56
干法腐蚀终点检测综述 56
集成电路专用设备ZPZ——1型自动芯片粘结机 65
高速、多相、高精度、程控时钟发生器 69
报道 74
为集成电路光学专用设备的发展献计献策——研究讨论暨学术交流会情况 74
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