《大规模集成电路专用设备研讨暨学术交流会论文选 上》目录
光刻设备 1
1.光学投影微细加工系统焦面附近成象结构的实验研究 1
2.光电自动调焦 10
3.KHA75—1型接近/接触式光刻机研制概要 12
4.光刻机光学系统的现状和发展 20
测试仪器 28
光学反射法在线监控的应用 28
α台阶测试仪 32
其他 35
微型机在ZSH—1型自动砂轮划片机的应用 35
集成电路专用设备ZCR—1型半自动超声热压引线焊接机 44
负型抗蚀剂——1,3DCPA的X射线曝光性能 51
远紫外光刻及其光刻胶概况 55
远紫外汞氙灯 59
我国第一条φ50mm半自动光刻线 64
XQC—1型检查显微镜通过鉴定 66
半自动光刻工艺线通过鉴定 67
原子吸收分光光度计附件XP—31氢化物发生器 XP—32石墨炉自动进样器通过鉴定 68
1KW远紫外汞氙灯通过技术鉴定 69
第三届全国“三束”及超精细工艺技术学术年会征文启事 70
机械工业部专用设备会议闭幕 71
大规模集成电路专用设备研究讨论暨学术交流会即将在杭州开幕 72
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