目 录 1
H—01 一台液氮温度下获得10-13托的金属真空系统 达道安 杨益民 1
目 录 1
H—01 一台液氮温度下获得10-13托的金属真空系统 达道安 杨益民 1
H—02 10-12托超高真空测试系统的研制 陆 明 岑力民 4
H—02 10-12托超高真空测试系统的研制 陆 明 岑力民 4
H—03对旋片泵的几点研究 荣道发 6
H—03对旋片泵的几点研究 荣道发 6
B—40真空蒸发制源技术改进 杜鸿善 贾璋(26 7
B—40真空蒸发制源技术改进 杜鸿善 贾璋(26 7
H—04滑阀式真空泵振动控制的探讨 汪学鋆 9
H—04滑阀式真空泵振动控制的探讨 汪学鋆 9
H—05 K—600A型金属油扩散泵的研制 杨乃恒姚民生 12
H—05 K—600A型金属油扩散泵的研制 杨乃恒姚民生 12
H—06氟里昂致冷的挡油障板降低返油率 王敬泉许茂桃 14
H—06氟里昂致冷的挡油障板降低返油率 王敬泉许茂桃 14
H—07溅射离子泵阴极结构试验分析 林权昌 17
H—07溅射离子泵阴极结构试验分析 林权昌 17
H—08钛泵机组残气成分的质谱分析 邱绍雄沈国华 19
H—08钛泵机组残气成分的质谱分析 邱绍雄沈国华 19
——托卡马克CT—6 B上的应用 张延哲 22
——托卡马克CT—6 B上的应用 张延哲 22
H—09锆铝吸气剂泵在核聚变装置 22
H—09锆铝吸气剂泵在核聚变装置 22
H—10涡轮分子泵叶列传输几率的蒙特卡罗计算 杨乃恒王维常 23
H—10涡轮分子泵叶列传输几率的蒙特卡罗计算 杨乃恒王维常 23
H—11 涡轮分子泵叶列传输几率的计算——积分方程法 屠基元 杨乃恒 28
H—11 涡轮分子泵叶列传输几率的计算——积分方程法 屠基元 杨乃恒 28
H—12涡轮分子泵轴承的油脂润滑 董 镛赵世勋 32
H—12涡轮分子泵轴承的油脂润滑 董 镛赵世勋 32
H—13涡轮分子泵轴承润滑的设计计算 黄克威 36
H—13涡轮分子泵轴承润滑的设计计算 黄克威 36
H—14前级泵对分子泵真空系统的影响 国强 39
H—14前级泵对分子泵真空系统的影响 国强 39
吸附等温线的研究 谢珏刘炳坤 41
吸附等温线的研究 谢珏刘炳坤 41
H—15低温低压下H2在2 X—15活性炭上 41
H—15低温低压下H2在2 X—15活性炭上 41
H—16致冷机低温泵中吸附剂与粘结剂 45
材料性能的研究 刘炳坤 45
材料性能的研究 刘炳坤 45
H—16致冷机低温泵中吸附剂与粘结剂 45
H—17国外致冷机低温泵的发展与应用 刘炳坤 46
H—17国外致冷机低温泵的发展与应用 刘炳坤 46
H—18稳态超导磁镜装置多室真空系统剩余气体密度的 50
测量和自洽计算 陈方钧 张术明 50
测量和自洽计算 陈方钧 张术明 50
H—18稳态超导磁镜装置多室真空系统剩余气体密度的 50
H—19一种供质谱仪使用的小型超高真空系统 董 镛 曹成喜 54
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H—20七十米长的大型空间模拟装置的准无油抽气 57
H—20七十米长的大型空间模拟装置的准无油抽气 57
系统 陈正全 57
系统 陈正全 57
H—21 X射线望远镜空间模拟检测装置的制造工艺 60
(真空容器部分) 李朝楷 60
(真空容器部分) 李朝楷 60
H—21 X射线望远镜空间模拟检测装置的制造工艺 60
H—22抽气时间计算方法研究 熊世杰 63
H—22抽气时间计算方法研究 熊世杰 63
H—23正负电子贮存环真空系统 程渭纶杨云 67
H—23正负电子贮存环真空系统 程渭纶杨云 67
H—24 北京质子直线加速器10MeV的真空系统 陈鹤芳 于秀珍 70
H—24 北京质子直线加速器10MeV的真空系统 陈鹤芳 于秀珍 70
H—25 大抽气量的双室窄缝真空系统 73
H—25 大抽气量的双室窄缝真空系统 73
在镀膜机上的应用 张子一 73
在镀膜机上的应用 张子一 73
H—26 一位微处理机控制的真空系统 王敬泉狄小平 77
H—26 一位微处理机控制的真空系统 王敬泉狄小平 77
H—27 一种新型的φ150毫米全金属阀 郑主安 钱国华 80
H—27 一种新型的φ150毫米全金属阀 郑主安 钱国华 80
H—28 新型真空蝶阀 冯慧生 83
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H—29 西德N62真空泵油的再生和代用 杨常青徐成海 87
H—29 西德N62真空泵油的再生和代用 杨常青徐成海 87
H—30 密封橡胶0圈的设计 蔡树铭 89
H—30 密封橡胶0圈的设计 蔡树铭 89
H—31 转动真空密封装置(摘要) 郝斌干 90
H—31 转动真空密封装置(摘要) 郝斌干 90
H—32 机械泵的长寿与再生(摘要) 康哲王彦文 91
H—32 机械泵的长寿与再生(摘要) 康哲王彦文 91
H—34 JK系列高真空抽气机组抽速不稳的解决办法(摘要) 朱同庆 92
H—33 扩大油蒸汽流泵工作区域的探讨(摘要) 任倬 92
H—34 JK系列高真空抽气机组抽速不稳的解决办法(摘要) 朱同庆 92
H—33 扩大油蒸汽流泵工作区域的探讨(摘要) 任倬 92
H—35 水蒸汽喷射真空泵的现场调试(摘要) 王建国 93
H—36 电离升华泵用的新型电离器(摘要) 郑有来储继国 93
H—35 水蒸汽喷射真空泵的现场调试(摘要) 王建国 93
H—36 电离升华泵用的新型电离器(摘要) 郑有来储继国 93
H—38 电子轰击式钛升华器的研究(摘要) 成致祥 94
H—38 电子轰击式钛升华器的研究(摘要) 成致祥 94
H—37 锆铝吸气泵的低真空工作性能(摘要) 胡复亨 潘小华 94
H—37 锆铝吸气泵的低真空工作性能(摘要) 胡复亨 潘小华 94
H—40 涡轮分子泵获得超高真空的新发展(摘要) 王德苗 任高潮 95
H—39 锆铝吸气剂泵分子泵机组的研究(摘要) 曹成喜董 镛 95
H—39 锆铝吸气剂泵分子泵机组的研究(摘要) 曹成喜董 镛 95
H—40 涡轮分子泵获得超高真空的新发展(摘要) 王德苗 任高潮 95
H—41 一台新型大抽速无油超高真空系统的研制(摘要) 王宗正 96
H—41 一台新型大抽速无油超高真空系统的研制(摘要) 王宗正 96
H—43 一个低真空大排气量真空设备的调试(摘要) 仇明宽 张孝义 97
H—42 KM 4空间环模设备主模拟室的设计与研制(摘要) 黄本诚 97
H—42 KM 4空间环模设备主模拟室的设计与研制(摘要) 黄本诚 97
H—43 一个低真空大排气量真空设备的调试(摘要) 仇明宽 张孝义 97
H—44 在场发射显微镜研究中使用的 98
几种超高真空系统(摘要) 张兆祥 富文范 98
H—44 在场发射显微镜研究中使用的 98
几种超高真空系统(摘要) 张兆祥 富文范 98
H—45 轨旋式钛泵的实验研究(摘要) 孙大明 吕时良 98
H—45 轨旋式钛泵的实验研究(摘要) 孙大明 吕时良 98
H—46 真空中材料试验样品温度调节系统设计与计算(摘要) 刘玉魁 99
H—47 不锈钢(1Cr18Ni9Ti)烘烤与氧化处理实验探讨(摘要) 99
顾庆倩梁月云 99
H—46 真空中材料试验样品温度调节系统设计与计算(摘要) 刘玉魁 99
顾庆倩梁月云 99
H—47 不锈钢(1Cr18Ni9Ti)烘烤与氧化处理实验探讨(摘要) 99
H—48 微调磁力偶合样品驱动装置(摘要) 石生亮 100
H—48 微调磁力偶合样品驱动装置(摘要) 石生亮 100
H—49 液氮温度下可拆金属法兰的铟丝密封(摘要) 温诚华 许善琳 101
H—50 致冷机低温泵设计综述(摘要) 赵清辉 101
H—50 致冷机低温泵设计综述(摘要) 赵清辉 101
H—49 液氮温度下可拆金属法兰的铟丝密封(摘要) 温诚华 许善琳 101
H—51 大升华率电子轰击式升华器 蓝增瑞 102
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H—52 低温抽气技术目前发展状况 于书永 105
H—52 低温抽气技术目前发展状况 于书永 105
H—53 JKT—200ZA型自动控制高真空机组 李云松 鲁忠泽 108
H—53 JKT—200ZA型自动控制高真空机组 李云松 鲁忠泽 108
H—54 XB—08型旋片式真空泵的研制 那振兴等 110
H—54 XB—08型旋片式真空泵的研制 那振兴等 110
H—55 K—58F型风冷式油扩散泵简介 刘慧珍等 113
H—55 K—58F型风冷式油扩散泵简介 刘慧珍等 113
H—56 涡轮分子泵叶片的微分电路模型——泄漏对叶轮压 114
缩比的影响 储继国 114
缩比的影响 储继国 114
H—56 涡轮分子泵叶片的微分电路模型——泄漏对叶轮压 114
※ ※ ※ 117
J—01 钢液的真空脱气—喷粉处理法 王鹤鸣钟开龙 117
※ ※ ※ 117
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J—02真空碳脱氧对非金属夹杂物的影响 张道茹张树藩 119
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J—03真空中频感应加热炉在钽铌生产中的应用 张瑞华 邵志俊 124
J—03真空中频感应加热炉在钽铌生产中的应用 张瑞华 邵志俊 124
J—04大尺寸定向面钼单晶研究 唐敦湘 126
J—04大尺寸定向面钼单晶研究 唐敦湘 126
J—05喷铝技术在真空冶金设备制造中的应用 张令山 130
J—05喷铝技术在真空冶金设备制造中的应用 张令山 130
J—06膜盒式真空继电器的研制 孙广生 姜增奎 132
J—06膜盒式真空继电器的研制 孙广生 姜增奎 132
J—07微型轴承真空热处理工艺的研究 刘植群 135
J—07微型轴承真空热处理工艺的研究 刘植群 135
J—09 RH工艺和设备的新进展(摘要) 王殿禄 137
J—081J79合金在真空感应炉冶炼中气体变化规律的 137
J—09 RH工艺和设备的新进展(摘要) 王殿禄 137
研究(摘要) 严超雄 张秉有 137
J—081J79合金在真空感应炉冶炼中气体变化规律的 137
研究(摘要) 严超雄 张秉有 137
J—10钛熔炼技术的进展(摘要) 江河 138
J—12空心阴极的运行条件(摘要) 李连升 138
J—11 引进真空冶金设备的运行情况(摘要) 陈玉文 138
J—10钛熔炼技术的进展(摘要) 江河 138
J—11 引进真空冶金设备的运行情况(摘要) 陈玉文 138
J—12空心阴极的运行条件(摘要) 李连升 138
J—14真空冶金非标准设备研究与实践(摘要) 唐秉生 张先声 139
J—13蜂窝状阴极在冶金电子束炉上的进展(摘要) 冷志 139
J—13蜂窝状阴极在冶金电子束炉上的进展(摘要) 冷志 139
J—14真空冶金非标准设备研究与实践(摘要) 唐秉生 张先声 139
J—15真空技术的某些进展(摘要) 马 元 王树理 140
J—16φ300/L1000真空自耗电弧炉……吕玉静邬国亨 曹大明 钟挹秀 140
冶金部钢铁研究总院 140
J—16φ300/L1000真空自耗电弧炉……吕玉静邬国亨 曹大明 钟挹秀 140
冶金部钢铁研究总院 140
J—15真空技术的某些进展(摘要) 马 元 王树理 140
J—17调整工艺参数对真空自耗重熔锭熔池深度影响的研究 143
周兴铮 祁国策 潘京一 钢铁研究总院 143
周兴铮 祁国策 潘京一 钢铁研究总院 143
J—17调整工艺参数对真空自耗重熔锭熔池深度影响的研究 143
周兴铮 祁国策 潘京一 钢铁研究总院 147
J—18真空自耗重熔工艺参数对熔池形状影响的数模研究 147
周兴铮 祁国策 潘京一 钢铁研究总院 147
J—18真空自耗重熔工艺参数对熔池形状影响的数模研究 147
B—01氮氧化硅薄膜研究 俞诚 151
B—01氮氧化硅薄膜研究 俞诚 151
※ ※ ※ 151
※ ※ ※ 151
B—02磁泡坡莫合金薄膜元件的离子束刻蚀 刘殿臣忻国平 153
B—02磁泡坡莫合金薄膜元件的离子束刻蚀 刘殿臣忻国平 153
B—03射频溅射Ni—Fe合金薄膜磁阻特性的研究 杜荣浚黄青青 156
B—03射频溅射Ni—Fe合金薄膜磁阻特性的研究 杜荣浚黄青青 156
B—04铬薄膜干法刻蚀特性探讨 严金龙沈国雄 158
B—04铬薄膜干法刻蚀特性探讨 严金龙沈国雄 158
B—05光电导性不同的两类α—Si:H膜 海字涵 周忠毅 160
B—05光电导性不同的两类α—Si:H膜 海字涵 周忠毅 160
B—06分子束外延GaAs薄膜及其性能研究 孔梅影 孙殿照 162
B—06分子束外延GaAs薄膜及其性能研究 孔梅影 孙殿照 162
B—07分子束外延GaAs掺Se 孔梅影D.A.Andrews,G.J.Davies 165
B—07分子束外延GaAs掺Se 孔梅影D.A.Andrews,G.J.Davies 165
B—08真空制备聚对二甲苯薄膜 阎桂兰 169
B—08真空制备聚对二甲苯薄膜 阎桂兰 169
B—09微波功率晶体管多层金属化电极系统中的接触层 蔡克理 172
B—09微波功率晶体管多层金属化电极系统中的接触层 蔡克理 172
B—10非晶硅薄膜的性能及制备工艺 丹锋唐 梁 174
B—10非晶硅薄膜的性能及制备工艺 丹锋唐 梁 174
B—11用SIMS分析磷硅玻璃中磷的外迁移 王化文 杨存安 176
B—11用SIMS分析磷硅玻璃中磷的外迁移 王化文 杨存安 176
B—12薄膜制备过程中的残余气体的动态特性 庞叔鸣张秀贤 179
B—12薄膜制备过程中的残余气体的动态特性 庞叔鸣张秀贤 179
B—13多碱阴极的V—I特性 薛增泉刘惟敏 182
B—13多碱阴极的V—I特性 薛增泉刘惟敏 182
B—14α—SlxC1-x:H薄膜光电性能的研究 陈光华 张仿清 186
B—14α—SlxC1-x:H薄膜光电性能的研究 陈光华 张仿清 186
B—15氮分压对空心热阴极离子镀TiN涂层相结构及 188
性能影响的研究 陈宝清 朱英臣 188
性能影响的研究 陈宝清 朱英臣 188
B—15氮分压对空心热阴极离子镀TiN涂层相结构及 188
B—16通氧反应离子镀ITO透明导电薄膜 金昭廷谢淑云 192
B—16通氧反应离子镀ITO透明导电薄膜 金昭廷谢淑云 192
B—17氧化铯薄膜的光学性质 李建平 吴全德 195
B—17氧化铯薄膜的光学性质 李建平 吴全德 195
B—18银—氧化铯薄膜的光学性质 李建平 吴全德 198
B—18银—氧化铯薄膜的光学性质 李建平 吴全德 198
B—19离子镀铝膜组织形貌与相结构的研究 陈宝清 朱英臣 200
B—19离子镀铝膜组织形貌与相结构的研究 陈宝清 朱英臣 200
B—20蒸发薄膜的精细监测 薛大同 魏向荣 203
B—20蒸发薄膜的精细监测 薛大同 魏向荣 203
B—21真空镀铝 韩耀文李大明 207
B—21真空镀铝 韩耀文李大明 207
B—22一种控制MBE装置中分子束恒定的方法 姜祥祺 209
B—22一种控制MBE装置中分子束恒定的方法 姜祥祺 209
B—23钛粉涂层表面处理 邹常荣 212
B—23钛粉涂层表面处理 邹常荣 212
B—24离子束刻蚀机中有害污染物的控制 黄良甫 李守忠 214
B—24离子束刻蚀机中有害污染物的控制 黄良甫 李守忠 214
B—25用平面磁控溅射法制备Ti—Mo—Au膜的A uger分析 许汴生 218
B—25用平面磁控溅射法制备Ti—Mo—Au膜的A uger分析 许汴生 218
B—26用等离子体增强TiN的化学气相沉积 李世直 222
B—26用等离子体增强TiN的化学气相沉积 李世直 222
B—27微波等离子体对聚合物粘接的效应 李世直 226
B—27微波等离子体对聚合物粘接的效应 李世直 226
B—28 HCD法涂敷氮化钛设备 朴元柯 229
B—28 HCD法涂敷氮化钛设备 朴元柯 229
B—29沉积温度对ITO薄膜性质的影响 奚中和 杨大同 233
B—29沉积温度对ITO薄膜性质的影响 奚中和 杨大同 233
B—30空心阴极电子枪的设计 钱三德 236
B—30空心阴极电子枪的设计 钱三德 236
B—31离子镀膜应用实例(摘要) 张殿飞 243
B—31离子镀膜应用实例(摘要) 张殿飞 243
B—32真空连续蒸镀装置 张殿飞 244
B—32真空连续蒸镀装置 张殿飞 244
B—33在椭圆仪上应用双入射角法测定真空沉积膜的膜厚 严樟根 246
B—33在椭圆仪上应用双入射角法测定真空沉积膜的膜厚 严樟根 246
B—34磁控溅射硅整流器欧姆接触层研究 王丽红 252
B—34磁控溅射硅整流器欧姆接触层研究 王丽红 252
B—35薄膜技术发展的新动向 李仲君 254
B—35薄膜技术发展的新动向 李仲君 254
B—36石英晶体天平在研制中微子质量测量源中的应用(摘要) 杜鸿善 257
B—36石英晶体天平在研制中微子质量测量源中的应用(摘要) 杜鸿善 257
B—37真空镀膜技术的发展趋势(摘要) 张宗侠 258
B—37真空镀膜技术的发展趋势(摘要) 张宗侠 258
B—38钒膜的制备及其超导转变温度 郑家祺 261
B—38钒膜的制备及其超导转变温度 郑家祺 261
B—39磁控溅射技术在超硬膜方面的应用研究 王怡德 264
B—39磁控溅射技术在超硬膜方面的应用研究 王怡德 264
B—41 ITO薄膜制备气氛的研究 奚中和 杨大同 270
B—41 ITO薄膜制备气氛的研究 奚中和 杨大同 270
B—42氮化钛仿金装饰膜层分析 杨永康 273
B—42氮化钛仿金装饰膜层分析 杨永康 273
B—43 KD—500,KD—700高真空多层光学镀膜机 陈丽芳 林权昌 279
B—43 KD—500,KD—700高真空多层光学镀膜机 陈丽芳 林权昌 279
B—45用磁控反应溅射方法制备ITO薄膜(摘要) 李文天 283
B—44仿金离子镀氮化钛装饰膜工艺及其膜层性能(摘要) 沈月英等 283
B—45用磁控反应溅射方法制备ITO薄膜(摘要) 李文天 283
B—44仿金离子镀氮化钛装饰膜工艺及其膜层性能(摘要) 沈月英等 283
B—46超硬膜的应用与发展(摘要) 王怡德 284
B—47超导交叉膜隧道结的电流—电压滞回(摘要) 张裕恒 陈莺飞 284
B—47超导交叉膜隧道结的电流—电压滞回(摘要) 张裕恒 陈莺飞 284
B—46超硬膜的应用与发展(摘要) 王怡德 284
(I),双结SQUID(摘要) 张裕恒李玉芝 285
B—49在—个磁通量子内dc JoSeph5on电流的阶梯效应 285
B—48超导弱连接的电压磁场关系(I),L=0的情况(摘要) 285
张裕恒王军 285
(I),双结SQUID(摘要) 张裕恒李玉芝 285
B—49在—个磁通量子内dc JoSeph5on电流的阶梯效应 285
张裕恒王军 285
B—48超导弱连接的电压磁场关系(I),L=0的情况(摘要) 285
B—50低能离子束溅射形成的碳膜(摘要) 程世昌徐在贵 286
B—50低能离子束溅射形成的碳膜(摘要) 程世昌徐在贵 286
B—51低能离子束直接淀积形成透明碳膜(摘要) 徐在贵 彭友贵 286
B—51低能离子束直接淀积形成透明碳膜(摘要) 徐在贵 彭友贵 286
B—53真空蒸发薄膜的微结构及潮气吸附(摘要) 唐晋发 顾培夫 287
B—53真空蒸发薄膜的微结构及潮气吸附(摘要) 唐晋发 顾培夫 287
B—52 ZnO薄膜的磁控溅射生长与择优取向(摘要) 吕美安赵明洲 287
B—52 ZnO薄膜的磁控溅射生长与择优取向(摘要) 吕美安赵明洲 287
B—54低温溅射生长AIN薄膜的微观结构与宏观性质 288
(摘要) 何华辉 龙兴武 288
(摘要) 何华辉 龙兴武 288
B—55 复合磁性—介质—磁性层状单晶薄膜的连续外延生长 288
(摘要) 李兴教徐则川 288
B—54低温溅射生长AIN薄膜的微观结构与宏观性质 288
B—55 复合磁性—介质—磁性层状单晶薄膜的连续外延生长 288
(摘要) 李兴教徐则川 288
B—56非晶硅薄膜瞬态响应时间的光谱特性(摘要) 289
海宇涵 周忠毅 289
B—57二氧化钛光学薄膜理化特性研究(摘要) 赵书文王淑荣 289
B—57二氧化钛光学薄膜理化特性研究(摘要) 赵书文王淑荣 289
海宇涵 周忠毅 289
B—56非晶硅薄膜瞬态响应时间的光谱特性(摘要) 289
B—59膜厚测量仪的量程扩展(摘要) 李仲君 290
B—58射频溅射介质薄膜性能与基片的关系(摘要) 白淑华邱荣方 290
B—58射频溅射介质薄膜性能与基片的关系(摘要) 白淑华邱荣方 290
B—59膜厚测量仪的量程扩展(摘要) 李仲君 290
B—60真空镀膜设备的现状和发展趋势(摘要) 孙天半 291
B—61 非均匀磁场E型电子枪光学镀膜机(摘要) 付绍英廖燕南 291
B—62低能大面积离子束技术的发展和应用(摘要) 黄良甫 291
B—62低能大面积离子束技术的发展和应用(摘要) 黄良甫 291
B—61 非均匀磁场E型电子枪光学镀膜机(摘要) 付绍英廖燕南 291
B—60真空镀膜设备的现状和发展趋势(摘要) 孙天半 291
B—63 PMS—380平面磁控管溅射的试验研究(摘要) 292
宦鸿信 王龙超 沈元君孙又君 292
B—64离子镀膜综述(摘要) 张殿飞 292
宦鸿信 王龙超 沈元君孙又君 292
B—63 PMS—380平面磁控管溅射的试验研究(摘要) 292
B—64离子镀膜综述(摘要) 张殿飞 292
B—65收口式空心阴极的试验研究(摘要) 高汉三等 293
Z—23 几种超高真空泵残余气体成份探讨 胡昌官 293
补 遗 293
Z—23 几种超高真空泵残余气体成份探讨 胡昌官 293
补 遗 293
B—65收口式空心阴极的试验研究(摘要) 高汉三等 293
Z—24 微量检漏技术在电子管生产中的应用 邵力为 刘南昌 赵晓东 294
Z—25 功率行波管内残余气体分析 邵力为 万宝騑 吴诚安 294
Z—25 功率行波管内残余气体分析 邵力为 万宝騑 吴诚安 294
Z—24 微量检漏技术在电子管生产中的应用 邵力为 刘南昌 赵晓东 294
W—30用场发射显微镜对钨的单个晶面吸附现象的研究……………巩运明 项柏松张洪滨等6人 295
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- 《王蒙文集 新版 35 评点《红楼梦》 上》王蒙著 2020
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- 《王蒙文集 新版 37 评点《红楼梦》 下》王蒙著 2020
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- 《凯恩斯文集 第13卷 社会、政治和文学论集》严忠志译 2018
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- 《东方杂志 第155册 第32卷 第二十一至二十四号 1935年11月-1935年12月》上海书店出版社编 2012
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