当前位置:首页 > 工业技术
半导体器件物理基础
半导体器件物理基础

半导体器件物理基础PDF电子书下载

工业技术

  • 电子书积分:11 积分如何计算积分?
  • 作 者:李素珍,丁辛芳编
  • 出 版 社:北京:高等教育出版社
  • 出版年份:1983
  • ISBN:15010·0518
  • 页数:267 页
图书介绍:
《半导体器件物理基础》目录

目录 1

第一篇 半导体物理基础 1

第一章 半导体中的电子状态 1

§1-1原子中电子状态的描述 2

§1-2半导体的晶体结构 6

§1-3半导体能带的形成 8

1-3-1半导体中电子的运动及其能量状态 8

1-3-2金属、半导体和绝缘体 11

§1-4本征半导体和杂质半导体 14

1-4-1本征半导体的导电机构 14

1-4-2杂质半导体 17

1-4-3杂质补偿 20

§1-5载流子的统计分布 22

1-5-1半导体中电子按能量的分布 23

1-5-2本征半导体中的费米能级和载流子浓度 26

1-5-3杂质半导体中的费米能级和载流子浓度 29

1-5-4关于费米能级的小结 32

复习思考题 34

第二章 载流子的漂移、复合和扩散 36

§2-1半导体中载流子的迁移率 36

2-1-1载流子的迁移率 36

2-1-2载流子的漂移速度和载流子的散射 39

§2-2电导的分析 42

2-2-1欧姆定律的微分形式 42

2-2-2半导体的电阻率 44

2-2-3半导体的电导率与温度的关系 45

2-2-4强电场下的电导现象 47

§2-3非平衡载流子及其复合 49

2-3-1非平衡载流子的注入和准费米能级 49

2-3-2非平衡载流子的复合 51

§2-4非平衡载流子的扩散 56

2-4-1非平衡载流子的扩散 57

2-4-2非平衡状态时半导体的电中性问题 60

2-4-3载流子扩散方程 61

复习思考题 65

第二篇 结型半导体器件 66

第三章 PN结和半导体二极管 66

§3-1平衡PN结 66

3-1-1PN结空间电荷区的形成 66

3-1-2能带图 68

3-1-3内建电势差VD 70

§3-2势垒区内电荷、电场和电势的分布 71

§3-3PN结电流-电压特性 75

3-3-1外加正向电压 76

3-3-2外加反向电压 80

3-3-3PN结伏安特性 83

3-3-4正向PN结电流成分的分析 90

§3-4PN结电容 92

3-4-1PN结电容的物理本质 92

3-4-2势垒电容和扩散电容 93

§3-5PN结的击穿 96

3-5-1雪崩击穿 97

3-5-2齐纳击穿 98

§3-6PN结的温度特性 99

§3-7半导体二极管 101

3-7-1半导体二极管的小信号等效电路 101

3-7-2半导体二极管的电路符号、分类 105

复习思考题 106

第四章 半导体三极管 107

§4-1概述 107

§4-2三极管的放大作用 108

4-2-1基区宽度W很薄是三极管具有放大作用的内部条件 110

4-2-2共基极直流电流放大系数? 111

4-2-3共发射极直流电流放大系数? 115

§4-3半导体三极管的工作状态及其?的定量分析 116

4-3-1三极管的工作状态 116

4-3-2能带图和载流子浓度分布图 117

4-3-3定量分析共基极直流电流放大系数? 119

4-3-4用基区少子浓度分布曲线统观三个端电流、两个结电压 123

§4-4三极管端电流数学模型——Ebers-Moll模型 126

§4-5三极管伏安特性曲线及其物理解释 130

4-5-1共基极伏安特性曲线 131

4-5-2共发射极伏安特性曲线 135

§4-6三极管的参数 143

4-6-1反向电流 143

4-6-2极限参数 146

4-6-3三极管的温度特性 149

§4-7小信号等效电路 150

4-7-1共发射极混合Ⅱ型等效电路 150

4-7-2小信号等效电路中的各参数 152

4-7-3三极管的频率响应 157

§4-8三极管的电流放大系数和特征频率与集电极电流的关系 161

4-8-1?随Ic的变化 161

4-8-2fT随Ic的变化 170

复习思考题 171

第五章 结型场效应晶体管 173

§5-1结型场效应晶体管的结构和工作原理 173

§5-2结型场效应晶体管的特性曲线 176

§5-3导致场效应晶体管电流饱和的机理 181

§5-4结型场效应晶体管的电参数 184

复习思考题 187

第三篇 表面效应和表面控制器件 188

第六章 半导体表面 188

§6-1表面空间电荷区的特性 188

§6-2MIS结构的电容-电压特性 198

6-2-1MIS电容 198

6-2-2NIS电容与栅压和频率的依赖关系 200

6-2-3绝缘层中电荷和金属-半导体功函数差对平带电压的影响 204

复习思考题 207

§7-1MOS场效应晶体管结构和工作原理 208

7-1-1MOS场效应晶体管的结构 208

第七章 MOS场效应晶体管 208

7-1-2MOS场效应晶体管的工作原理 209

7-1-3实际MOS场效应晶体管的四种类型 210

§7-2MOS场效应晶体管的特性曲线 212

7-2-1输出特性曲线和转移特性曲线 213

7-2-2四种类型MOS场效应晶体管的特性曲线 218

§7-3MOS场效应晶体管的参数 221

7-3-1MOS场效应晶体管的直流参数 221

7-3-2MOS场效应晶体管的低频小信号参数及等效电路 223

7-3-3MOS场效应晶体管的高频特性 225

复习思考题 227

第八章 电荷耦合器件 229

§8-1CCD的工作原理 229

8-1-1单个MOS场效应晶体管的深耗尽状态和少子贮存作用 229

8-1-2三相CCD的传输原理 232

§8-2CCD的基本参数 235

§8-3CCD的应用 237

附1-1-1变容二极管及其基本特性 239

附录1-1变容二极管 239

附录 239

附录1 几种特种器件的简介 239

附1-1-2变容二极管的主要参数 241

附录1-2肖特基势垒二极管 243

附1-2-1肖特基势垒 243

附1-2-2伏安特性 244

附1-2-3等效电路 249

附录1-3隧道二极管 249

附1-3-1隧道二极管 249

附1-3-2P+N+结的隧道效应 251

附1-3-3隧道二极管的工作原理 253

附录2 半导体工艺 257

附录2-1几种重要的工艺 257

附录2-2两种典型半导体器件的工艺流程 258

附录2-3集成电路中的隔离 263

主要参考文献 267

相关图书
作者其它书籍
返回顶部