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硅超大规模集成电路工艺技术  理论、实践与模型
硅超大规模集成电路工艺技术  理论、实践与模型

硅超大规模集成电路工艺技术 理论、实践与模型PDF电子书下载

工业技术

  • 电子书积分:22 积分如何计算积分?
  • 作 者:(美)普卢默(Plummer,J.D.)
  • 出 版 社:北京:电子工业出版社
  • 出版年份:2003
  • ISBN:7505386387
  • 页数:818 页
图书介绍:本书是美国斯坦福大学电气工程系“硅超大规模集成电路制造工艺”课程所使用的教材,该课程是为电子工程系微电子学专业的四年级本科生及一年级研究生开的一门专业课。本书最大的特点是,不仅详细介绍了与硅超大规模集成电路芯片生产制造相关的实际工艺技术,而且还着重讲解了这些工艺技术背后的科学原理。特别是对于每一步单项工艺技术,书中通过工艺模型的引入和工艺模拟软件的使用,非常形象直观地给出了实际工艺过程的物理图像。同时还对每一步单项工艺技术所要用到的测量方法做了详细的介绍,对于工艺技术与工艺模型的未来发展趋势,也做了必要的分析讨论。另外本书每一章后面都附有相关内容的参考文献,同时还附有大量的习题。
《硅超大规模集成电路工艺技术 理论、实践与模型》目录

第1章 引言及历史展望 1

第2章 现代CMOS工艺技术 49

第3章 晶体生长、晶圆片制造及硅晶圆片的基本特性 93

第4章 半导体生产——洁净室、晶圆片清洗与吸杂 151

第5章 光刻 201

第6章 热氧化及硅/二氧化硅界面 287

第7章 杂质扩散 371

第8章 离子注入 451

第9章 薄膜淀积 509

第10章 刻蚀 609

第11章 后道工艺技术 681

附录 787

索引 805

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