基于脉冲激光沉积富硼B-C薄膜的关键技术研究PDF电子书下载

第1章 导论 1

1.1 激光惯性约束核聚变 2

1.1.1 激光惯性约束核聚变技术 2

1.1.2 激光惯性约束核聚变靶丸材料 4

1.2 B-C系列材料 5

1.2.1 B-C系列材料的晶体结构 5

1.2.2 B-C系列材料的研究现状 8

1.2.3 B-C系列薄膜的研究现状 10

第2章 富硼B-C陶瓷的制备、结构分析与成分控制 13

2.1 引言 13

2.2 实验与测试 14

2.2.1 实验原料 14

2.2.2 实验设计与工艺过程 14

2.2.3 测试方法 15

2.3 B-C系列陶瓷靶材的烧结致密化 16

2.3.1 B-C陶瓷烧结体的致密度分析 16

2.3.2 B-C陶瓷的物相分析 17

2.3.3 B-C陶瓷的显微结构分析 23

2.4 不同配比B-C陶瓷靶材的制备与成分控制 27

2.4.1 不同配比B-C陶瓷的物相结构分析 27

2.4.2 不同原子比B-C陶瓷的显微结构分析 28

2.4.3 B-C陶瓷的化学组成分析与成分控制 30

2.4.4 硼、碳原子的化学结构分析 31

第3章 采用B-C陶瓷靶的富硼B-C薄膜脉冲激光沉积 35

3.1 引言 35

3.2 实验与测试 36

3.2.1 实验原料 36

3.2.2 实验设计与工艺过程 36

3.2.3 测试方法 39

3.3 富硼B-C薄膜的脉冲激光沉积工艺研究 41

3.3.1 脉冲激光能量对薄膜沉积质量的影响 41

3.3.2 靶-基距对薄膜沉积质量的影响 46

3.4 B-C薄膜的成分研究 49

3.4.1 B-C薄膜的化学组成分析与成分控制 49

3.4.2 硼、碳原子的化学结构研究 50

第4章 采用B-C拼合靶的富硼B-C薄膜脉冲激光沉积 53

4.1 引言 53

4.2 实验与测试 54

4.2.1 实验原料 54

4.2.2 实验设计与工艺过程 55

4.2.3 测试方法 57

4.3 B-C拼合靶的脉冲激光沉积工艺研究 58

4.3.1 基板温度对薄膜沉积质量的影响 58

4.3.2 靶材自转速度对薄膜沉积质量的影响 64

4.4 B-C薄膜的成分分析与控制 65

4.4.1 B-C薄膜的化学组成分析与成分控制 65

4.4.2 硼、碳原子的化学结构分析 66

4.5 B-C拼合靶的脉冲激光沉积过程分析 68

4.5.1 脉冲激光沉积技术 68

4.5.2 脉冲激光烧蚀靶材过程分析 69

4.5.3 脉冲激光烧蚀产生等离子体的膨胀行为分析 71

4.5.4 等离子体羽辉边界的求解 75

4.5.5 B-C薄膜中原子比的理论计算 77

本书总结 81

参考文献 83