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离子注入与分析基础
离子注入与分析基础

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工业技术

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  • 作 者:王贻华,胡正琼编
  • 出 版 社:北京:航空工业出版社
  • 出版年份:1992
  • ISBN:7800464245
  • 页数:181 页
图书介绍:
《离子注入与分析基础》目录

第一章 绪论 1

1-1 离子注入学科的作用和意义 1

1-2 国内外离子束研究概况 2

1-3 离子注入技术的特点 4

第二章 离子注入装置的物理基础 6

2-1 概述 6

2-2 基本工作原理 7

第三章 离子与固体相互作用的物理基础 17

3-1 离子与固体相互作用的基本概念 17

3-2 粒子弹性碰撞 19

3-3 离子与固体表面的相互作用 26

第四章 注入离子的射程分布理论 30

4-1 非晶靶中的射程分布理论 30

4-2 单晶靶中的射程分布理论 37

附录4-1 离子注入投影射程表 43

第五章 离子注入材料分析方法(Ⅰ) 52

5-1 离子注入材料分析概述 52

5-2 二次离子质谱技术(SIMS) 53

5-3 背散射能谱技术(RBS) 60

5-4 核反应分析法(NRA) 73

5-5 质子激发X荧光分析技术(PIXE) 78

附录5-1 串列加速器 85

6-1 俄歇电子能谱分析(AES) 86

第六章 离子注入材料分析方法(Ⅱ) 86

6-2 X射线衍射结构分析(XRD) 90

6-3 电子显微镜分析(TEM、SEM) 94

6-4 电子自旋共振技术(ESR) 100

6-5 正电子湮没技术(PAT) 104

第七章 金属物理基础 117

7-1 金属的电子理论 117

7-2 金属的结构 120

7-3 合金的结构 123

7-4 金属和合金中的扩散 126

7-5 固态相变 130

附录7-1 周期表中部分元素的晶体结构、原子直径及核外电子分布总表 135

第八章 金属材料的离子束改性 136

8-1 金属离子注入的基本效应 136

8-2 金属材料离子束改性的方法及特点 138

8-3 金属材料离子束改性的原理及应用实例 142

8-4 金属材料离子束改性的机理 156

第九章 功能材料的离子注入 162

9-1 半导体材料的离子注入 162

9-2 绝缘材料的离子注入 171

9-3 磁性材料的离子注入 173

9-4 光学材料的离子注入 175

9-5 超导材料的离子注入 176

参考文献 180

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