第一章 薄层电阻测试结构及其应用 1
§1.1薄层电阻测试结构的基本原理 1
目录 1
§1.2四端十字形测试结构 6
§1.3薄层电阻测试结构的测试方法 14
§1.4六种薄层电阻测试结构测量结果的比较 16
§1.5薄层电阻测试结构的应用实例 23
§1.6测量体电阻率的平面四探针测试结构 28
§2.1掩模套准误差的分析 36
第二章 掩模套准测试结构 36
§2.2掩模套准测试结构 42
§2.3掩模套准误差测试实例 47
第三章 金属—半导体接触电阻测试结构 56
§3.1接触电阻和接触电阻率 56
§3.2接触电阻测试结构 58
§3.3平面接触和传输线模型 61
§3.4铝—硅和铝—多晶硅接触电阻测量结果一例 69
§3.5单窗口测试结构在工艺控制中的应用实例 74
§4.1用于工艺分析及评价的随机缺陷测试结构 79
第四章 随机缺陷测试结构 79
§4.2硅栅CMOS/SOS工艺的分析和评价 82
§4.3最佳设计规则 90
§4.4类存储器随机缺陷测试结构 94
第五章 MIS结构在半导体工艺检测中的应用 100
§5.1MIS结构表面场效应简述 100
§5.2MIS结构在工艺检测中的应用 104
§5.3MIS结构C-V技术中应注意的几个问题 114
第六章 集成栅控二极管测试结构 122
§6.1栅控二极管 122
§6.2集成栅控二极管测试结构 129
第七章 栅控晶体管和四极晶体管测试结构 138
§7.1栅控晶体管的特性分析 138
§7.2栅控晶体管试验实例 141
§7.3用四极晶体管区分表面复合和体内复合 147
§7.4用四极管测量发射区下基区的薄层电阻及预示器件的可靠性 152
第八章 测试结构参数的自动测量系统 156
§8.1四探针二方位自动测试 156
§8.2探卡与测试图形压点的标准化 158
§8.3测试图形参数自动测量的计算机控制 164
附录 168