第一章 成膜技术 1
1-1 概述 1
1-2 真空蒸发镀膜 1
1-3 溅射镀膜 10
1-4 离子成膜法 21
1-5 化学气相沉积 25
1-6 分子束外延制膜法 32
1-7 化学溶液镀膜法 34
1-8 膜厚的测量与监控 38
1-9 膜厚分布的计算 46
习题与思考题 52
第二章 薄膜的生长过程及结构 53
2-1 薄膜生长过程及其分类 53
2-2 成核理论 57
2-3 溅射薄膜与外延薄膜的生长特性 62
2-4 薄膜的结构与缺陷 63
2-5 影响薄膜结构的因素 66
2-6 非晶态薄膜 67
习题与思考题 69
第三章 薄膜的电性能 70
3-1 连续金属薄膜的电导 70
3-2 非连续金属薄膜的电导 84
3-3 介质薄膜 94
3-4 超导体薄膜 105
习题与思考题 110
第四章 薄膜的光学性能 111
4-1 薄膜光学的基本理论 111
4-2 薄膜光学性能的测量 117
4-3 介质膜的反射率 119
4-4 增透膜与反射膜 124
4-5 薄膜波导与集成光学 127
习题与思考题 130
第五章 薄膜的机械性能和磁学性能 131
5-1 薄膜的附着力 131
5-2 薄膜的内应力 136
5-3 薄膜的硬度 143
5-4 薄膜的磁性能 144
习题与思考题 149
第六章 半导体薄膜 150
6-1 半导体的光激发效应 150
6-2 半导体的特征长度及其薄膜的特性 153
6-3 单晶和非晶半导体薄膜 160
6-4 半导体薄膜特性的测量法 161
6-5 半导体薄膜的应用 165
6-6 光刻与腐蚀技术 168
习题与思考题 177
第七章 薄膜的表面与界面 179
7-1 表面界面特征与现象 179
7-2 吸附机理与吸附膜的形成机理 185
7-3 表面扩散与界面扩散 191
7-4 界面电气现象 194
7-5 界面接触效应 197
7-6 薄膜中的电迁移现象 203
习题与思考题 204
主要参考文献 206