目录 1
第1章 高分辨电子显微方法的基础 1
1.1 透射电子显微镜的原理 1
1.2 电子散射和傅里叶变换 3
1.3 高分辨电子显微像的形成 4
1.3.1 薄膜试样的高分辨电子显微像 4
1.3.2 电子显微镜的分辨率 8
1.3.3 厚试样的高分辨电子显微像 10
1.4 高分辨电子显微像的计算机模拟 11
1.4.1 程序的构成和输入的参数 12
1.4.2 在考虑晶格缺陷和吸收时的计算机模拟 13
1.4.3 程序的检查 14
参考文献 16
第2章 高分辨电子显微方法的实践 17
2.1 高分辨电子显微像的种类 17
2.1.1 晶格条纹 17
3．合金、金属间化合物 18
Fe73.5CuNb3Si13.5B9 18
2.1.2 一维结构像 19
2.1.3 二维晶格像 20
2.1.4 二维结构像 22
本书刊载的（各类材料的）高分辨电子显微像一览表（页码） 23
本表采用各种材料的习惯表示方法来表示材料的组成。另外，当不能确切表示组成时，用短线将构成元素连接起来表示。1．陶瓷SiC 23
2.1.5 特殊的像 24
Si3N4 25
2.2.1 像观察前的注意事项 28
2.2 高分辨电子显微镜观察 28
2.2.2 像观察时的注意事项 29
2.2.3 拍摄像的选择 32
2.2.4 像解释时的注意事项 34
2.2.5 高分辨电子显微镜观察的练习 35
参考文献 36
第3章 高分辨电子显微方法的应用 37
3.1 晶格缺陷、表面和界面的高分辨电子显微像 37
3.1.1 位错 37
专栏一览表（页码） 39
金属间化合物——耐热材料 39
CoTi 44
3.1.2 晶界和相界面 46
2．半导体 48
Si 40,41,42,46, 48
Fe3Al 49
CVD-Si3N4 50
HIP-Si3N4-SiC 50
CVD-SiC 51
倾斜晶界和∑值 53
Ni3(Al,Ti) 43, 54
Bi-Sr-Ca-Cu-O 19, 55
Sm-Co 57, 58
Al-Si(wSi＝20％)-Ni(wNi＝1％) 60
CVDSi3N4-TiN 61
3.1.3 表面 62
TlBa2CaCu2O7 65
TlBa2Ca3Cu4O11 8, 66
Pb2Sr2Y0.5Ca0.5Cu3O8 66
a-Fe2O3 67
3.1.4 其他结构缺陷 68
EMT型沸石 69
LTL型沸石 69
Nb-O-F 71
Nb2O5 72
3.2.1 陶瓷 73
3.2 各种物质的高分辨电子显微像 73
WO3-1/8Ta2O5 74
WO3-1/4Ta2O5 75, 76
3.2.2 超导氧化物 77
Si3N4-SiC 78, 79
ZrO2 80
ZrO2-Al2O3（φAl2o3＝24％） 82
Al2O3-ZrO2（φZro2＝24％） 63,81, 83
4．无机化合物 85
YBa2Cu3O7 45,65, 85
3.2.3 有序合金 87
超导氧化物最初观察的情况 87
表示合金晶体结构的符号 88
Tl2Ba2Ca3Cu4O12 89
Tl2Ba2CaCu2O8 89
Sm2CuO4 91
Au-Cd(xCd＝24.0％) 94
Au-Mn(xMn＝22.6％) 95
Cu-Au(xAu＝41.0％) 98
Cu-Au(xAu＝50.0％) 99
Au-Mn(xMn＝20.7％) 101
3.2.4 准晶 102
Ni-Mo(xMo＝20.1％) 103
Au-Cd(xCd＝30.5％) 105
Au-Cd(xCd＝32.0％) 104, 105
Al80Mn20 110
Al70Pd20Mn10 113
Al74Mn20Si6 111, 113
Al-Li-Cu 114
Al72Pd18Cr10 114
Al3Mn 116
Al70Pd13Mn17 115, 116
参考文献 120
4.1.1 高分辨电子显微像的输入和输出 123
4.1 图像处理 123
第4章 高分辨电子显微方法的周边技术 123
4.1.2 高分辨电子显微像图像处理的实践 125
Ga0.5In0.5P 127, 128
4.2 定量解析 133
4.2.1 新记录系统的原理 133
4.2.2 新的图像记录系统的特性 134
4.2.3 用残差指数解析高分辨电子显微像 137
Tl2Ba2CuO6 39,86, 137
4.3 电子衍射方法 141
4.3.1 电子衍射方法的基础 141
4.3.2 电子衍射方法的实际操作 143
4.3.3 各种结构及其电子衍射花样的特征 145
菊池花样 147
4.4.1 弱束方法的原理和特点 149
4.4 弱束方法 149
4.4.2 弱束像的观察程序 150
4.5 电子显微镜性能的评价 151
4.5.1 电子显微镜基本参数的评价 151
4.5.2 电子显微镜分辨率的评价 156
4.6 试样制备方法 157
4.6.2 电解减薄方法 158
4.6.1 粉碎方法 158
4.6.4 超薄切片方法 159
4.6.3 化学减薄方法 159
4.6.5 离子减薄方法 160
4.6.6 聚焦离子束方法 161
4.6.7 真空蒸涂方法 162
参考文献 163
附录 165
附录1 物理常数、换算系数和电子波长等 165
附录2 晶体几何学关系 166
附录3 材料的典型结构和电子衍射花样 167
附录4 傅里叶变换的性质 176
附录5 波函数相位的处理 179
附录6 关于部分相干性 180
参考文献 180
索引 181