第一章 薄膜技术基础 1
1 薄膜及其特征 1
2 薄膜的形成 2
3 薄膜的力学性质 9
4 薄膜的电导 18
5 金属薄膜中的电迁移 25
6 介质薄膜 27
第二章 真空蒸发镀膜 31
1 真空的获得与测量 31
2 真空蒸发镀膜原理 36
3 蒸发源 42
4 蒸发源的发射特性和膜厚分布 51
5 一般蒸镀技术 56
6 特殊蒸镀技术 57
7 真空蒸发镀膜机 64
第三章 真空溅射镀膜 68
1 溅射镀膜的特点 68
2 溅射理论 68
3 溅射产额及选择溅射 71
4 溅射原子能量和角度的统计分布 79
5 反应溅射 80
6 薄膜形成过程中的几个问题 82
7 溅射镀膜方式 84
第四章 其他物理气相淀积方法 94
1 真空离子镀膜技术 94
2 离子束淀积技术 106
3 分子束外延生长 109
第五章 化学气相淀积技术 116
1 化学气相淀积技术原理、反应方式和特点 116
2 化学气相淀积所使用材料 120
3 化学气相淀积装置 122
4 常压化学气相淀积（APCVD） 125
5 低压化学气相淀积（LPCVD） 136
6 等离子增强化学气相淀积（PECVD） 142
7 有机金属化学气相淀积（MOCVD） 146
8 光化学气相淀积（光CVD） 148
第六章 薄膜图形形成技术 151
1 光刻掩模版的制做 151
2 光刻法 152
3 干法刻蚀 154
4 掩蔽法 160
5 剥离法（反向刻蚀法） 162
第七章 薄膜技术应用 164
1 薄膜技术在温度敏感元件中的应用 164
2 薄膜技术在磁敏元件中的应用 169
3 薄膜技术在湿敏元件中的应用 173
4 薄膜技术在气敏元件中的应用 174
5 薄膜技术在力敏元件中的应用 176
6 薄膜技术在半导体器件中的应用 177
7 薄膜技术在电子元件中的应用 179
8 薄膜技术在机械工业中的应用 182
9 塑料基片上薄膜技术的应用 186
10 薄膜技术在光电器件中的应用 188
11 信息、计算机工业中的薄膜技术 190
第八章 薄膜检测 193
1 薄膜厚度的检测 193
2 薄膜的形貌和结构检测 201
附录：基片 212