1.1 电子光学特征 1
1 电子光学 1
1.2 轴对称电场中的电子运动 5
1.3 电透镜 10
1.4 磁透镜 20
1.5 实用磁透镜 28
1.6 静电透镜与磁透镜的比较 31
2 电子束技术基础 32
2.1 电子束的产生及性质 33
2.2 电子枪概述 44
2.3 强流电子枪设计基础 47
2.4 电子束蒸发沉积 73
3.1 等离子体基本性质 81
3 离子束物理基础 81
3.2 等离子体的分类 88
3.3 等离子体的获得 90
3.4 低温等离子体中粒子运动和放电基本过程 92
3.5 离子束与材料表面的相互作用 108
4 强流轴向电子枪 116
4.1 概述 116
4.2 轴向电子枪基本结构和工作原理 117
4.3 轴向电子束发生系统设计计算 119
4.4 电子光路系统设计计算 133
4.5 枪室真空系统设计 144
4.6 电子枪的调试 145
4.7 强流轴向枪电源设计 146
4.8 电子枪X射线的形成与屏蔽防护 150
5 偏转电子枪 163
5.1 电子束流磁偏转理论基础 163
5.2 偏转电子枪工作原理与结构 165
5.3 偏转枪（e型枪）参数设计 175
5.4 偏转电子枪束流设计计算 180
5.5 压差孔的设计 189
5.6 电子枪头的安装与调试 195
5.7 偏转电子枪电源 199
6 空心阴极放电（HCD）电子枪 203
6.1 空心阴极放电效应 203
6.2 空心阴极电子枪工作原理 210
6.3 空心阴极电子枪设计参数 212
6.4 HCD枪中等离子体的离化率与电流形成 215
6.5 偏转电磁场的设计计算 218
6.6 空心阴极与辅助阳极的设计 230
6.7 离子镀中等离子源的束流偏转 235
7 离子束技术 237
7.1 离子源 237
7.2 离子注入技术 254
7.3 离子束沉积技术 261
8 S枪离子溅射源的设计基础 266
8.1 S枪的基本原理与结构 266
8.2 S枪溅射源结构设计 267
8.3 S枪磁控溅射的工作特性 270
8.4 基本参数的设计计算 276
参考文献 283