《大规模集成电路专用设备研讨暨学术交流会论文选 中》PDF下载

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  • 出 版 社:
  • 出版年份:1984
  • ISBN:
  • 页数:74 页
图书介绍:

光刻 1

参观84年美国半导体设备和材料展览会 1

JK—1型接近式光刻机图形传递特性分析 3

国外分步重复投影光刻机(DSW系统)动态 15

1∶1扫描投影光刻机实验气浮导轨 23

适用于微细投影曝光的自动调焦调平系统 31

“环带校正板”在接近/接触式光刻机照明系统中的应用 36

国外光刻机的发展趋势 44

测试 47

掩模质量和质量检测 47

其他 56

干法腐蚀终点检测综述 56

集成电路专用设备ZPZ——1型自动芯片粘结机 65

高速、多相、高精度、程控时钟发生器 69

报道 74

为集成电路光学专用设备的发展献计献策——研究讨论暨学术交流会情况 74