目 录 2
一、单晶与单晶片加工设备类 2
单晶控制设备 2
TDR-60型 单晶炉 2
TDR-40型 单晶炉 7
L4316Ⅱ-1/ZF型 高压单晶炉 11
切片设备 14
QP-3型 立式内圆切片机 14
J50422A/YN型 立式内圆切片机 16
J5075ⅡB/YN型 立式内圆切片机 19
J5040-1型 卧式内圆切片机 22
研磨设备 25
J58670/ZF型 大直径研磨机 25
DM9410型 双面磨片机 28
C6268-Ⅱ/YJ型 四动精密研磨机 31
C65820/YJ型 单面减薄机 34
抛光设备 37
J5875/YN型 二氧化硅乳液抛光机 37
DM9610型 二氧化硅乳液抛光机 40
C63305/YJ型 二氧化硅乳液抛光机 43
H7875-2型 二氧化硅乳液抛光机 45
C6377I/YJ型 掩膜版抛光机 48
其它设备 51
J58100/YN型 硅片倒角机 51
J3575/YN型 硅片粘片机 54
C61305/YJ型 硅片粘片机 57
制版设备 63
H94-21/ZM型 自动刻（绘）图机 63
二、制版、光刻、涂胶、清洗设备类 63
PB系列 数控平面绘图机 66
HB-71GJ型 中型数控绘图机 69
TSH-1型 图型数字化仪 72
H94-25/ZM型 感应式图形数字化仪 73
GS-335型 宽幅初缩照相机 76
H93-4/YL型 高精度缩微重复照相机 79
JS-3型 精缩照相机 82
H93-2/YL型 光栅定位四头分步重复照相机 85
ZFJ-1-5型 分步重复精缩机 88
ZLJS-75型 分步重复精缩机 91
FB-1型 精密接触式翻版机 94
YF-3型 掩膜版复印机 97
H94-4/YL型 掩膜版复印机 100
TF-KS1型 多功能图形发生器 103
25HZ型 图形发生器 106
TF-2型 图形发生器 108
光刻设备 111
DB-3型 电子束曝光机 111
JKG-2A型 光刻机 114
GK-4型 半自动光刻机 117
KHA75-1型 半自动接近／接触式光刻机 119
H94-19型 全自动曝光机 122
H94-18型 半自动曝光机 125
H94-17型 φ100mm大面积手动曝光机 128
1Q型 远紫外光刻机 132
4Q型 1：1投影光刻机 135
ZGK-50型 投影光刻机 137
JK-1型 半自动接近／接触式光刻机 141
H9450/ZK型；H9450A/ZK型 光刻机 144
JT-2型 净化涂胶台 147
匀胶、显影设备 147
H52-1/YN型 超净匀胶台 150
GK100-T/X型 净化涂胶／显影机 153
H52-3/ZF型 自动匀胶机 156
H95-3/ZF型 自动显影机 158
L36180/ZF型 远红外烘干炉 161
SW-CJ-9B型 匀胶（洁净工作）台 164
刻蚀、去胶设备 165
H46100型 离子束刻蚀机 165
LK-1型 离子束刻蚀机 168
LK-2型 离子束刻蚀机 172
LSK-500型 离子束刻蚀机 175
H67-2/ZM型 平板式等离子刻蚀机 178
PBKS-1型 平板式等离子刻蚀机 181
DK-P200型 平板式等离子刻蚀机 184
H67-1/ZM型 等离子刻蚀机 187
DLKS-1型 等离子刻蚀机 190
H69-1/ZM型 等离子去胶机 193
GP02-QJ4型 等离子去胶设备 196
H60-1/ZF型 高压水擦片机 199
清洗设备 199
JCJ-1型 净化擦片机 202
GCJ-75-1型 高压冲洗机 203
82S01型 硅片清洗机 204
JFQ-75型 硅片清洗机组 207
BCQ-3型 超声波清洗机 211
三、外延、化学气相沉积、氧化、扩散及离子注入设备类 217
外延设备 217
L4114Ⅱ-1A/ZM型 微控外延炉 217
YW-Ⅰ型 液相外延炉 221
YW-Ⅱ型 液相外延炉 224
化学气相沉积设备 227
L41950-1/ZM型 低压化学气相淀积设备 227
DD-500型 等离子淀积台 231
P-1型 低压等离子增强化学气相淀积设备 234
L-3型 低压化学气相淀积设备 236
LPCVD-1B型 低压化学气相淀积设备 239
H20-1型 氮化硅低温淀积台 242
DD-P250型 氮化硅低温淀积台 245
FD-120型 低压化学气相淀积设备 248
FD-200型 等离子CVD设备 250
FD-130型，FD-131型 低压化学气相淀积设备 252
氧化扩散设备 254
CKL-1A型 全程序控制管式炉 254
MCDS Ⅰ 20-1型 微型计算机控制全功能扩散系统 258
L4513Ⅱ-12/ZM型 高温扩散炉 261
L4513Ⅱ-32/RZQ型 高温扩散炉 264
L4512ⅡB/YN型 高温扩散炉 267
GK-5型 高温扩散炉 270
L4513Ⅱ-22/RZQ型 高温扩散炉 273
GK-4C型 高温扩散炉 276
L4513Ⅱ-9/ZM型 高温扩散炉 279
L4511Ⅱ-32/RZQ型 低温扩散炉 282
D07-2/ZM型 质量流量控制器 286
离子注入及电子束退火设备 287
LC-3型425keV离子注入机 287
J59200B/ZK型 中能离子注入机 290
LC-2A型 200keV离子注入机 294
J59200/Z M型 200keV离子注入机 297
DT-1型 电子束退火机 300
H44500-13型 无油超高真空镀膜机 304
四、蒸发及溅射设备类 304
蒸发镀膜设备 304
H44500-1型 无油超高真空镀膜机 307
CWD-500型 全无油超高真空镀膜机 310
H44500-5型 超高真空镀膜机 313
H44700型 箱式真空镀膜机 316
KZD-700型 电子束镀膜机 319
DMF-700型 电子束镀膜机 322
H44500-12型 四坩埚电子束镀膜机 325
H44500-11型 三坩埚电子束镀膜机 328
DMP-450型 电子束镀膜机 331
H44500C型 真空镀膜机 334
溅射设备 337
H46500-3型 双室磁控溅射设备 337
JCK-500型 磁控溅射台 340
PMS-500型 磁控溅射台 343
H44500-9型 磁控溅射台 345
H46500-1型 回旋靶磁控溅射台 347
H46500型 射频溅射台 350
JS-450A型，JS-450D型 射频溅射设备 353
D21-6/ZM型 扩展电阻测试仪 358
五、检测设备及仪器类 358
材料参数检测仪器 358
D41-6/ZM型 半导体杂质浓度分布测试仪 359
D22-12/ZM型 电荷积分仪 361
D41-7/ZM型 非接触测厚仪 363
D41-4型 四探针测试仪 365
STZ-1型 数字式方形四探针仪 367
掩膜检测仪器 369
JZQ-1型 平面度测试仪 369
PJ-1型 平整度检查仪 371
6Q型 数字式测量显微镜 372
7Q型 比较测量显微镜 374
8Q型 干涉相衬显微镜 375
中间测试仪器 376
TZ-3A型 自动多探针 376
TZ-3型 自动多探针 378
TZ-4型 自动多探针 380
D44-8/ZM型 多头半自动探针中测台 381
（MC-6800微型机控制） 382
D47-3/Z M型TTL电路测试系统 382
成品测试设备 382
D47-4/Z M型 C MOS集成电路测试台 384
（JS-10A计算机控制） 384
D47-2/Z M型TTL中规模集成电路测试台 386
（JS-10A计算机控制） 386
其它测试仪器 388
D9113Ⅱ/ZM型 温度分布曲线测量仪 388
P18-1/ZM型 导线可焊性测试仪 390
SW-CJ-1B型 通用洁净工作台 394
洁净工作台 394
六、净化设备类 394
TC系列 通用洁净工作台 396
TS系列 通用洁净工作台 399
CJ-1B型 通用洁净工作台 400
JJT-1型，JJT-2型 通用双人洁净工作台 401
SZX-ZP-1型 通用洁净工作台 404
SW-CJ-2A型，SW-CJ-2B型 扩散洁净工作台 405
CJ-5A型 扩散洁净工作台 407
SZX-KS型 扩散洁净工作台 408
SZX-TJ型 匀胶洁净工作台 409
SW-CJ-4B型 清洗洁净工作台 410
CJ-6型 清洗洁净工作台 411
SZX-QX型 清洗洁净工作台 412
SW-CJ-7A型 光刻洁净工作台 413
CJ-4型 光刻洁净工作台 414
SZX-GK型 光刻洁净工作台 415
JJG-1型 洁净储存柜 416
层流罩 418
TTZ型 吊式洁净层流罩 418
JJQ-1型 吊式单元洁净层流罩 419
JJQ-3型 立式单元洁净层流罩 420
空气净化单元 421
SW-CJ-5B型 空气净化单元 421
JJQ-2型 空气净化单元 422
SZX-DY型 空气净化单元 423
风淋室 424
FL-1型 风淋通道 424
FL-3型 风淋室 425
FL-2型 风淋室 426
TH-CL-902型 风淋室 428
JZS型，JZC型 系列洁净室 429
洁净室 429
CJK型，SJK型 系列洁净室 430
JS-CZ型 系列洁净室（铝型材结构） 434
JJS-4型，JJS-8型 洁净室 436
JJS-20型 洁净室 438
CLJ型 系列洁净室 440
SZX-ZP型 系列洁净室 442
TH-CSH-A型，TH-CSH-B型 系列洁净室 443
Y09-3/ZM型 尘埃粒子计数器 444
尘埃粒子计数器 444
Y09-4型 尘埃粒子计数器 446
Y09-1型 尘埃粒子计数器 448
超纯水终端处理装置 450
CS-Z0.5型 超纯水终端后处理装置 450
SZ-1型 超纯水终端后处理装置 453
CL-300系列 超滤装置 455
超纯气处理装置 457
DC-4型 氮气纯化装置 457
YC-1B型 氧气纯化装置 460
B-1610/ZM型 大流量氢气纯化装置 463
MQC-5型 氢气纯化装置 465
CH-5型 氢气纯化装置 467
B162/ZM型 氢气纯化装置 469
Y79-1/ZM型 直读式露点仪 471
ZDC20-13/V型 氮气终端净化装置 472
QCZ5-5/V型 氢气终端净化装置 473
划片、粘结等设备 476
J51120/ZF型 自动划片机 476
七、后部工艺设备类 476
J51100/ZF型 砂轮划片机 479
XD-1型 选择（局部）镀金机 483
T66-1/ZF型 芯片粘接机 485
超声键合、热压焊设备 488
P10Ⅲ5/ZF型 无尾丝超声键合机 488
P10-1/ZF型 超声金丝球焊机 491
P105-1型 超声金丝球焊机 494
WKQH型 金丝球焊机 496
JWYH-1型 微型电路热压球焊机 499
GPJ3-100型 高频介质加热机 501
封装设备 501
GP3.5-J1型 高频介质预热设备 503
L530/YN型 立式高频预热炉 506
Y14型 塑料封装模具 508
C45-4/YN型 12吨预成形机 509
YCX-12型 12吨预成形机 511
C45-1/YN型 20吨塑料封装机 514
C45-2/YN型 30吨塑料封装机 517
C45-50/YN型 50吨塑料封装机 520
C45-3/YN型 83吨塑料封装机 523
T41-1/ZE型 激光封装焊接机 526
PFJ-2型 平行缝焊机 527
烧结设备 529
L4660I/YN型 氮氢链式烧结炉 529
80S08型 气体保护链式炉 531
L4611Ⅱ-D/RZQ型 卧式真空烧结炉 534
其它设备 537
L903型 框架加热器 537
J933/YN型 气动压力机 538
D732A型 半自动打印机 540
Y70002/YF型 0.02m3高低温试验设备 543
八、环境模拟可靠性试验设备类 543
温度、压力试验设备 543
Y70Ⅲ25/YF型 2.5L半导体低温试验设备 545
Y70Ⅲ6/YF型 6L半导体低温试验设备 548
Y70005/YF型 0.05m3高低温试验设备 550
Y7001F/YF型 0.1m3低温试验设备 552
Y7001D/YF型 0.1m3高低温试验设备 554
Y7002H/YF型 0.2m3高低温试验设备 557
YW7002F/YF型 0.2m3低温试验设备 559
Y70200型 高低温试验设备 561
Y70021B/YF型 自动温度变化试验设备 564
Y6050-2型 高低温低压试验设备 567
Y7120型 低气压试验设备 569
力学试验设备 571
Y512/ZF型 30kgf电动振动台 571
D-10型 电动振动台 574
Y515/ZF型45kgf电动振动台 576
Y505-1/ZF型 5kg机械振动台 579
Y53200/ZF型 3kg×5离心式恒加速度试验机 582
Y5310ⅡⅡ/ZF型 105kg离心式恒加速度试验机 585
Y512/ZF型 1kg单次冲击试验台 588
潮湿、霉菌试验设备 590
Y61320型 潮热试验设备 590
Y7210型 交变湿热试验设备 592
YW-1201型 气流式盐雾腐蚀试验箱 595
MJ-910型 霉菌试验箱 597
老化设备 599
P82-43/ZM型 线性集成电路老化台 599
P82-41/ZM型 数字电路老化台 600
D42300A/ZK型 台式扫描电子显微镜 604
九、理化分析仪器类 604
DX-3型 台式扫描电子显微镜 607
DXB 2-12型 电子显微镜 609
XQF-2型 图象分析显微镜 611
Y21/ZK型 红外电视显微镜 613
GFU-201型 双光束原子吸收光谱仪 616
3200型 原子吸收分光光度计 618
7400型 红外分光光度计 621
910型 双光束荧光分光光度计 622
WFZ800-S型 双波长紫外可见光光度计 623
XYS-2型 X射线衍射仪 624
SP-2308型 气相色谱仪 627
TA-1型 自动伏安仪 628
883型 笔录极谱仪 629
75-4B型 快速极谱仪 630
ZCX-2型 柱层分析仪 631
十、附录 634
附录一 光学仪器 634
附录二 光学高温计 636
附录三 天平 637
附录四 烘箱 638
附录五 有关通用洁净工作台 639
附录六 光度计 640
附录七 色谱仪 641
附录八 液相色谱仪 643
附录九 大规模集成电路管芯制造工艺流程 644
附录十 超大规模集成电路管芯制造工艺流程 644
附录十一 有关文字符号对照表 645
附录十二 研制、生产单位地址 646