第1章 真空技术基础 1
1.1 真空的基本知识 1
1.2 稀薄气体的性质 4
1.3 真空的获得 9
1.4 真空的测量 21
习题 30
第2章 真空蒸发镀膜 32
2.1 真空蒸镀原理 32
2.2 蒸发加热方式及蒸发源 37
2.3 真空蒸镀工艺 42
2.4 真空蒸镀应用举例 42
习题 48
第3章 分子束外延生长 49
3.1 分子束外延的原理及特点 49
3.2 分子束外延设备 50
3.3 MBE生长 53
3.4 MBE方法制备的材料及其器件应用 57
习题 59
第4章 溅射镀膜 60
4.1 溅射镀膜的特点 60
4.2 溅射的基本原理 61
4.3 溅射特性 67
4.4 溅射原子的能量分布和角分布 75
4.5 溅射过程 79
4.6 溅射方法 82
4.7 溅射镀膜的实例 98
习题 110
第5章 激光脉冲沉积 111
5.1 激光脉冲沉积镀膜原理 111
5.2 工艺参数对PLD镀膜质量影响 112
5.3 脉冲激光沉积的优缺点 113
5.4 脉冲激光沉积的种类及应用 114
习题 120
第6章 离子镀和离子束沉积 121
6.1 离子镀 121
6.2 几种典型的离子镀方式 130
6.3 离子束沉积 137
6.4 应用实例 143
习题 145
第7章 化学气相沉积 146
7.1 CVD沉积基本原理 147
7.2 常用的化学气相沉积方法 160
7.3 CVD应用镀膜实例 173
习题 176
第8章 原子层沉积（ALD）镀膜 177
8.1 ALD的原理 177
8.2 ALD的技术特征及优点 179
8.3 ALD的种类 182
8.4 ALD的应用举例 186
习题 190
第9章 溶液镀膜法 192
9.1 电镀技术 192
9.2 化学镀 193
9.3 溶胶-凝胶（Sol-Gel）法 194
9.4 阳极氧化法 195
9.5 LB技术 197
9.6 溶液镀膜法应用举例 200
习题 202
第10章 自组装膜 203
10.1 自组装技术 203
10.2 自组装单分子膜 205
10.3 层层自组装多层膜 209
10.4 自组装膜制备的影响因素 211
10.5 自组装膜的表征 213
10.6 自组装膜应用 214
习题 215
参考文献 217