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薄膜技术与应用
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工业技术

  • 电子书积分:10 积分如何计算积分?
  • 作 者:冯丽萍,刘正堂编
  • 出 版 社:西安:西北工业大学出版社
  • 出版年份:2016
  • ISBN:9787561247396
  • 页数:222 页
图书介绍:本书内容包括各向同性均匀和非均匀、各向异性均匀和非均匀、吸收和导电层状介质薄膜反射和透射特性计算;增透膜、高反射膜、带通滤光片、截止滤光片、带阻滤光片和分光镜的膜系构成、特性描述及其应用;物理气相沉积、化学气相沉积和液相沉积薄膜制备方法原理,以及光学薄膜检测技术。最后在光学薄膜材料一章给出了一些金属薄膜、半导体薄膜和介质薄膜制备实例。
《薄膜技术与应用》目录

第1章 真空技术基础 1

1.1 真空的基本知识 1

1.2 稀薄气体的性质 4

1.3 真空的获得 9

1.4 真空的测量 21

习题 30

第2章 真空蒸发镀膜 32

2.1 真空蒸镀原理 32

2.2 蒸发加热方式及蒸发源 37

2.3 真空蒸镀工艺 42

2.4 真空蒸镀应用举例 42

习题 48

第3章 分子束外延生长 49

3.1 分子束外延的原理及特点 49

3.2 分子束外延设备 50

3.3 MBE生长 53

3.4 MBE方法制备的材料及其器件应用 57

习题 59

第4章 溅射镀膜 60

4.1 溅射镀膜的特点 60

4.2 溅射的基本原理 61

4.3 溅射特性 67

4.4 溅射原子的能量分布和角分布 75

4.5 溅射过程 79

4.6 溅射方法 82

4.7 溅射镀膜的实例 98

习题 110

第5章 激光脉冲沉积 111

5.1 激光脉冲沉积镀膜原理 111

5.2 工艺参数对PLD镀膜质量影响 112

5.3 脉冲激光沉积的优缺点 113

5.4 脉冲激光沉积的种类及应用 114

习题 120

第6章 离子镀和离子束沉积 121

6.1 离子镀 121

6.2 几种典型的离子镀方式 130

6.3 离子束沉积 137

6.4 应用实例 143

习题 145

第7章 化学气相沉积 146

7.1 CVD沉积基本原理 147

7.2 常用的化学气相沉积方法 160

7.3 CVD应用镀膜实例 173

习题 176

第8章 原子层沉积(ALD)镀膜 177

8.1 ALD的原理 177

8.2 ALD的技术特征及优点 179

8.3 ALD的种类 182

8.4 ALD的应用举例 186

习题 190

第9章 溶液镀膜法 192

9.1 电镀技术 192

9.2 化学镀 193

9.3 溶胶-凝胶(Sol-Gel)法 194

9.4 阳极氧化法 195

9.5 LB技术 197

9.6 溶液镀膜法应用举例 200

习题 202

第10章 自组装膜 203

10.1 自组装技术 203

10.2 自组装单分子膜 205

10.3 层层自组装多层膜 209

10.4 自组装膜制备的影响因素 211

10.5 自组装膜的表征 213

10.6 自组装膜应用 214

习题 215

参考文献 217

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