第1章 薄膜的特征 1
1.1 薄膜的定义 1
1.2 表面效应 2
1.3 薄膜的结构和缺陷 3
第2章 真空技术基础 8
2.1 真空的基本概念 8
2.2 气体的动力学描述 10
2.3 气体的流动与抽气 12
2.4 真空的获得 15
2.5 真空的测量 20
第3章 等离子体技术基础 23
3.1 等离子体的基本概念 23
3.2 等离子体的分类 25
3.3 低温等离子体的产生 27
第4章 薄膜的物理气相沉积 37
4.1 蒸发沉积 37
4.2 溅射沉积 47
4.3 离子束沉积 54
4.4 脉冲激光沉积 56
第5章 化学气相沉积 58
5.1 热化学气相沉积 58
5.2 等离子体化学气相沉积 59
5.3 高密度等离子体化学气相沉积 61
5.4 其他化学气相沉积 65
第6章 膜厚和沉积速率的测量 68
6.1 光学法 69
6.2 天平法 78
6.3 电学方法 81
6.4 表面粗糙度仪法 82
第7章 低介电常数薄膜材料 84
7.1 低介电常数材料的研究背景 84
7.2 碳基低介电常数薄膜 87
7.3 硅基低介电常数薄膜 90
7.4 SiCOH多孔（超）低介电常数材料的制备与性能 94
第8章 氧化锌薄膜材料 97
8.1 氧化锌薄膜的特性和用途 97
8.2 氧化锌薄膜的制备和光致发光谱 98
第9章 钛酸锶钡铁电多层薄膜 103
9.1 铁电多层薄膜的研究意义 103
9.2 Ba TiO3/Ba0.6Sr0.4TiO3多层薄膜的介电增强效应 104
9.3 界面对BaTiO3/SrTiO3多层膜的介电学性质的影响 108
9.4 多层膜的铁电性能 111
第10章 硅基颗粒复合发光薄膜 113
10.1 硅基发光材料研究的意义及历史 113
10.2 硅基颗粒复合发光薄膜的制备 115
10.3 Si-SiO2和Ge-SiO2薄膜的光致发光和电致发光特性 116
参考文献 123