产业专利分析报告 第62册 全息技术PDF电子书下载

第1章 绪论 1

1.1 研究背景 1

1.2 技术分解 2

1.3 研究方法 4

1.3.1 数据库选用 4

1.3.2 数据处理方式 4

1.3.3 数据范围 6

1.3.4 数据质量评估 7

1.4 相关事项和约定 8

第2章 全息技术全球专利申请分析 9

2.1 全息存储 9

2.1.1 全球专利申请 9

2.1.2 申请趋势分析 9

2.1.3 申请区域分布分析 10

2.1.4 申请人分析 11

2.2 全息检测 13

2.2.1 全球专利申请分析 13

2.2.2 专利布局国家或地区分析 14

2.2.3 申请人分析 14

2.2.4 申请类型、法律状态和技术构成分析 16

2.3 全息显示 18

2.3.1 全球专利申请 18

2.3.2 申请量趋势分析 19

2.3.3 主要申请人 19

2.3.4 全球被引证数专利分析 20

2.4 全息光学元件 21

2.4.1 全球专利态势分析 21

2.4.2 日本专利态势分析 25

2.5 全息防伪 33

2.5.1 专利申请趋势分析 33

2.5.2 首次申请国家或地区分析 33

2.5.3 申请人分析 34

2.5.4 申请类型及法律状态分析 34

2.6 小结 36

第3章 全息技术中国专利申请分析 38

3.1 全息存储 38

3.1.1 专利申请趋势分析 38

3.1.2 申请人分析 38

3.1.3 申请类型和法律状态分析 39

3.1.4 中国国内申请人分析 39

3.2 全息检测 40

3.2.1 专利申请趋势分析 40

3.2.2 区域申请分析 41

3.2.3 国内和国外申请人分析 42

3.2.4 申请类型和法律状态分析 47

3.2.5 中国专利续费／放弃趋势 49

3.3 全息显示 49

3.3.1 专利申请趋势分析 49

3.3.2 主要申请人中国申请法律状态 49

3.4 全息光学元件 52

3.4.1 发展趋势分析 52

3.4.2 专利类型 53

3.4.3 法律状态 54

3.4.4 申请人区域分析 58

3.4.5 主要申请人分析 61

3.4.6 主要发明人分析 65

3.5 全息防伪 66

3.5.1 专利申请分析 66

3.5.2 国内省市专利分析 67

3.5.3 申请人分析 68

3.5.4 申请类型及法律状态分析 69

3.5.5 技术分支分析 69

3.6 小结 70

第4章 全息存储重点技术分析 71

4.1 概况 71

4.1.1 技术背景 71

4.1.2 全息存储概念和产业概况 71

4.1.3 全息存储技术发展历程 72

4.2 基础专利技术 77

4.2.1 离轴光路 77

4.2.2 同轴光路 79

4.2.3 微全息技术 81

4.3 重点专利介绍 81

4.3.1 光源 81

4.3.2 记录结构 82

4.3.3 中间光学元件 83

4.3.4 伺服控制 84

4.3.5 存储材料 89

4.3.6 数据处理 90

4.3.7 复制方法 91

4.3.8 盒体结构 92

4.4 ECMA标准 92

4.5 小结 94

第5章 全息检测重点技术分析 95

5.1 技术概况 95

5.2 全息显微 96

5.2.1 总体分析 96

5.2.2 技术发展路线 98

5.2.3 技术功效分析 104

5.2.4 早期基础性专利分析 110

5.2.5 重点专利 113

5.3 小结 116

第6章 全息显示重点技术分析 117

6.1 “全息”概念的误用-舞台表演、AR/MR、其他 117

6.2 三维全息显示技术 120

6.3 全息显示的演进 123

6.4 重点专利介绍 123

6.4.1 计算全息 123

6.4.2 光源 125

6.4.3 光路设计 127

6.4.4 追踪元件设计 131

6.4.5 SLM设计 133

6.4.6 针对特殊应用设计 134

6.5 小结 134

第7章 全息光学元件重点技术分析 135

7.1 技术概况 135

7.1.1 全息光学元件与传统光学元件的区别和联系 135

7.1.2 全息光学元件的主要分类 136

7.1.3 全息光学元件的理论发展脉络 137

7.1.4 全息光学元件的制作材料 138

7.2 中国专利技术分析 139

7.2.1 功效分析 139

7.2.2 中国重点专利 149

7.3 日本专利技术分析 163

7.3.1 技术分支分析 163

7.3.2 日本重点专利 167

7.4 全球重点专利分析 169

7.5 小结 171

第8章 全息防伪重点技术分析 173

8.1 概念 173

8.2 技术发展 173

8.2.1 第一代激光模压全息图像防伪技术 173

8.2.2 第二代改进型激光全息图像防伪技术 174

8.2.3 第三代加密全息图像防伪技术 174

8.2.4 第四代激光全息防伪技术 175

8.3 重点专利 177

8.3.1 纸币或证件防伪 177

8.3.2 防伪纸或防伪标识 184

8.3.3 防伪设备及相关技术改进 189

8.3.4 微全息图的结构 190

8.4 小结 193

第9章 主要申请人技术分析 194

9.1 全息存储 194

9.1.1 INPHASE 194

9.1.2 OPTWARE 199

9.1.3 通用电气 202

9.1.4 索尼 204

9.1.5 日立 208

9.1.6 青岛泰谷光电工程 212

9.2 全息显示 213

9.2.1 SEEREAL 213

9.2.2 LG 217

9.2.3 三星 221

9.2.4 京东方 224

9.2.5 小结 226

9.3 全息防伪 227

9.3.1 中国印钞造币总公司 227

9.3.2 泰宝集团 228

9.3.3 湖北联合天诚 231

9.3.4 大日本印刷 233

9.3.5 凸版印刷 236

9.3.6 德国捷德 237

第10章 主要申请人的专利申请和运营策略 240

10.1 全息存储 240

10.1.1 INPHASE 240

10.1.2 OPTWARE 248

10.1.3 通用电气 250

10.1.4 索尼 251

10.1.5 日立 252

10.2 全息防伪 253

10.2.1 专利质押分析 253

10.2.2 专利许可分析 257

第11章 结论与建议 261

附录 申请人名称约定表 264

图索引 274

表索引 282