第三届光学干涉薄膜专题会议文集PDF电子书下载

早期的一些商用光学薄膜，一个令人兴奋的回顾 1

1 专题：光学多层膜的理论 2

Ⅰ.全介质带通滤光片的设计方法(特邀) 2

Ⅱ.模拟四分之一波长膜层 6

Ⅲ.利用高低折射率的极薄膜层设计膜系 10

Ⅳ.在一台小型计算机上执行大型薄膜设计程序 14

Ⅴ.光学滤光器综合设计的新数学方法 16

2 专题：应用在短波区的多层膜(特邀) 17

Ⅰ 波长在1埃处的波动光学 17

Ⅱ.中子波干涉膜(特邀) 20

Ⅲ.多层光学膜的x光检验 24

Ⅳ.远紫外层状微结构膜的综合分析技术 28

3 专题：薄膜器件(Ⅰ) 29

Ⅰ 激光膜(特邀) 29

Ⅱ.大功率多波长激光偏振器的设计 30

Ⅲ 消偏振截止滤光片(Ⅱ) 34

Ⅳ.四分之一波长薄膜延迟片 37

Ⅴ.不退色的彩色幻灯片 40

Ⅵ.具有扩展高反射带的紫外介质多层膜 42

Ⅶ.2000—3000A紫外干涉滤光 48

用于光刻蚀的涂层(特邀) 52

4 专题：薄膜器件(Ⅱ) 52

Ⅱ.用于红外器件的耐磨损，减反射的硬碳膜层 55

Ⅲ.硬碳膜的化学健，物理性质及光学应用 58

Ⅳ.光学上应用的氧化铟一氧化锡薄膜(特邀) 60

Ⅴ.TiO2/Ag/TiO2结构的导电反热膜 64

Ⅵ.透可见反红外宽带分色片的设计 67

5 专题：薄膜特性(Ⅰ) 71

Ⅰ.研究薄膜现象的各种实验方法(特邀) 71

Ⅱ.用喇曼光谱仪研究二氧化钛光学薄膜的晶相特性 73

Ⅲ 波长扫描激光比热计的研制 76

Ⅳ.利用表面干涉色目检有机单分子膜层—反射表面的最佳条件 80

Ⅴ.光学薄膜的超显微硬度的测试 84

Ⅵ.计算机控制的测量不同入射角下的反射率和透射率的分光光度仪 88

6 专题：薄膜特性(Ⅱ) 92

Ⅰ.光学膜层的光散射(特邀) 92

Ⅱ.具有非均匀介电常数粗糙表面的光散射理论 94

Ⅲ.由测量散射光的分布来确定光学表面的特性(特邀) 95

Ⅳ.怎样确定光散射与薄膜微结构及表面轮廓的关系 96

7 专题：薄膜特性(Ⅲ) 98

Ⅰ.高反射镜反射率的精确测量 98

Ⅱ 大尺寸光学元件的镀膜技术要求和测试(特邀) 103

Ⅲ 表面质量对co2激光光学元件的影响 104

Ⅳ 激光引起的薄膜初始损伤与材料性质的关系 108

Ⅴ 可见和紫外光学薄膜的特性 110

Ⅵ 薄膜的折射率及其非均匀性 112

Ⅶ 用测量反射率和透射率的方法来确定吸收膜的光学常数 113

Ⅷ 用牛顿法重新求Hadley—Dennison方程的解 116

8 专题：技术材料 117

Ⅰ 基片制备对光学涂层的影响(特邀) 117

Ⅱ 减少氟化铈薄膜中的应力 122

Ⅲ 二氧化钒光开关的涂层设计 123

Ⅳ 8—13微米波段薄膜基底滤光片 127

Ⅴ 10.6微米的陷波器(窄带截止型) 130

Ⅵ 碲化铅光学薄膜的研究 131

9 专题：结构效应 134

Ⅰ 中国光学薄膜的概况介绍 134

Ⅱ 薄膜中的结构效应 137

Ⅲ 薄膜淀积的表面平滑效应 140

Ⅳ 双折射型薄膜的淀积、特性和摸拟 143

Ⅴ 离子诱导光学薄膜中潮气的解吸 148

Ⅵ 经改进环境稳定性的多层滤光片 150

Ⅰ 离子束辅助淀积光学薄膜(特邀) 153

10 专题：淀积工艺(Ⅰ) 153

Ⅱ 在室温基片上进行镀膜的离子束工艺 158

Ⅲ 离子辅助沉积光学薄膜：低能和高能轰击 160

Ⅳ 用于离子辅助淀积光学薄膜的大面积冷阴极离子源 161

Ⅴ 等离子体促进光学干涉膜的化学汽相淀积 163

11 专题：淀积工艺(Ⅱ) 166

Ⅰ 多组分材料的溅射(特邀) 166

Ⅱ 光学干涉膜的离子簇束淀积(特邀) 167

Ⅲ 用离子束溅射改进光学干涉膜的稳定性 173

Ⅳ 用离子束溅射方法在熔石英基底上镀减反射膜 175

Ⅴ 离子束溅射的淀积参数对五氧化二钽膜光学性质的影响 176

12 专题：工艺监控 177

Ⅰ 光学薄膜淀积过程的工艺控制和自动化(特邀) 177

Ⅱ 光学镀膜自动化的综述 179

Ⅲ 用于红外光学镀膜的空自动真镀膜机 180

Ⅳ 计算机辅助光学镀膜实验室工作 185

Ⅴ 用结构摸拟法来改进薄膜设计 186

Ⅵ 用自动椭偏仪实现薄膜的沉积监控 188

Ⅶ 对称周期膜系的监控——定值法 192

Ⅷ 光学薄膜任意厚度控制方法及其误差摸拟 198