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第一章 概述 1

§1.1 发展过程 1

1.1.1 偏转角 1

1.1.2 屏幕 1

目录 1

1.1.3 管颈 2

§1.2 显像管的结构 2

1.2.1 荧光屏的制作形式 2

1.2.2 阴极的结构形式 3

1.2.3 电子枪 3

1.3.2 荧光粉 4

1.3.3 消气剂 4

§1.3 推动显像管技术进步的材料工业的发展 4

1.3.1 有机膜 4

1.2.4 防爆的型式 4

1.3.4 无磁不锈钢 5

§1.4 显像管的应用 5

第二章 电子枪 7

§2.1 电子枪的基本结构和工作原理 7

2.1.1 基本结构 7

2.1.2 工作原理 8

§2.2 对电子枪的要求 9

§2.3 电子枪的主要参量 10

2.4.1 发射系统的结构和工作原理 12

§2.4 发射系统的计算 12

2.4.2 截止电压的计算 15

2.4.3 阴极负载和调制特性 20

2.4.4 三极式发射系统的光学参数与结构尺寸的关系 37

2.4.5 四极式发射系统的光学参数与结构尺寸的关系 38

§2.5 聚焦系统 59

2.5.1 黑白显像管用静电透镜 61

2.5.2 静电透镜光学参量 61

2.5.3 静电透镜的像差 63

2.5.4 常见静电透镜的基点和球差系数 68

§2.6 漂移区 77

2.6.1 均匀同心束的扩散 77

2.6.2 显像管漂移空间中电子束的扩散 81

§2.7 电子枪的设计 82

2.7.1 设计方法 82

2.7.2 电子枪优化设计与设计实例 98

第三章 偏转线圈 105

§3.1 引言 105

§3.2 有界均匀磁场对电子束的偏转 106

3.2.1 正弦关系式及偏转中心前移公式 107

3.2.2 偏转散焦 108

3.2.3 交点轨迹的曲率半径 110

3.2.4 非线性失真 110

3.2.5 偏转灵敏度 111

3.2.6 极限管颈 111

3.3.1 偏转线圈的结构形式 112

§3.3 偏转线圈的结构及磁场分布 112

3.3.2 偏转线圈的磁场分布 113

§3.4 偏转磁场场参数的理论计算 115

3.4.1 单匝电流导线的场参数 115

3.4.2 圆弧部分场参数的求法 118

3.4.3 连续分布场参数的求法 120

§3.5 场参数的测量 123

3.5.1 测试原理 124

3.5.2 测试步骤及框图 124

3.5.3 由测量数据计算场参数的方法 125

3.5.4 计算举例 126

§3.6 三级偏转像差 128

3.6.1 理想高斯偏转 128

3.6.2 三级偏转像差 130

3.6.3 三级偏转像差系数与光栅图的关系 131

3.6.4 常枕桶场的偏转像差系数 135

§3.7 球面屏对畸变和像散的校正 139

§3.8 偏转磁场的等效均匀场处理 141

§3.9 钟形场半宽度及起迄点的确定 145

§3.10 钟形场的高斯轨迹、斜率及偏转中心的解析表达式 147

§3.11 暗角余量的确定 149

§3.12 对某一固定偏转角所需安匝数的近似确定法 151

§3.13 关于电感的近似计算 153

§3.14 偏转功率及偏转功率指数 154

§3.15 一些其他缺陷及相应的调节方法 156

§4.1 玻壳设计 159

第四章 玻壳 159

4.1.1 屏的设计 160

4.1.2 锥体的设计 171

4.1.3 锥体曲面光顺性的检验和判断 182

§4.2 玻壳应力的计算机计算 185

4.2.1 计算原理 186

4.2.2 计算步骤 195

4.2.3 计算结果及讨论 199

§4.3 玻壳应力的测量 203

4.3.1 光测弹性力学法 203

4.3.2 电阻应变仪法 206

§4.4 防爆 219

5.1.1 发光亮度 227

第五章 荧光屏 227

§5.1 荧光屏特性 227

5.1.2 光谱与色度 229

5.1.3 余辉 232

5.4.4 有机膜检验 234

5.1.4 分辨率 236

5.1.5 对比度 237

5.1.6 次级发射 238

5.1.7 稳定性 239

§5.2 玻壳清洗 240

5.2.1 清洗原理 240

5.2.2 清洗工艺 243

5.2.3 设定条件 245

5.2.4 清洗检验 246

§5.3 荧光粉层制备 247

5.3.1 荧光粉层性能 249

5.3.2 沉淀制屏原理 254

5.3.3 参量选择 257

5.3.4 沉淀工艺 269

5.3.5 荧光粉层检验 273

§5.4 有机膜涂覆 274

5.4.1 成膜机理 274

5.4.2 参量选择 276

5.4.3 涂覆工艺 281

5.5.1 荧光屏铝化作用 285

§5.5 蒸铝 285

5.5.2 铝膜特性 287

5.5.3 蒸铝的物理过程 292

5.5.4 蒸铝工艺 295

5.5.5 蒸铝质量检验 302

§5.6 荧光屏检验 303

第六章 排气和老炼 308

§6.1 玻壳去气 308

6.1.1 玻壳的表面吸附 309

6.1.2 玻壳的内部溶解 311

6.2.1 电子枪的表面吸附 312

§6.2 电子枪去气 312

6.1.3 卤素物——氟的影响 312

6.2.2 电子枪的内部溶解 313

6.2.3 零件预处理对放气量的影响 314

§6.3 阴极分解 315

6.3.1 阴极分解的机理 315

6.3.2 台下分解 317

§6.4 排气规范的制订 324

6.4.1 玻壳去气规范 324

6.4.2 阴极分解规范 326

§6.5 阴极的激活与老炼 328

6.5.1 激活与老炼的机理 329

6.5.2 规范的制订 332

6.5.3 阴极质量检查 333

第七章 寿命与可靠性 337

§7.1 影响显像管寿命的内在原因 337

7.1.1 氧化物阴极的化学物理过程 337

7.1.2 基金属材料的影响 341

7.1.3 涂层材料和结构的影响 342

7.1.4 阴极工作温度的影响 347

§7.2 显像管内的残余气体及影响 348

7.2.1 显像管内气体的来源 348

7.2.2 吸气剂对残余气体的影响 352

7.2.3 残余气体对显像管寿命的影响 357

§7.3 显像管的可靠性 361

7.3.1 显像管的失效规律 362

7.3.2 影响显像管可靠性的因素 364

7.3.3 玻璃及X射线的泄漏 365

7.3.4 玻壳强度及显像管的爆炸 367

7.3.5 高压跳火 373

7.3.6 真空卫生及影响 376

§7.4 寿命试验 379

7.4.1 加速寿命试验的理论依据 380

7.4.2 以温度为加速变量的寿命试验 385

7.4.3 实验数据的处理 387

第八章 黑白显像管和显示管的测试 391

§8.1 测试条件 391

8.2.1 亮度 393

§8.2 发光特性 393

8.2.2 发光颜色 395

8.2.3 余辉特性 398

§8.3 阴极质量 399

8.3.1 阴极发射 399

8.3.2 阴极面像 400

§8.4 聚焦质量 400

8.4.1 线宽的测量 401

8.4.2 屏幕上所能分辨的明暗交替线条总数的测量 405

§8.5 对比度 406

8.5.1 大面积对比度 407

8.5.2 细节对比度 407

§8.6 气体系数 408

第九章 显示管 410

§9.1 概述 410

§9.2 电子枪 413

9.2.1 调制特性 413

9.2.2 阴极发射密度 419

9.2.3 设计高分辨率电子枪时需考虑的问题 423

9.2.4 电子枪的设计步骤 424

§9.3 偏转线圈的偏转散焦问题 425

9.3.1 表征偏转散焦的特性常数 425

9.3.2 平面屏上的偏转散焦 428

9.3.3 偏转散焦最小的条件 430

9.3.4 消除偏转散焦的方法 432

§9.4 荧光屏面防眩技术 435

第十章 显像管和显示管的使用、故障判断及应用前景 437

§10.1 电视显像管的结构和工作原理 437

§10.2 显像管的正确使用方法 439

10.2.1 阴极、灯丝的供电问题 439

10.2.2 亮度调整与亮度调制 439

§10.3 显像管的更换 441

§10.4 故障的判断 441

§10.5 对显像管修理的补救办法 444

§10.6 显像管使用应注意的问题 445

§10.7 显像管的应用 446

附录 有关计量单位换算表 449