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超大规模集成电路先进光刻理论与应用
韦亚一著2016 年出版578 页ISBN:9787030482686光刻技术是所有微纳器件制造的核心技术。在集成电路制造中,正是由于光刻技术的不断提高才使得摩尔定律得以继续。本书覆盖现代光刻技术的重要方面,包括设备、材料、仿真(计算光刻)和工艺。在设备部分,对业界使用...
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超大规模集成电路物理设计理论与算法
徐宁等编著2009 年出版255 页ISBN:9787302208280本书根据集成电路芯片物理设计的流程,介绍集成电路物理设计中的基础数学知识、数据结构和文件格式,然后对物理设计的各个阶段进行详细的论述,包括电路系统的划分、布图规划和布局算法、网格布线算法、总体布线...
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金属-氧化物-半导体集成电路 金属-氧化物-半导体大规模集成电路的理论、设计、制造和在整体中的应用
(美)W.M.彭尼,L.劳编;清华大学电子工程系半导体车间译1977 年出版324 页ISBN: -
硅超大规模集成电路工艺技术 理论、实践与模型
(美)普卢默(Plummer,J.D.)2003 年出版818 页ISBN:7505386387本书是美国斯坦福大学电气工程系“硅超大规模集成电路制造工艺”课程所使用的教材,该课程是为电子工程系微电子学专业的四年级本科生及一年级研究生开的一门专业课。本书最大的特点是,不仅详细介绍了与硅超大...
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